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CIGS薄膜太陽(yáng)能電池及其制備方法

2018年01月24日 16:24 電子發(fā)燒友網(wǎng) 作者: 用戶評(píng)論(0
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前言

近年來(lái),光伏工業(yè)呈現(xiàn)加速發(fā)展的趨勢(shì),發(fā)展的特點(diǎn)是:產(chǎn)量增加,轉(zhuǎn)化效 率提高,成本降低,應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大。與十年前相比,太陽(yáng)能電池價(jià)格大幅度降低。 可以預(yù)料,隨著技術(shù)的進(jìn)步和市場(chǎng)的拓展,光電池成本及售價(jià)將會(huì)大幅下降。2010 年 以后,由于太陽(yáng)能電池成本的下降,可望使光伏技術(shù)進(jìn)入大規(guī)模發(fā)展時(shí)期。隨著技術(shù)的進(jìn)步,薄膜太陽(yáng)能電池的發(fā)展將日新月異,在未來(lái)光伏市場(chǎng)的市場(chǎng)份額將逐步提高。作為性能最好的薄膜太陽(yáng)能電池,CIGS 薄膜太陽(yáng)能電池也將迎來(lái)快速發(fā)展時(shí)期。

1、 CIGS 電池的結(jié)構(gòu)

銅錮稼硒(CIGS)薄膜太陽(yáng)能電池, 具有層狀結(jié)構(gòu), 吸收材料屬于 I -III-VI 族化合物。襯底一般 采用玻璃,也可以采用柔性薄膜襯 底。一般采用真空濺射、蒸發(fā)或者 其它非真空的方法,分別沉積多層 薄膜, 形成 P-N 結(jié)構(gòu)而構(gòu)成光電轉(zhuǎn) 換器件。從光入射層開始,各層分 別為:金屬柵狀電極、減反射膜、窗 口層(Zn0 )、過(guò)渡層(CdS)、光吸收 層(CIGS)、金屬背電極(Mo )、玻璃 襯底。經(jīng)過(guò)近 30 年的研究,CIGS 太陽(yáng)電池發(fā)展了很多不同結(jié)構(gòu)。最主要差別在于窗口材料的不同選擇。最早是用 n 型半導(dǎo)體 CdS 作窗口層,其禁帶寬度 為 2. 42eV,一般通過(guò)摻入少量的 ZnS,成為 CdZnS 材料,主要目的是增加帶隙。但是, 鍋是重金屬元素,對(duì)環(huán)境有害,而且材料本身帶隙偏窄。近年來(lái)的研究發(fā)現(xiàn),窗口層改 用 Zn0 效果更好, 帶寬可達(dá)到 3. 3eV , CdS 的厚度降到只有約 50nm, Zn0 只作為過(guò)渡層。 為了增加光的入射率,最后在電池表面蒸發(fā)一層減反膜(一般采用 MgFz ),電池的效率 會(huì)得到 1-2%的提高。 現(xiàn)在研究表明,襯底一般采用堿性鈉鈣玻璃(堿石灰玻璃),主要是這種玻璃含有金 屬鈉離子。Na 通過(guò)擴(kuò)散可以進(jìn)入電池的吸收層,這有助于薄膜晶粒的生長(zhǎng)。

CIGS薄膜太陽(yáng)能電池及其制備方法

? ? ? ?Mo 作為電池的底電極要求具有比較好的結(jié)晶度和低的表面電阻, 制備過(guò)程中要考慮的另外一個(gè)主要方面是電池的層間附著力,一般要求 Mo 層具有魚鱗狀結(jié)構(gòu),以增加上下層之 間的接觸面積;CIS/CIGS 層作為光吸收層是電池的最關(guān)鍵部分,要求制備出的半導(dǎo)體薄 膜是 p 型的,且具有很好的黃銅礦結(jié)構(gòu),晶粒大、缺陷少是制備高效率電池的關(guān)鍵;CdS 作為緩沖層, 不但能降低 i-Zn0 與 P-CIS 之間帶隙的不連續(xù)性, 而且可以解決 CIS 和 Zn0 晶格不匹配問(wèn)題;n-Zn0(AZO)作為電池的上電極,要求具有低的表面電阻,好的可見光 透過(guò)率,與 Al 電極構(gòu)成歐姆接觸;防反射層 MgFz 可以降低光在接收面的反射,提高電池的效率。i-Zn0 和 CdS 層作為電池的 n 型層,同 P 型 CIGS 半導(dǎo)體薄膜構(gòu)成 p-n 結(jié)。 吸收層 CIGS(化學(xué)式 Cu 工 nGaSe2)是薄膜電池的核心材料,屬于正方晶系黃銅礦。 具有復(fù)式晶格 ,晶格常數(shù) a=0.577nm, 作為直接帶隙半導(dǎo) c=1.154nm。 體,其光吸收系數(shù)高達(dá) 105 量 級(jí)(幾種薄膜太陽(yáng)能材料中較 高的)。禁帶寬度在室溫時(shí)是 1. 04eV,電子遷移率和空穴遷移 率分別為 3.2×102(cm2/V·S) 和 1×10 (cm2/V·S)?,F(xiàn)在真 空工藝制備的收層薄膜,一般 是多晶結(jié)構(gòu),其遷移率相對(duì)較 小,大約是 0. 1 ~20 (cm2 / V·S )??昭舛仍?1014cm-3 和 4×1020cm-3 之間, 電子濃度 在 5×1015cm-3 到 7×1020Cm13 范圍。通過(guò)摻入適量的稼以替代部分 In,形成 CuInSe2 和 CuInGa2 的固熔晶體,表示為 Cu(In1-xGax)Se2 (簡(jiǎn)稱 CIGS)}嫁的摻入會(huì)改變晶體的晶 格常數(shù),改變了原子之間的作用力。最終實(shí)現(xiàn)了材料禁帶寬度的改變,在 1. 04~1. 7eV 范圍內(nèi)可以根據(jù)設(shè)計(jì)調(diào)整,以達(dá)到最高的轉(zhuǎn)化效率。

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( 發(fā)表人:彭菁 )

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