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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>南大光電:預(yù)計(jì)今年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)

南大光電:預(yù)計(jì)今年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)

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引言 ? 光刻膠又稱(chēng)“光致抗蝕劑”或“光阻劑”,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線(xiàn)路的加工制作,是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠光刻工藝最重要的耗材,其性能決定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:229350

華為投資光刻膠企業(yè) 光刻膠單體材料全部自供

,增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料,目前主要被日美把控,國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠(chǎng)商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等,那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì),國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商在光
2021-08-12 07:49:005380

半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營(yíng)收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國(guó)產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

領(lǐng)域進(jìn)行激烈競(jìng)爭(zhēng)的時(shí)候,中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)在國(guó)內(nèi)晶圓廠(chǎng)布局的成熟制程領(lǐng)域,展開(kāi)了新產(chǎn)品上市和量產(chǎn)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)。 ? 南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該
2022-08-31 07:45:002718

2018年中國(guó)可投產(chǎn)面板生產(chǎn)線(xiàn)將達(dá)40

2015年底,中國(guó)大陸已經(jīng)建成投產(chǎn)的面板生產(chǎn)線(xiàn)有25,其中8.5代線(xiàn)有8,6代線(xiàn)以下中小尺寸世代線(xiàn)有17;目前正在建設(shè)中的有10,計(jì)劃總投資金額為2103億元;另外還有5世代線(xiàn)正在規(guī)劃中,預(yù)計(jì)
2016-01-30 11:30:52

文帶你了解芯片制造的6個(gè)關(guān)鍵步驟

的用于保護(hù)不被刻蝕區(qū)域的光刻膠將被移除。 封裝在塊晶圓上制造出芯片需要經(jīng)過(guò)上千道工序,從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)需要三個(gè)多月的時(shí)間。為了把芯片從晶圓上取出來(lái),要用金剛石鋸將其切成單個(gè)芯片。這些被稱(chēng)為“裸晶”的芯片
2022-04-08 15:12:41

光刻工藝步驟

、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類(lèi)型:正性光刻和負(fù)性光刻,區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47

光刻技術(shù)原理及應(yīng)用

,對(duì)準(zhǔn)精度的提高也受到較多的限制。般認(rèn)為,接觸式曝光只適于分立元件和中、小規(guī)模集成電路的生產(chǎn)。  非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統(tǒng)中,掩膜圖形經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)成像在感光層上,掩模與晶片上的感光
2012-01-12 10:51:59

光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

  關(guān)于光刻工藝的原理,大家可以想象下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當(dāng)于膠片,而光刻機(jī)就是沖洗臺(tái),它把掩膜版上的芯片電路個(gè)個(gè)的復(fù)制到光刻膠薄膜上,然后通過(guò)刻蝕技術(shù)把電路“畫(huà)”在晶圓上?!   ‘?dāng)然
2020-07-07 14:22:55

光刻膠

SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問(wèn)題,在近紫外光(365nm-400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

分辨率可達(dá)0.15mm;193nm光刻采用OPC技術(shù)和多層光刻膠技術(shù)分辨率可達(dá)0.1 mm。進(jìn)步提高分辨率, 直至達(dá)到硅材料的極限0.1μm左右。另一條路線(xiàn)是采用更短波長(zhǎng)的激光如氟157nm和氬
2018-08-23 11:56:31

光刻膠有什么分類(lèi)?生產(chǎn)流程是什么?

光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑,是種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正和負(fù)之分。正經(jīng)過(guò)曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

這是我的版圖部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺(jué)間距小的地方全都有殘留,間距大的地方?jīng)]有殘留;工藝參數(shù):s9920光刻膠, evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18

Futurrex高端光刻膠

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46

LCD段碼屏光刻不良-浮

`浮是顯影或腐蝕過(guò)程中常出現(xiàn)的種不良現(xiàn)像,也是影響較為嚴(yán)重的光刻弊病。顯影時(shí)產(chǎn)生的浮 在顯影時(shí),玻璃表面的膠膜皺起呈桔皮狀或膠膜大片剝離。產(chǎn)生這現(xiàn)像,說(shuō)明膠膜與玻璃表面ITO層粘附不好
2018-11-22 16:04:49

LCD段碼液晶屏生產(chǎn)工藝流程

的雜質(zhì)和油污洗凈,然后把水除去并干燥,保證下道工藝的加工質(zhì)量。C. 涂光刻膠:在ITO玻璃的導(dǎo)電層面上均勻涂上光刻膠,涂過(guò)光刻膠的玻璃要在定的溫度下作預(yù)處理。D. 前烘:在定的溫度下將涂有
2019-07-16 17:46:15

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線(xiàn)光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34

RFID在生產(chǎn)線(xiàn)管理中的應(yīng)用有哪些?

