昨日(6月3日),華虹半導(dǎo)體有限公司宣布,其90納米BCD工藝在華虹無錫12英寸生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。90納米BCD工藝具備高性能指標(biāo)及較小的芯片面積等優(yōu)質(zhì)特色。 據(jù)了解,華虹半導(dǎo)體的90納米BCD工藝
2021-06-04 09:36:175405 據(jù)國際物理系統(tǒng)研討會(huì)(ISPD)上專家表示:實(shí)現(xiàn)14納米芯片生產(chǎn)可能會(huì)比原先想象的更困難;14納米節(jié)點(diǎn)給設(shè)計(jì)師帶來了許多挑戰(zhàn)。這些困難和挑戰(zhàn)何在?詳見本文...
2013-04-08 09:30:513499 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的每次進(jìn)步都要求對(duì)制造工藝變化進(jìn)行更嚴(yán)格的控制。最先進(jìn)的工藝現(xiàn)在可以達(dá)到僅7 nm的fin寬度,比30個(gè)硅原子稍大一點(diǎn)。半導(dǎo)體制造已經(jīng)跨越了從納米級(jí)到原子級(jí)工藝的門檻。
2020-06-02 18:04:462118 ,加工周期短,速度快。 聯(lián)系方式:姚經(jīng)理、馬經(jīng)理,010-51293689;sales@firstchip.cn工藝能力:1、 熱氧化硅2、 硼、磷擴(kuò)散,推進(jìn)3、 離子注入(硼、磷)4、 高低溫退火5
2015-01-07 16:15:47
(Microcontroller Unit, MCU)市場(chǎng),最新推出95納米單絕緣柵非易失性嵌入式存儲(chǔ)器(95納米5V SG eNVM)工藝平臺(tái)。在保證產(chǎn)品穩(wěn)定性能的同時(shí),95納米5V SG eNVM工藝平臺(tái)以其低功耗、低成本
2017-08-31 10:25:23
網(wǎng)上看到的RS232轉(zhuǎn)RS485的電路圖,本人也有很多不懂的地方,一直沒有人分析該電路的原理,希望大蝦幫忙分析一下:1.ME7660C 8腳是輸入電源,為什么接地?3腳接VEE,這邊為什么接輸出電源。2.Q5的射極為什么接VEE呢?2.三極管Q5發(fā)射極接的也是VEE,那跟ME7660C的5腳輸出電源VEE是否一致?3.可以解釋下MAX485和RS485之間那部分電路嗎,不理解,即什么情況下接受,什么時(shí)候發(fā)送呢?
2012-07-28 18:07:45
。 1、柔性壓電納米發(fā)電機(jī) 柔性壓電納米發(fā)電機(jī)(PENG)的原理是在外力作用下,晶體結(jié)構(gòu)的中心對(duì)稱性被破壞,形成壓電勢(shì)。例如,將ZnO納米線兩端連接電極,封裝在柔性基板上。基板彎曲時(shí)引起的ZnO內(nèi)部
2020-08-25 10:59:35
納米定位平臺(tái)跟納米平臺(tái)的區(qū)別是什么?
2015-07-19 09:42:13
的日常防護(hù)需求。尤其適合對(duì)手機(jī),智能穿戴設(shè)備做整機(jī)處理,并可達(dá)到IPX7的專業(yè)防水等級(jí)。特點(diǎn):具有防水、耐腐蝕,導(dǎo)電性能。 主要工藝:在真空狀態(tài),一定條件納米材料形成氣體沉積在產(chǎn)品表面。360°無死角
2018-09-19 13:34:06
在研究移動(dòng)電視技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)時(shí)需要區(qū)分產(chǎn)品功能組合、封裝、性能、采用的半導(dǎo)體工藝和最重要的射頻接收器性能。目前大多數(shù)單制式解調(diào)器都采用130納米至65納米CMOS工藝制造。多數(shù)情況下,它們與射頻接收器
2019-07-29 06:49:39
現(xiàn)想在DM8127 IPNC上直通usecase上(即multich_CaptureDisplay.c):
能否增加一個(gè)對(duì)采集的視頻進(jìn)行裁剪,裁剪出一塊小區(qū)域目標(biāo),然后再對(duì)該目標(biāo)進(jìn)行縮放,請(qǐng)問應(yīng)該
2018-06-21 01:50:13
? 在設(shè)計(jì)人員的推動(dòng)下,加快部署7nm Fusion Design Platform,在具有挑戰(zhàn)性的設(shè)計(jì)方面,不僅設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)質(zhì)量提升了20%,設(shè)計(jì)收斂速度也提高了兩倍多。? Fusion Design
2020-10-22 09:40:08
`7納米芯片一直被視為芯片業(yè)“皇冠上的珍珠”,令全球芯片企業(yè)趨之若鶩。在大家熱火朝天地競(jìng)相布局7納米工藝時(shí),全球第二大的芯片大廠GlobalFoundries(格羅方德,格芯,以下簡稱GF)突然宣布
2018-09-05 14:38:53
阻抗譜測(cè)試儀是否能實(shí)現(xiàn)這個(gè)功能? 阻抗譜測(cè)試儀能否完全代替LCR測(cè)試儀的電容測(cè)試功能? 半導(dǎo)體特性儀能否實(shí)現(xiàn)?
