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中芯國際接連取得突破,打破西方光刻機(jī)封鎖,勝利女神在招手!在我國半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi),一直存在著一個(gè)重大問題,那就是我國國產(chǎn)光刻機(jī)的精度僅為90nm,那么90nm精度的光刻機(jī)到底能夠干什么呢?用來制作手機(jī)芯片肯定是不行了,相比當(dāng)下最熱們的7nmEUV工藝,90nm光刻機(jī)做出來的芯片可能在功耗和性能上都差得很遠(yuǎn)。所以,我國90nm精密光刻機(jī)最多也只能用來制造一些電視芯片或者一些比較低端的智能設(shè)備芯片。
當(dāng)然了,相比荷蘭ASML公司領(lǐng)先世界的7nmEUV工藝,我國差得很遠(yuǎn),并且83nm的差距也不是一兩年就能追平的,但在我國眾多科技公司的努力下,西方國家的封鎖將持續(xù)不了多久了。
為什么這么說呢?原來,近段時(shí)間中科院放出了一條消息,那就是我國多個(gè)科技公司和中科院聯(lián)合研發(fā)出了一款22nm分辨率的光刻機(jī),該光刻機(jī)一旦實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),我國就能夠追回10年的差距。據(jù)透露,目前這款光刻機(jī)還處于實(shí)驗(yàn)測(cè)試階段,我國正加大對(duì)光刻機(jī)的研發(fā)投入。
在中科院傳來好消息的同時(shí),另一邊,中國的芯片“巨頭”中芯國際也傳來好消息。據(jù)中芯國際CEO梁孟松介紹,中芯國際目前已經(jīng)成功研發(fā)出了N+1工藝,說起這種工藝,就大有看頭了,因?yàn)榕c之前的14nm工藝相比,N+1工藝下的芯片無論是在性能還是在功耗比上都有很大的提升,而且這個(gè)提升已經(jīng)逐漸逼近臺(tái)積電的7nm工藝了。
要知道,在沒有EUV光刻機(jī)的情況,中芯國際能取得如此傲人的成績,可以說是非常不容易了。但中芯國際似乎還沒有放棄前進(jìn)的步伐,梁孟松透露,中芯國際還在繼續(xù)研發(fā)更強(qiáng)悍的N+2工藝,并且預(yù)計(jì)N+1工藝能在明年年底投產(chǎn)。
據(jù)統(tǒng)計(jì),中國每年進(jìn)口的芯片量占據(jù)了全球芯片總產(chǎn)量的60%,我們可以做出一個(gè)假設(shè),在中科院和中芯國際的技術(shù)成熟后,這60%的需求當(dāng)中將會(huì)有一半會(huì)被“中國制造”所取代,這也就意味著我國正逐步打破西方國家對(duì)光刻機(jī)以及芯片生產(chǎn)技術(shù)的封鎖,我國半導(dǎo)體行業(yè)即將迎來曙光,勝利女神在向我們招手!
(責(zé)任編輯:fqj)
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