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Vishay推出具有業(yè)內(nèi)最低RDS(on)的P溝道MOSFET

2014年01月22日 10:33 電子發(fā)燒友網(wǎng) 作者: 用戶評論(0

  2014 年 1 月22 日,賓夕法尼亞、MALVERN —— 日前,Vishay Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代號:VSH)宣布,推出具有業(yè)內(nèi)最低導(dǎo)通電阻的新款P溝道MOSFET---Si7157DP,擴充其TrenchFET? P溝道Gen III功率MOSFET。Vishay Siliconix Si7157DP在-10V和-4.5V電壓下的導(dǎo)通電阻分別低至0.0016Ω和0.0020Ω,可提高移動電子設(shè)備的效率。

  Si7157DP適用于筆記本電腦電源管理中的負載和電池開關(guān)?,F(xiàn)在的設(shè)計師承受著讓這些器件更薄更輕的壓力,這意味著要減小電池尺寸,進而縮短使用壽命。與此同時,圖形處理和Wi-Fi等功能又在增加對電池的使用,使得電源效率成為設(shè)計的首要目標(biāo)。

  Si7157DP的低導(dǎo)通電阻使設(shè)計者能夠在其電路里實現(xiàn)更低的壓降和傳導(dǎo)損耗,更有效地使用電能,并延長電池壽命,尤其是在峰值負載下,同時其小尺寸6.15mm x 5.15mm PowerPAK? SO-8封裝占位面積可節(jié)省寶貴的PCB空間。器件在峰值電流下的低壓降還提供了欠壓鎖定電平以上更大的電壓裕度,有助于防止在帶負載時下出現(xiàn)不希望的欠壓鎖定情況。

  Si7157DP進行了100%的Rg和UIS測試。MOSFET符合JEDEC JS709A的無鹵素規(guī)定,符合RoHS指令2011/65/EU。像其他Vishay Siliconix P溝道Gen III MOSFET一樣,Si7157DP采用最先進的工藝技術(shù)制造,把10億個晶體管元胞放進1平方英寸的硅片里。有關(guān)公司P溝道Gen III MOSFET的更多信息,請訪問http://www.vishay.com/mosfets/geniii-p/。

  新款P溝道MOSFET現(xiàn)可提供樣品,并已實現(xiàn)量產(chǎn),大宗訂貨的供貨周期為十二周到十六周。

  VISHAY簡介

  Vishay Intertechnology, Inc. 是在紐約證券交易所上市(VSH)的“財富1000 強企業(yè)”,是全球分立半導(dǎo)體二極管、MOSFET和紅外光電器件)和無源電子元件(電阻器、電感器電容器)的最大制造商之一。這些元器件可用于工業(yè)、計算、汽車、消費、電信、軍事、航空航天、電源及醫(yī)療市場中幾乎所有類型的電子設(shè)備和裝備。憑借產(chǎn)品創(chuàng)新、成功的收購戰(zhàn)略,以及“一站式”服務(wù)使Vishay成為了全球業(yè)界領(lǐng)先者。

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( 發(fā)表人:肖平 )

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