2021-04-23 10:49:53
對(duì)任何LTE設(shè)備制造商來說,確保產(chǎn)品符合3GPP標(biāo)準(zhǔn)的要求非常重要,例如TS36.141基站一致性測(cè)試和TS36.521 UE一致性規(guī)范射頻傳輸與接收。然而,基于這些標(biāo)準(zhǔn)高效準(zhǔn)確地呈現(xiàn)諸如OFDM、MIMO和Layer1/2/3等通用射頻發(fā)射特性極具挑戰(zhàn)性,但這些有什么作用呢?
2019-08-08 07:45:20
國立大學(xué),國家納米工程中心等多個(gè)科研單位和高等院校建立產(chǎn)學(xué)研合作關(guān)系,推出了高性能導(dǎo)電膠,導(dǎo)電銀膠,導(dǎo)電銀漿,納米銀墨水,納米銀漿,納米銀膏,電子漿料,異方性導(dǎo)電膠,導(dǎo)電銀膜,導(dǎo)熱膠,UV膠,膠膜模切等
2020-04-14 09:26:12
哪些?【解密專家+V信:icpojie】1.選擇適當(dāng)?shù)牟牧虾头椒ㄔ赑CB無鉛焊接工藝中,焊接材料的選擇是最具挑戰(zhàn)性的。因?yàn)閷?duì)于無鉛焊接工藝來說,無鉛焊料、焊膏、助焊劑等材料的選擇是最關(guān)鍵的,也是最困難
2017-05-25 16:11:00
可靠性是另一關(guān)注的重點(diǎn)。目前,環(huán)球儀器SMT工藝實(shí)驗(yàn)室正在進(jìn)行的另一個(gè)項(xiàng)目就是堆疊裝配可靠性研究。從目前采用跌落測(cè)試的研究結(jié)果來看,失效主要發(fā)生在兩層元件之間的連接。位置主要集中在元件角落處
2018-09-06 16:24:30
的挑戰(zhàn)性,本文將重點(diǎn)研究無源標(biāo)簽系統(tǒng)。 當(dāng)接收到來自閱讀器的CW信號(hào)時(shí),無源標(biāo)簽對(duì)射頻RF(以下簡稱RF)能量進(jìn)行整流以生成保持標(biāo)簽工作所需的小部分能量,然后改變其天線的吸收特點(diǎn)以調(diào)制信號(hào),并通過反向
2019-07-10 06:53:50
SESD1004Q4UG-0020-090,HDMI 2.0a典型應(yīng)用,使用SESD1004Q4UG-0020-090 ESD抑制二極管陣列20kV汽車10引腳DFN。 SESD系列超低電容分立式TVS為世界上最具挑戰(zhàn)性的高速串行接口提供單向和雙向ESD保護(hù)
2019-04-15 08:04:11
SESD1004Q4UG-0020-090,USB 3.1 Type C典型應(yīng)用,使用SESD1004Q4UG-0020-090 ESD抑制二極管陣列20kV汽車10引腳DFN。 SESD系列超低電容分立式TVS為世界上最具挑戰(zhàn)性的高速串行接口提供單向和雙向ESD保護(hù)
2019-04-15 15:11:21
SESD1004Q4UG-0020-090,eSATA使用SESD1004Q4UG-0020-090 ESD抑制二極管陣列的典型應(yīng)用20kV汽車10引腳DFN。 SESD系列超低電容分立式TVS為世界上最具挑戰(zhàn)性的高速串行接口提供單向和雙向ESD保護(hù)
