盡管日韓貿(mào)易沖突持續(xù)延燒,但三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇依然將如期舉行。屆時三星將展示自家先進制程技術(shù),并提供用于生產(chǎn)3納米以下芯片、名為“環(huán)繞閘極”(GAA)技術(shù)的制程套件。三星稱在GAA技術(shù)領(lǐng)先全球晶圓代工龍頭臺積電一年,更超前英特爾(Intel)兩到三年。
韓國媒體BusinessKorea報導(dǎo),三星28日宣布,2019年“三星晶圓代工論壇”(SFF)將如期于9月4日在東京舉行,且已于26日在網(wǎng)站上開始受理報名。在日韓貿(mào)易緊張不斷升高之際,業(yè)界正懷疑這場論壇能否如期在東京舉行,三星這項決定消弭了外界的疑慮。
產(chǎn)業(yè)專家分析,三星想要傳達的訊息是,盡管面臨日本的“斷貨”威脅,三星電子旗下的晶圓代工事業(yè)不受中斷。
報導(dǎo)指出,三星將展示自家納米制程技術(shù),并提供名為“環(huán)繞閘極”(GAA)技術(shù)的制程套件。GAA技術(shù)將用于3納米、甚至更精密的制程技術(shù)。
日本在4日加強管制三項重要半導(dǎo)體原料的出口,其中,日制光刻膠為極紫外光(EUV)微影技術(shù)的關(guān)鍵材料,讓三星的晶圓代工部門首當其沖,也削弱與臺積電在7納米芯片的競逐能力。
EUV制程是三星欲在2030年于全球存儲器、無晶圓廠及晶圓代工業(yè)務(wù)穩(wěn)坐龍頭寶座的關(guān)鍵。在EUV制程與臺積電旗鼓相當?shù)娜请娮樱祚R加鞭量產(chǎn)7納米芯片,希望能借此提前進度超車臺積電。但日本本周非常有可能把韓國踢出“白色名單”,三星的高科技原料進口預(yù)料將更加受限。
三星預(yù)定未來幾個月完成位于華城的第一條EUV芯片產(chǎn)線,并計劃之后在京畿道平澤建設(shè)另一條EUV產(chǎn)線。如今,三星一名高端主管指出,“考量到當前情況,我們必須考慮投資新EUV產(chǎn)線的時機”。
三星電子自5月開始陸續(xù)在美國、上海及首爾舉辦晶圓代工論壇,待9月論壇落幕后,下一場將論壇于10月在德國慕尼黑登場。
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