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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>半導(dǎo)體技術(shù)>半導(dǎo)體新聞>IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

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ASML研發(fā)第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%

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2020-03-17 09:13:482863

ASML完成制造1nm芯片EUV光刻

本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機的比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。 至少就目前而言,ASML對于3m、2nm
2020-11-30 15:47:402520

ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻機的設(shè)計方案

本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機的比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
2020-11-30 15:52:211821

IMEC發(fā)布低至1nm及以上的邏輯器件路線圖

 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強調(diào)通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)——高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強調(diào),將繼續(xù)把工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
2020-12-01 09:28:421159

ASML已基本完成1nm光刻機設(shè)計

了公司研究概況,他強調(diào)通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強調(diào),將繼續(xù)把工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。 包括日本在內(nèi)的許多半導(dǎo)體公司相繼退出了工藝小型化,聲稱摩爾定律已經(jīng)走到了盡頭,或者說成本太高,無利可圖。
2020-12-01 09:54:331508

全球最先進的1nm EUV光刻機業(yè)已完成設(shè)計

想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場,真的可謂哀嚎一片,一時間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天,我們不僅看到5nm工藝如期而至,臺積電宣布2nm獲得重大進展,就連光刻機的老大ASML也傳來捷報,全球最先進的1nm EUV光刻機業(yè)已完成設(shè)計。
2020-12-02 16:55:419682

IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進行了商業(yè)化

Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 的未來發(fā)展路線規(guī)劃。
2020-12-04 17:53:481274

據(jù)說1nm光刻機已經(jīng)被設(shè)計出來了,預(yù)計2022年即可商用

的邏輯器件小型化路線圖。 根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露,IMEC公司與ASML緊密合作,將推進下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前,ASML已完成作為NXE
2020-12-07 17:07:108923

臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻

Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺,可研發(fā)高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻

調(diào)試。此外,這款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻機可用于研發(fā)高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠。 IT之家了解到,晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚發(fā)布公告
2021-01-20 16:34:006083

IMEC正在開發(fā)高分辨率短波紅外線圖像傳感器原型

據(jù)外媒報道,比利時歐洲微電子中心(Imec)的研究人員研發(fā)了一款高分辨率短波紅外線(SWIR)圖像傳感器原型,像素間距小至1.82 m,刷新記錄。
2021-01-25 09:32:511839

高分辨率光譜儀的特點是什么

近日,Resolution Spectra System 公司推出一款超高分辨率光譜儀:1GHZ-ZOOM Spectrometer.超高分辨率光譜儀可以說是目前市場上絕無僅有的一款超高分辨率光譜儀
2022-04-22 16:20:53911

EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010

高管洞察:高分辨率音樂需要高分辨率揚聲器

所有關(guān)于高分辨率音樂傳輸和無損音頻或空間音頻格式的討論都為時過早。很少有人能分辨出其中的區(qū)別——除非他們通過高分辨率、固態(tài)揚聲器聆聽。 作者: MIKE HOUSHOLDER,xMEMS 營銷和業(yè)務(wù)
2024-03-21 14:57:3841

不使用EUV突破1nm極限?美國推出全新光刻系統(tǒng),分辨率0.768nm!

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)最近,一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1,據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0.768nm,這大約是兩個硅原子的寬度
2022-09-27 08:19:003532

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