2019-04-15 06:31:57
的自頂向下 GaN 納米線制造工藝得到改進(jìn),以實(shí)現(xiàn)直徑低于 50nm 的特征。提出了 SPE 制造的初始工藝,并引入了電化學(xué)蝕刻設(shè)置以擴(kuò)大處理能力和應(yīng)用。這些新工藝的初步實(shí)驗(yàn)顯示出有希望的結(jié)果。如有侵權(quán),請(qǐng)聯(lián)系作者刪除`
2021-07-08 13:11:24
挑戰(zhàn)性。在這項(xiàng)研究中,我們研究了 BCB 的化學(xué)機(jī)械平坦化 (CMP),以便在這種平坦化的表面上制作超薄粘合層。采用實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的方法來研究不同的漿料成分、拋光墊和工藝參數(shù)對(duì) BCB 平面化的影響。使用這種
2021-07-08 13:14:11
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:III-V族半導(dǎo)體納米線結(jié)構(gòu)的光子學(xué)特性編號(hào):JFSJ-21-075作者:炬豐科技 摘要:III-V 族半導(dǎo)體納米線 (NW) 由于其沿納米線軸對(duì)電子和光子
2021-07-09 10:20:13
:MacEtch 是一種濕法蝕刻工藝,可提供對(duì)取向、長度、形態(tài)等結(jié)構(gòu)參數(shù)的可控性,此外,它是一種制造極高縱橫比半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)的簡單且低成本的方法。 3 該工藝利用了在氧化劑(例如過氧化氫 (H2O2))和酸(例如
2021-07-06 09:33:58
選擇性焊接的流程包括哪些?選擇性焊接工藝有哪幾種?
2021-04-25 10:00:18
,5納米工藝技術(shù)制造5、高通 驍龍 875:2020年12月1日公布,5納米工藝技術(shù)制造6、高通 驍龍 888:2020年12月1日公布,5納米工藝技術(shù)制造7、海思 麒麟 9000:2020年10月22
2021-12-25 08:00:00
什么是納米?為什么制程更小更節(jié)能?為何制程工藝的飛躍幾乎都是每2年一次?
2021-02-01 07:54:00
現(xiàn)代化戰(zhàn)爭(zhēng)對(duì)吸波材料的吸波性能要求越來越高,一般傳統(tǒng)的吸波材料很難滿足需要。由于結(jié)構(gòu)和組成的特殊性,使得納米吸波涂料成為隱身技術(shù)的新亮點(diǎn)。納米材料是指三維尺寸中至少有一維為納米尺寸的材料,如薄膜
2019-08-02 07:51:17
視頻監(jiān)控技術(shù)的發(fā)展,系統(tǒng)從模擬時(shí)代跨入 IP時(shí)代;何時(shí)以及如何實(shí)現(xiàn)模擬到IP視頻系統(tǒng)的飛躍是企業(yè)組織安全管理人員面臨的最具挑戰(zhàn)性難題之一。那么從模擬技術(shù)到IP監(jiān)控的傳輸方式有哪些?