傳統(tǒng)生產(chǎn)線(xiàn)管理中存在的問(wèn)題是什么?RFID在生產(chǎn)線(xiàn)管理中的應(yīng)用有哪些?生產(chǎn)線(xiàn)實(shí)時(shí)RFID系統(tǒng)后的收益如何?
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ZN-2RXY模塊式柔性自動(dòng)環(huán)形生產(chǎn)線(xiàn)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)有哪些功能

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2021-09-27 08:56:07

smt生產(chǎn)線(xiàn)介紹

smt生產(chǎn)線(xiàn)介紹  SMT生產(chǎn)線(xiàn),表面組裝技術(shù)(SurfaceMountTechnology簡(jiǎn)稱(chēng)SMT)是由混合集成電路技術(shù)發(fā)展而來(lái)的新代電子裝聯(lián)技術(shù),以采用元器件表面貼裝技術(shù)和回流焊接技術(shù)為特點(diǎn)
2021-07-23 08:54:42

smt生產(chǎn)線(xiàn)有輻射嗎

`  誰(shuí)來(lái)闡述下smt生產(chǎn)線(xiàn)有輻射嗎?`
2020-04-01 17:19:35

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓[/td][td]編號(hào):JFSJ-21-0作者:炬豐科技網(wǎng)址:http
2021-07-06 09:39:22

三種常見(jiàn)的光刻技術(shù)方法

微米之間,此間隙可以大大減少對(duì)掩膜版的損傷.接近式暴光的分辨率較低,般在2~4微米之間,因此接近式光刻機(jī)只能裝配在特征尺寸交大的集成電路生產(chǎn)線(xiàn)中.接觸或接近式光刻機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是生產(chǎn)效率較高?! 艚佑|式
2012-01-12 10:56:23

優(yōu)質(zhì)生產(chǎn)必備—無(wú)損傷的管測(cè)徑儀

顯示電路進(jìn)行顯示。單片機(jī)計(jì)算得到的PID控制值通過(guò)D/A變換成0~10V電壓輸出。  將光電測(cè)徑儀安裝在生產(chǎn)線(xiàn)中,通過(guò)連接變頻器或電子調(diào)速器等外接設(shè)備實(shí)現(xiàn)管的外徑尺寸的閉環(huán)控制,其控制是通過(guò)控制
2018-08-01 09:47:26

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光學(xué)材料

  隨著今年LED產(chǎn)業(yè)不斷壯大,我們也隨著客戶(hù)起成長(zhǎng),在這個(gè)過(guò)程中德同不斷增加產(chǎn)品線(xiàn)及配套服務(wù)以達(dá)到客戶(hù)的要求.在這里你看到的不僅僅是目錄上的產(chǎn)品,我們所能提供LED耗材
2008-08-27 10:18:39

全球進(jìn)入5nm時(shí)代

,精度控制要求非常高。先進(jìn)的蝕刻機(jī)售價(jià)也要數(shù)百萬(wàn)美元,而且一條生產(chǎn)線(xiàn)要使用多臺(tái)蝕刻機(jī),對(duì)于賣(mài)方來(lái)說(shuō),總價(jià)值很可觀(guān)。制造 目前,有5nm芯片制造能力的只有臺(tái)積電家,該公司也是產(chǎn)業(yè)鏈的核心
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機(jī)有什么典型應(yīng)用 ?

