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euv光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。

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euv光刻機(jī)資訊

SK海力士計(jì)劃提升中國(guó)無(wú)錫工廠技術(shù)水平,推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

隨著全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的復(fù)蘇,SK海力士認(rèn)識(shí)到,為了保持市場(chǎng)地位,推出更高性能的DRAM產(chǎn)品是必要的。

2024-01-15 標(biāo)簽:DRAMSK海力士EUV光刻機(jī) 1014 0

淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識(shí) EUV光刻如何制造芯片?

大多數(shù)人沒(méi)有意識(shí)到芯片制造是國(guó)家經(jīng)濟(jì)的核心。通過(guò)閱讀您的書(shū),EUV 的開(kāi)發(fā)過(guò)程始于美國(guó)的英特爾,然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項(xiàng)關(guān)鍵的芯片...

2023-02-15 標(biāo)簽:臺(tái)積電芯片制造EUV光刻機(jī) 959 0

IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

摩爾定律還沒(méi)有結(jié)束。日媒報(bào)道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會(huì)。 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Va...

2020-12-02 標(biāo)簽:摩爾定律光刻機(jī)ASML 891 0

臺(tái)積電將籌集近43億元,大規(guī)模購(gòu)買EUV光刻機(jī)

對(duì)于科技企業(yè)來(lái)說(shuō),擁有充足的資金,才可以保證強(qiáng)勁的創(chuàng)新,而臺(tái)積電也自然明白這個(gè)道理。

2020-12-01 標(biāo)簽:臺(tái)積電euv光刻機(jī) 884 0

荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證

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荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機(jī)DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款,這將對(duì)光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)產(chǎn)生更多影...

2023-07-01 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 836 0

Zyvex Labs如何實(shí)現(xiàn)0.768nm分辨率

技術(shù)更先進(jìn),還能更快交付?于是一時(shí)間流言四起,有說(shuō)“EUV光刻機(jī)已落后”的,也有說(shuō)“我們差距又拉開(kāi)了”。所以這家名不見(jiàn)經(jīng)傳的公司做的產(chǎn)品到底怎樣?真的繞...

2022-09-27 標(biāo)簽:分辨率光學(xué)系統(tǒng)EUV光刻機(jī) 793 0

下半年全球晶圓代工業(yè)是否會(huì)重回往日輝煌呢?

2023開(kāi)年到現(xiàn)在,全球晶圓代工業(yè)不見(jiàn)了過(guò)去3年的光輝,走入了低谷,整體表現(xiàn)萎靡不振,特別是上半年,霸主臺(tái)積電的營(yíng)收同樣下滑明顯,三星電子則更加慘淡。

2023-08-15 標(biāo)簽:驅(qū)動(dòng)器晶圓IC設(shè)計(jì) 787 0

日本光刻膠巨頭JSR同意國(guó)家收購(gòu)

JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。

2023-06-27 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVEUV光刻機(jī) 768 0

郭明錤:蘋果高通3nm需求低于預(yù)期,ASML EUV訂單恐下調(diào)30%

郭明錤表示,最新調(diào)查指出,ASML可能顯著下調(diào)2024年EUV光刻機(jī)出貨量20%~30%,原因在于蘋果與高通的3nm芯片需求低于預(yù)期。目前Macbook...

2023-09-28 標(biāo)簽:macbookASMLEUV光刻機(jī) 711 0

ASML發(fā)貨第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),已成功印刷10nm線寬圖案

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全球最大光刻機(jī)巨頭阿斯麥爆雷!訂單驟降超60%

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4月17日,阿斯麥發(fā)布2024年第一季度財(cái)報(bào)。第一財(cái)季公司營(yíng)收和凈利潤(rùn)環(huán)比均出現(xiàn)大幅下滑,新增訂單更是環(huán)比下降超60%,遠(yuǎn)低于市場(chǎng)預(yù)期。

2024-04-18 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 663 0

傳光刻機(jī)巨頭ASML將離開(kāi)荷蘭 荷蘭政府尋求挽留

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2024-03-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 613 0

Aston 過(guò)程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量

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上海伯東日本 Atonarp Aston? 過(guò)程質(zhì)譜分析儀通過(guò)快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...

2023-06-20 標(biāo)簽:晶圓EUVEUV光刻機(jī) 424 0

日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機(jī)

英特爾將在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)本土研發(fā)能力。 據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月...

2024-09-05 標(biāo)簽:英特爾半導(dǎo)體EUV光刻機(jī) 168 0

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