2021-04-07 06:58:17
為解決這問題并提供高動(dòng)態(tài)范圍輸出含減少LED閃爍的方案,就需要采用創(chuàng)新的高電荷容量CMOS圖像傳感器,可以暴露足夠長的時(shí)間來捕獲脈沖光源而不會(huì)使場(chǎng)景的明亮區(qū)域達(dá)到飽和。而這方案正是安森美半導(dǎo)體在推出
2020-05-20 07:57:51
SESD1004Q4UG-0020-090,使用SESD1004Q4UG-0020-090 ESD抑制二極管陣列20kV汽車10引腳DFN的顯示端口典型應(yīng)用。 SESD系列超低電容分立式TVS為世界上最具挑戰(zhàn)性的高速串行接口提供單向和雙向ESD保護(hù)
2019-04-15 13:39:39
`在無鉛焊接工藝中,焊接材料的選擇是最具挑戰(zhàn)性的。因?yàn)閷?duì)于無鉛焊接工藝來說,無鉛焊料、焊錫膏、助焊劑等材料的選擇是最關(guān)鍵的。漢赫電子在選擇上述材料時(shí)首先考慮到焊接元件的類型、線路板的類型,以及它們
2016-07-29 09:12:59
的透明度類型,同時(shí)保持免疫RFI。我非常感謝Vishay Foil Resistors應(yīng)用團(tuán)隊(duì)如何幫助實(shí)現(xiàn)這個(gè)項(xiàng)目。我一直依靠BulkMetal?箔電阻來完成我最具挑戰(zhàn)性的項(xiàng)目,我甚至不考慮任何其他選項(xiàng),因?yàn)槲艺J(rèn)為對(duì)于純粹的“最佳電阻”,沒有其他更好的選擇應(yīng)用在模擬濾波電路。`
2019-09-19 15:08:05
,以此推類 六、槽孔 1.非金屬化槽孔的最小間距不小于1.6mm 不然會(huì)大大加大銑邊的難度 2.最小的槽孔工藝能力:如果是沉銅的槽,最小的要0.5mm;如果是非沉銅的槽,最小的要0.8mm 七、拼版
2012-08-27 10:52:16
通過對(duì)噪聲增益及CF的研究側(cè)重探討如何實(shí)現(xiàn)電容性負(fù)載的穩(wěn)定性
2021-04-06 08:26:31
,比如后視攝像機(jī)(美國現(xiàn)在強(qiáng)制要求每輛新車都必須具備),360度環(huán)視系統(tǒng),以及新興應(yīng)用如替代傳統(tǒng)后視鏡的相機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)等。汽車環(huán)境下的工作條件及參數(shù)對(duì)于圖像傳感器而言通常都非常具有挑戰(zhàn)性。場(chǎng)景的動(dòng)態(tài)范圍
2018-10-26 08:56:41
本文介紹多點(diǎn)電容觸摸屏設(shè)計(jì)有哪些設(shè)計(jì)挑戰(zhàn),和如何使用TTSP方案來幫助設(shè)計(jì)者面對(duì)這些挑戰(zhàn),使多點(diǎn)電容觸摸屏設(shè)計(jì)比以往更容易。
2021-04-06 09:05:59
如何實(shí)現(xiàn)電容性負(fù)載的穩(wěn)定性?反相噪聲增益及CF和非反相噪聲增益及CF的區(qū)別在哪里?
2021-04-21 06:11:28
我使用 Wemos D1 mini 制作了一款簡單但具有挑戰(zhàn)性的游戲。
我盡量使說明盡可能詳細(xì),但如果您對(duì)此有任何疑問,請(qǐng)告訴我。
您所要做的就是將魔杖從電線的一端拿到另一端。它有一個(gè) OLED
2023-05-23 06:14:41
如何克服ACS測(cè)試系統(tǒng)和SMU的可靠性測(cè)試挑戰(zhàn)?
2021-05-11 06:11:18
一半,而性能提高兩倍。通過選擇一個(gè)高性能低功耗的工藝技術(shù),一個(gè)覆蓋所有產(chǎn)品系列的、統(tǒng)一的、可擴(kuò)展的架構(gòu),以及創(chuàng)新的工具,賽靈思將最大限度地發(fā)揮 28 納米技術(shù)的價(jià)值, 為客戶提供具備 ASIC 級(jí)功能
2019-08-09 07:27:00
TD-LTE、FDD-LTE和LTE-Advanced(LTE-A)無線技術(shù)使用了幾種不同的多種輸入多路輸出(MIMO)技術(shù)。鑒于MIMO系統(tǒng)的復(fù)雜性正在日益提高,因此相關(guān)的測(cè)試方法也將更具挑戰(zhàn)性。那么,如何選擇LTE系統(tǒng)測(cè)試方法,存在哪些挑戰(zhàn)?
2019-02-28 11:18:42
器(eTEG)薄膜技術(shù)解決了當(dāng)今電子行業(yè)中最具挑戰(zhàn)性的熱管理和電源管理問題。不過,只有極少數(shù)廠商能以相同技術(shù)實(shí)現(xiàn)這兩種應(yīng)用:熱源單點(diǎn)散熱解決方案和利用廢熱發(fā)電的新方法。對(duì)于裸片、芯片、電路板和系統(tǒng)級(jí)實(shí)施的熱管
2020-03-10 08:06:25
高線性性能的評(píng)估和實(shí)現(xiàn)挑戰(zhàn)
2021-04-06 07:10:32
隨著FPGA的容量、性能以及可靠性的提高及其在消費(fèi)電子、汽車電子等領(lǐng)域的大規(guī)模應(yīng)用,F(xiàn)PGA設(shè)計(jì)的安全性問題越來越引起人們的關(guān)注。相比其他工藝FPGA而言,處于主流地位的SRAM工藝FPGA有一些
2019-08-23 06:45:21
查詢了一些資料發(fā)現(xiàn)現(xiàn)在互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)的制造工藝達(dá)到了納米級(jí);但這些精良制造工藝涉及的電源縮放和器件漏電等問題給精密模擬電路帶來了不利影響,致使研究人員需要開發(fā)可以實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)模擬
2021-04-06 08:58:04
如何利用PLD去實(shí)現(xiàn)高可用性系統(tǒng)的熱插拔和加電順序保護(hù)?