機(jī)是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備??蓪?duì)不同尺寸和形狀的基片進(jìn)行涂膠,最大涂膠尺寸達(dá)8寸,得到厚度均勻的光刻膠層,同時(shí)可對(duì)大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進(jìn)行均勻涂膠;通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制器進(jìn)行工藝參數(shù)的編輯和操作。
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如何將輸入與輸出倆線(xiàn)一條線(xiàn)代替。

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模塊式柔性自動(dòng)化生產(chǎn)線(xiàn)實(shí)訓(xùn)系統(tǒng)是什么

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根據(jù)Computer World報(bào)導(dǎo),英特爾今年底就將開(kāi)始導(dǎo)入 7 納米晶圓制程,時(shí)間提前于臺(tái)積電與三星等競(jìng)爭(zhēng)者,鞏固其半導(dǎo)體龍頭的位置。日前,英特爾在盈余電話(huà)會(huì)議上宣布,為了進(jìn)一步探索芯片生產(chǎn)
2017-02-05 01:11:44371

光磊感測(cè)元件生產(chǎn)線(xiàn)滿(mǎn)載,將規(guī)劃進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn)

近幾年全球感測(cè)相關(guān)需求快速成長(zhǎng),臺(tái)LED廠(chǎng)中,光磊、鼎元等都鎖定感測(cè)市場(chǎng)積極轉(zhuǎn)型,其中光磊的感測(cè)元件生產(chǎn)線(xiàn)已滿(mǎn)載,去年即規(guī)劃進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn),預(yù)計(jì)今年底前至明年新產(chǎn)能開(kāi)出后,產(chǎn)能可望提升二成。
2018-06-23 11:34:002051

北京首條大規(guī)模量產(chǎn)8英寸線(xiàn)項(xiàng)目封頂,預(yù)計(jì)年銷(xiāo)售收入25.17億元

該項(xiàng)目建設(shè)地設(shè)在亦莊經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)東區(qū)B15地塊,占地面積約為10萬(wàn)平方米,總投資48億元。芯片生產(chǎn)廠(chǎng)房包含一條月產(chǎn)5萬(wàn)片(25次光刻)0.25um-0.09um(典型工藝為0.11um)、BCD兼容工藝的8英寸芯片生產(chǎn)線(xiàn),預(yù)計(jì)今年底投產(chǎn),建成達(dá)產(chǎn)后,可實(shí)現(xiàn)年銷(xiāo)售收入25.17億元
2018-07-11 16:06:001716

黃山風(fēng)景區(qū)首個(gè)VR體驗(yàn)館上線(xiàn),預(yù)計(jì)今年底面向游客開(kāi)放

獲悉,隨著黃山地質(zhì)公園博物館虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)體驗(yàn)租賃經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目采購(gòu)工作的順利完成,黃山風(fēng)景區(qū)首個(gè)VR體驗(yàn)館即將“上線(xiàn)”,預(yù)計(jì)今年底面向游客開(kāi)放。
2018-09-14 10:15:301424

友達(dá)光電建OLED噴墨生產(chǎn)線(xiàn),用于生產(chǎn)車(chē)用OLED

有報(bào)道稱(chēng),總部位于臺(tái)灣的友達(dá)光電(AUO)決定建立一條噴墨OLED生產(chǎn)線(xiàn),用于生產(chǎn)OLED顯示器以及車(chē)用OLED。
2018-10-18 09:24:574383

南大光電預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)

7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-18 16:14:594862

南大光電全力推進(jìn)ArF光刻膠

預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-19 14:08:305317

南大光電擬投建光刻膠材料配套項(xiàng)目 將具有重大戰(zhàn)略意義

光刻膠概念股南大光電10月23日公告,擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項(xiàng)目。
2019-10-24 16:47:213114

欣奕華科技在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn) 預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶(hù)

從經(jīng)開(kāi)區(qū)企業(yè)北京欣奕華科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“欣奕華”)了解到,經(jīng)過(guò)多年的行業(yè)累積和技術(shù)迭代,欣奕華在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了量產(chǎn),預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶(hù),約占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的8%。
2019-10-28 16:38:493761

廣東省預(yù)計(jì)今年底全省將建成5G基站3.48萬(wàn)座

數(shù)據(jù)顯示,截至9月底,廣東全省建成5G基站21473座,其中廣州建成10626座,廣州天河區(qū)已建成5G基站3020個(gè),天河區(qū)基本實(shí)現(xiàn)5G全覆蓋。深圳建成9504座,佛山619座、東莞398座。預(yù)計(jì)今年底,全省5G基站將達(dá)到3.48萬(wàn)座。
2019-11-27 15:27:08354

