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      標(biāo)簽　>　euv光刻機(jī)

      euv光刻機(jī)

      +關(guān)注2人關(guān)注

      極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，于2019年初交貨。

      文章：123個(gè) 瀏覽：15060次 帖子：0個(gè)

      euv光刻機(jī)資訊

      EUV光刻機(jī)在2020年平均價(jià)格達(dá)14億元

      EUV光刻機(jī)在2020年平均價(jià)格達(dá)14億元

      1月20日，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML（阿斯麥）公布了2020年第四季度及全年財(cái)報(bào)。

      2021-01-22 標(biāo)簽：芯片ASMLEUV光刻機(jī) 2832 0

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      當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮到10納米節(jié)點(diǎn)以下，包括開始采用的7納米制程，以及未來5納米、3納米甚至2納米制程，EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備。藉由E...

      2019-07-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ASMLEUV光刻機(jī) 2698 0

      EUV光刻機(jī)就位后仍需解決的材料問題

      對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花...

      2022-07-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV光刻機(jī) 2672 0

      ASML完成制造1nm芯片EUV光刻機(jī)

      本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)...

      2020-11-30 標(biāo)簽：芯片制造ASML 2636 0

      光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘，EUV光刻機(jī)并非是是中國半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)

      在一顆芯片誕生的過程中，光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。 說最關(guān)鍵，是因?yàn)楣饪痰膶?shí)質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片，化虛為實(shí)。說最復(fù)雜，是因?yàn)楣饪坦に囆枰?..

      2020-11-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)EUV光刻機(jī) 2614 0

      ASML為什么這么強(qiáng)大？

      數(shù)據(jù)顯示，EUV光刻機(jī)收入占ASML收入的百分比從2016年的7％增加到2020年的45％。預(yù)計(jì)到2023年，ASML公司的EUV光刻機(jī)帶來的收入將比2...

      2021-03-17 標(biāo)簽：ASMLEUV光刻機(jī) 2507 0

      只有阿斯麥能夠供應(yīng)的EUV光刻機(jī)到底有多難造?

      在制造芯片的過程中，光刻工藝無疑最關(guān)鍵、最復(fù)雜和占用時(shí)間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸，是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝，占晶圓制造耗時(shí)的40％到50％。...

      2020-10-09 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 2326 0

      三星擴(kuò)大部署EUV光刻工藝

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      2021-01-08 標(biāo)簽：臺(tái)積電晶圓EUV光刻機(jī) 2297 0

      SK海力士已開始安裝EUV光刻機(jī)，以量產(chǎn)10nm 1a DRAM

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      2021-01-20 標(biāo)簽：DRAMSK海力士EUV光刻機(jī) 2287 0

      SK海力士將首次使用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)芯片

      存儲(chǔ)芯片廠商SK海力士今天宣布，其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經(jīng)竣工，SK海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片。SK海力...

      2021-02-02 標(biāo)簽：芯片SK海力士euv光刻機(jī) 2274 0

      中芯國際EUV光刻機(jī)進(jìn)入“全面開發(fā)階段”

      中芯國際EUV光刻機(jī)進(jìn)入“全面開發(fā)階段”

      2020-12-17 標(biāo)簽：中芯國際5nmEUV光刻機(jī) 2243 0

      SK海力士與ASML簽合同：SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)

      隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，...

      2021-02-25 標(biāo)簽：SK海力士ASMLEUV光刻機(jī) 2184 0

      中芯國際8大項(xiàng)技術(shù)“進(jìn)入全面開發(fā)階段”

      恰逢新任副董事長蔣尚義到來之際，此前中芯國際的聯(lián)席CEO梁孟松鬧出了辭職風(fēng)波，有報(bào)道稱這次事件背后是中芯國際的技術(shù)路線之爭。

      2021-01-19 標(biāo)簽：中芯國際3nmEUV光刻機(jī) 2142 0

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