2021-04-28 06:40:42
和特殊連接可能具有挑戰(zhàn)性。例子:圖 3:連接特殊模擬信號(hào)的手動(dòng)路由5、需要進(jìn)行 ESD 單元和 TCD(Test-key Critical Dimension)檢查。需要靜電放電宏來保護(hù)高速模擬宏
2022-11-16 14:57:43
,高阻抗,高耐壓; (2)優(yōu)異的防潮阻燃性能 (3)采用特殊工藝,防止破壞性電暈的產(chǎn)生; (4)長期負(fù)載下優(yōu)異的電容量穩(wěn)定性。 以上三類電表電容基本上是搭配使用的。電表電容: http://www.csdsz.com/article_53.html
2014-01-11 16:40:38
工作環(huán)境的變化而改變。接著,將會(huì)介紹被動(dòng)互調(diào)(PIM)測(cè)量的設(shè)置,在滿足濾波器產(chǎn)品要求的過程中,它可能是最具挑戰(zhàn)性的規(guī)范,主要原因包括缺乏精確的模擬工具以及測(cè)量不準(zhǔn)確。為清晰說明測(cè)試的過程,文中也提供測(cè)試
2019-06-24 07:21:26
,7項(xiàng)專利已經(jīng)受理,5項(xiàng)專利正在申請(qǐng)中。目前擁有國內(nèi)領(lǐng)先、部分產(chǎn)品國際領(lǐng)先的生產(chǎn)工藝,高純超細(xì)氧化鋁、5n氧化鋁、超活性高純納米二氧化鈦、納米氧化鈦、高純納米氧化鋯、納米氧化鋁、納米氧化鋅、納米氧化鈰
2011-11-12 09:57:00
用于室內(nèi)導(dǎo)航以及處理復(fù)雜、具有環(huán)境挑戰(zhàn)性的情況時(shí),傳感器可改善系統(tǒng)區(qū)分實(shí)際運(yùn)動(dòng)與異常運(yùn)動(dòng)的能力。
2020-05-14 08:10:03
通過matlab編程實(shí)現(xiàn)圖像縮放
2012-05-14 20:45:09
高功率數(shù)字放大器的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)有哪些?怎么才能克服進(jìn)行高功率設(shè)計(jì)時(shí)遭遇的主要挑戰(zhàn)?
2021-04-12 06:44:25
在無鉛焊接工藝中,焊接材料的選擇是最具挑戰(zhàn)性的。因?yàn)閷?duì)于無鉛焊接工藝來說,無鉛焊料、焊錫膏、助焊劑等材料的選擇是最關(guān)鍵的。漢赫電子在選擇上述材料時(shí)首先考慮到焊接元件的類型、線路板的類型,以及它們表面
2016-07-29 11:05:36
SESD0201X1UN-0020-090,使用SESD0201X1UN-0020-090 ESD抑制二極管陣列20kV 2引腳DFN的典型應(yīng)用。 SESD系列超低電容分立式TVS為世界上最具挑戰(zhàn)性的高速串行接口提供單向和雙向ESD保護(hù)
2019-04-15 09:05:55
的多樣性,其總體目標(biāo)是將更多的數(shù)字和非數(shù)字功 能模塊集成到系統(tǒng)中。重從三個(gè)方面分析集成電路的發(fā)展趨勢(shì)與設(shè)計(jì)面臨的挑戰(zhàn):1)、單芯片向機(jī)電光異質(zhì)集成、多功能一體化發(fā)展 由于工藝水平不斷提升,單片集成
2018-05-11 10:20:05
用來監(jiān)測(cè)或控制系統(tǒng)的傳感元件,要求精確性、可靠性和支持實(shí)際應(yīng)用輸入,這在產(chǎn)品開發(fā)周期中是最具挑戰(zhàn)性的工作之一。因此,許多設(shè)計(jì)人員現(xiàn)在都毫不猶豫地選擇購買現(xiàn)成產(chǎn)品,或是定制預(yù)集成傳感器模塊。
2020-05-08 06:12:39
用來監(jiān)測(cè)或控制系統(tǒng)的傳感元件,要求精確性、可靠性和支持實(shí)際應(yīng)用輸入,這在產(chǎn)品開發(fā)周期中是最具挑戰(zhàn)性的工作之一。因此,許多設(shè)計(jì)人員現(xiàn)在都毫不猶豫地選擇購買現(xiàn)成產(chǎn)品,或是定制預(yù)集成傳感器模塊。
2020-08-28 06:46:54