上海新陽(yáng)表示ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨

近日,上海新陽(yáng)在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示,公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠(chǎng)內(nèi)安裝開(kāi)始調(diào)試,ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨。
2019-12-04 15:24:457942

南大光電建成光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)

今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:527318

先投2800萬(wàn)美元,美國(guó)杜邦擬在韓國(guó)生產(chǎn)光刻膠

杜邦將擴(kuò)建位于韓國(guó)中部天安市的現(xiàn)有工廠(chǎng),生產(chǎn)涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。
2020-01-10 15:46:472821

光刻膠國(guó)產(chǎn)化刻不容緩

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng),預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:484098

南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹(shù)脂專(zhuān)利揭秘

在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域,我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó),但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠(chǎng)布局較晚,半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大,國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠(chǎng)商積極開(kāi)展研究,如晶瑞股份的KrF光刻膠,南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165

寧波南大光電首條ArF光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)進(jìn)入調(diào)試階段 項(xiàng)目計(jì)劃總投資6億元

近日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,寧波南大光電目前已安裝完成第一條ArF(193nm)光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),該產(chǎn)線(xiàn)仍處于調(diào)試階段。目前,研發(fā)的產(chǎn)品正在測(cè)試、認(rèn)證過(guò)程中,尚未形成量產(chǎn)和銷(xiāo)售。
2020-03-09 10:51:344084

三星預(yù)計(jì)6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線(xiàn) 且最快在今年底開(kāi)始生產(chǎn)5nm工藝

2020年,全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝要從7nm升級(jí)到5nm了,臺(tái)積電最近上半年就開(kāi)始量產(chǎn)5nm EUV工藝,而三星也加碼投資,預(yù)計(jì)6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線(xiàn)。
2020-03-13 08:35:012624

廣汽豐田擬投建第五條生產(chǎn)線(xiàn) 預(yù)計(jì)2022年建成投產(chǎn)

從豐田處獲悉,廣汽豐田已斥資9.19億元拍下廣州市南沙一處面積超過(guò)70萬(wàn)平方米的工業(yè)用地,用以投建第五條生產(chǎn)線(xiàn),計(jì)劃年產(chǎn)能20萬(wàn)輛,預(yù)計(jì)2022年建成投產(chǎn)。據(jù)悉,未來(lái)廣汽豐田將主要在此生產(chǎn)新能源汽車(chē)產(chǎn)品。
2020-03-20 10:24:25630

在建最大中科院量子實(shí)驗(yàn)室預(yù)計(jì)今年底交付使用

集微網(wǎng)消息,據(jù)中安在線(xiàn)報(bào)道,中科院量子信息與量子科技創(chuàng)新研究院工地,施工團(tuán)隊(duì)已全面復(fù)工并“加速度建設(shè)”,目標(biāo)于今年底如期建成交付使用。
2020-04-17 16:27:181583

一文帶你看懂光刻膠

光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機(jī)構(gòu)智研咨詢(xún)統(tǒng)計(jì),2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元,
2020-09-15 14:00:1416535

甬矽電子120多億項(xiàng)目預(yù)計(jì)今年底開(kāi)始動(dòng)工

寧波市國(guó)資委消息顯示,甬矽電子二期項(xiàng)目總投資120多億元,占地面積500畝,預(yù)計(jì)今年底開(kāi)始動(dòng)工。2020年1月2日,甬矽電子(寧波)股份有限公司二期500畝項(xiàng)目正式簽約。據(jù)當(dāng)時(shí)甬矽電子官方消息顯示
2020-10-26 14:27:126994

維信諾合肥成功點(diǎn)亮第六代全柔性AMOLED生產(chǎn)線(xiàn)

國(guó)內(nèi)又要建成一條大型OLED面板生產(chǎn)線(xiàn)了。
2020-12-08 10:26:221113

國(guó)內(nèi)又要建成一條大型OLED面板生產(chǎn)線(xiàn)

國(guó)內(nèi)又要建成一條大型OLED面板生產(chǎn)線(xiàn)了。 12月7日上午,維信諾子公司合肥維信諾投資建設(shè)的第六代全柔AMOLED生產(chǎn)線(xiàn)點(diǎn)亮儀式在合肥新站高新區(qū)隆重舉行,維信諾及地方政府高管、中科院院士等人一起
2020-12-08 11:17:092996