納米磁性薄膜材料的濕法工藝馮則坤,何華輝關(guān)鍵詞:納米薄膜,磁性材料,電鍍摘 要:介紹了納米磁性薄膜材料特性、類型,綜述了近年來興起的濕法工藝及其用濕法
2010-02-07 16:42:4637 音頻設(shè)計(jì):比你所想象的更富挑戰(zhàn)性
通常會(huì)認(rèn)為20 Hz ~20 kHz常規(guī)頻段的音頻設(shè)計(jì)是基本的、不具挑戰(zhàn)性的。但是本篇特別報(bào)道的作者----音頻工程(audio engineering)的專家們對(duì)
2008-09-16 10:02:36750 臺(tái)積電率先量產(chǎn)40納米工藝
臺(tái)積電公司日前表示,40納米泛用型(40G)及40納米低耗電(40LP)工藝正式進(jìn)入量產(chǎn),成為專業(yè)集成電路制造服務(wù)領(lǐng)域唯一量產(chǎn)40納米工藝的公司
2008-11-22 18:27:07725 中芯國際將45納米工藝技術(shù)延伸至40納米以及55納米
上海2009年10月14日電 -- 中芯國際集成電路制造有限公司(“中芯國際”,紐約
2009-10-15 08:22:44793 中芯國際力爭(zhēng)在2010年實(shí)現(xiàn)45納米小批量試產(chǎn)
2010年,中芯國際將加強(qiáng)65納米的嵌入式工藝平臺(tái)和32納米關(guān)鍵模塊的研發(fā);同時(shí)力爭(zhēng)實(shí)現(xiàn)45納米和40納米技術(shù)的小批量試產(chǎn)
2010-03-08 09:33:16471 隨著微電子技術(shù)的進(jìn)步,超大規(guī)模集成電路(VLSI)的特征尺寸已經(jīng)步入納米范圍。納米級(jí)工藝存在著很多不同于以往微米、亞微米工藝的特點(diǎn),因此為制造和設(shè)計(jì)都帶來了很多難題,諸
2011-05-28 16:36:270 基于FPGA硬件實(shí)現(xiàn)固定倍率的圖像縮放,將2維卷積運(yùn)算分解成2次1維卷積運(yùn)算,對(duì)輸入原始圖像像素先進(jìn)行行方向的卷積,再進(jìn)行列方向的卷積,從而得到輸出圖像像素。把圖像縮放過程
2012-05-09 15:52:0434 智原與聯(lián)電合作完成交付40納米三億邏輯閘SoC。由于其中整合了超過100種以上不同功能的 IP設(shè)計(jì),其挑戰(zhàn)性更不是一般設(shè)計(jì)服務(wù)同業(yè)可以克服的。
2013-01-28 09:50:41852 FPGA實(shí)現(xiàn)的視頻圖像縮放顯示,下來看看。
2016-08-29 15:02:0329 基于雙線性插值的圖像縮放在GPU上的實(shí)現(xiàn)
2017-01-08 14:47:530 10月24日上午9時(shí),被公認(rèn)為“當(dāng)今世界上最具挑戰(zhàn)性的工程”——港珠澳大橋正式通車。港珠澳大橋全長55公里,是世界上總體跨度最長的跨海大橋。港珠澳大橋東連香港,西接珠海和澳門,是中國橋梁建設(shè)史上技術(shù)最為復(fù)雜、環(huán)保要求最高、建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)最高的“超級(jí)工程”。
2018-10-26 16:19:11929 最近,三星以及臺(tái)積電在先進(jìn)半導(dǎo)體制程打得相當(dāng)火熱,彼此都想要在晶圓代工中搶得先機(jī)以爭(zhēng)取訂單,幾乎成了14納米與16納米之爭(zhēng),然而14納米與16納米這兩個(gè)數(shù)字的究竟意義為何,指的又是哪個(gè)部位?而在縮小工藝后又將來帶來什么好處與難題?以下我們將就納米工藝做簡單的說明。
2019-04-29 10:35:449233 在所有可以進(jìn)行3D打印的材料中,玻璃仍然是最具挑戰(zhàn)性的材料之一。
2020-05-20 16:30:502505 然而,用四軸飛行器進(jìn)行特技飛行極具挑戰(zhàn)性,無人機(jī)駕駛員需要多年的實(shí)踐才能安全地做到這一點(diǎn),而又不會(huì)損害硬件,自身或他人。