南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過(guò)認(rèn)證

今日南大光電發(fā)布公告稱(chēng),其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶(hù)的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶(hù) 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波
2020-12-18 09:29:424499

南大光電首款國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠通過(guò)認(rèn)證 可用于45nm工藝光刻需求

? 導(dǎo) 讀 日前,南大光電公告稱(chēng),由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶(hù)使用認(rèn)證,線(xiàn)制程工藝可以滿(mǎn)足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告
2020-12-25 18:24:096227

景旺電子:預(yù)計(jì)今年底會(huì)釋放7.5萬(wàn)㎡/月的高多層產(chǎn)能

? 日前,在接受投資機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)景旺電子對(duì)外表示,目前珠海高多層工廠(chǎng)會(huì)邊建設(shè)邊投產(chǎn),預(yù)計(jì)今年底會(huì)釋放7.5萬(wàn)㎡/月的高多層產(chǎn)能;珠海高端HDI工廠(chǎng)將會(huì)在今年二季度投產(chǎn),預(yù)計(jì)釋放2萬(wàn)㎡/月的產(chǎn)能
2021-01-12 14:03:102077

江蘇時(shí)代動(dòng)力及儲(chǔ)能鋰電池研發(fā)與生產(chǎn)項(xiàng)目(四期)舉行開(kāi)工儀式

? ? 摘要 該項(xiàng)目將在今年底建成12條全球先進(jìn)鋰離子大電芯生產(chǎn)線(xiàn)及相應(yīng)模組、電池包生產(chǎn)線(xiàn),建成預(yù)計(jì)新增產(chǎn)能40GWh。 1月28日,江蘇時(shí)代動(dòng)力及儲(chǔ)能鋰電池研發(fā)與生產(chǎn)項(xiàng)目(四期)舉行開(kāi)工儀式
2021-02-02 10:03:009522

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng),截至收盤(pán),A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線(xiàn)拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:152623

半導(dǎo)體技術(shù)新進(jìn)展,南大光電高端ArF光刻膠獲得突破

在半導(dǎo)體制造方面,國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商需要突破的不只是光刻機(jī)等核心設(shè)備,光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機(jī),已經(jīng)獲得了國(guó)內(nèi)某企業(yè)的認(rèn)證,可用于55nm工藝制造。 南大光電發(fā)布公告稱(chēng),控股
2021-06-26 16:32:372200

光刻膠光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話(huà)說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線(xiàn)將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

世人皆言光刻膠難,它到底難在哪里

待加工基片上。其被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線(xiàn)路的加工制作,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 一言以蔽之,光刻膠光刻工藝最重要的耗材,其性能決定了加工成品的精密程度和良品率,而光刻工藝又是精密電子元器件制造
2022-01-20 21:02:461208

采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23756

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:141285

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹(shù)脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0415830

高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線(xiàn)及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭?b class="flag-6" style="color: red">生產(chǎn)線(xiàn),具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線(xiàn)產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:32920

年產(chǎn)千噸電子級(jí)光刻膠原材料,微芯新材生產(chǎn)基地簽約湖州

湖州國(guó)資消息,寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項(xiàng)目總投資3.5億元人民幣,用地35畝,年產(chǎn)1000噸的電子級(jí)光刻膠原材料(光刻膠樹(shù)脂、高等級(jí)單體等核心材料)基地建設(shè)?!比窟_(dá)到,預(yù)計(jì)年產(chǎn)值可達(dá)到約5億元。
2023-08-21 11:18:26942

光刻膠黏度如何測(cè)量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類(lèi)的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571

西隴科學(xué)9天8板,回應(yīng)稱(chēng)“未生產(chǎn)、銷(xiāo)售光刻膠

 20日,西隴科學(xué)(株)發(fā)布公告稱(chēng),該公司沒(méi)有生產(chǎn)銷(xiāo)售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷(xiāo)售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營(yíng)業(yè)收入的比例,是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57315

光刻膠國(guó)內(nèi)市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)化率詳解

KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50284

勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧蚰z時(shí),是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:56442

光刻膠分類(lèi)與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21346

光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18402

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50200

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