2020-07-08 17:15:53963 Facebook進(jìn)一步介紹關(guān)于最近用以優(yōu)化控制器追蹤性能的版本更新,尤其是針對(duì)具有挑戰(zhàn)性的追蹤環(huán)境,如包含圣誕樹或假日裝飾燈具的空間。
2020-07-25 10:27:06574 介紹了一種基于圖像的雙三次線性插值縮放算法的設(shè)計(jì)方法,并通過FPGA驗(yàn)證了設(shè)計(jì)的可行性。重點(diǎn)討論了視頻縮放的插值算法,對(duì)兩種實(shí)現(xiàn)方法在硬件資源利用率及實(shí)施效率方面進(jìn)行了比較并論證了塊狀插值實(shí)現(xiàn)方法的優(yōu)越性。最終設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了高分辨率實(shí)時(shí)視頻圖像的縮放。
2021-02-05 15:54:007 本文介紹了一個(gè)自行設(shè)計(jì)的數(shù)字化x射線影像實(shí)時(shí)處理系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)圖像實(shí)時(shí)縮放的子系統(tǒng)。重點(diǎn)分析了縮放涉及的插值算法,設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了基于FPGA的三次插值的模塊,系統(tǒng)最終實(shí)現(xiàn)了對(duì)高顯示分辨率和幀率下的x線圖像的實(shí)時(shí)縮放。
2021-03-18 16:39:004 針對(duì)系統(tǒng)提供商最具挑戰(zhàn)性需求的自定義模塊
2021-04-26 16:15:424 本案例分享介紹了一家工業(yè)自動(dòng)化企業(yè)如何使用Dialog ASIC來滿足其頗具挑戰(zhàn)性的功耗要求。
2021-12-25 17:41:352469 這里向大家介紹使用HLS封裝的縮放IP來實(shí)現(xiàn)視頻圖像縮放功能。將HLS封裝的縮放IP加入到OV5640圖像傳輸系統(tǒng),驗(yàn)證圖像放大和縮小功能。
2022-10-11 14:21:501517 臺(tái)積電在今年早些時(shí)候正式推出其 N3 制造技術(shù)時(shí)表示,與其 N5(5 納米級(jí))工藝相比,新節(jié)點(diǎn)的邏輯密度將提高 1.6 倍和 1.7 倍。它沒有透露的是,與 N5 相比,新技術(shù)的 SRAM 單元幾乎無法縮放。
2022-12-22 12:28:421018 電容器普遍一般本身是沒有極性的,但是為了生產(chǎn)出更大的電容容量值使用了特殊的材質(zhì)和構(gòu)造,這就導(dǎo)致了實(shí)際的電容有些是有極性的。
而目前無極性電容工藝只能制作小容量電容,有極性電容生產(chǎn)工藝能夠制作大容量電容。
2023-06-15 17:52:131160 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《隨溫度變化的動(dòng)態(tài)電壓縮放實(shí)現(xiàn).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-09-13 17:45:510 納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪?b class="flag-6" style="color: red">工藝,是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近,海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機(jī),進(jìn)行了大規(guī)模生產(chǎn),并取得了不錯(cuò)的效果。
2023-11-08 14:34:02554 1納米尺寸的芯片制造面臨著物理極限的挑戰(zhàn),可能導(dǎo)致晶體管的性能下降甚至失效。作為半導(dǎo)體行業(yè)的重要參與者之一,臺(tái)積電已經(jīng)宣布開始研發(fā)1納米工藝。
2024-01-22 14:18:31232
評(píng)論
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