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晶體管設(shè)計(jì)已達(dá)到基本尺寸限制

我快閉嘴 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 作者:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 2020-09-25 17:13 ? 次閱讀

過(guò)去幾十年,在摩爾定律的指導(dǎo)下,芯片中的晶體管數(shù)量大約每?jī)赡攴环>w管的微縮技術(shù)革新增加了晶體管的密度。摩爾定律在20世紀(jì)60年代首次被發(fā)現(xiàn),并一直延續(xù)到2010年代,至此以后,晶體管密度的發(fā)展開(kāi)始放緩。如今,主流芯片包含了數(shù)十億個(gè)晶體管,但如果摩爾定律能夠繼續(xù)按照當(dāng)時(shí)的速度發(fā)展下去,它們的晶體管數(shù)量將是現(xiàn)在的15倍。

每一代晶體管密度的增加,被稱(chēng)為“節(jié)點(diǎn)”。每個(gè)節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于晶體管的大?。ㄒ蚤L(zhǎng)度表示),允許晶體管密度相對(duì)于前一個(gè)節(jié)點(diǎn)增加一倍。晶圓廠在2019年開(kāi)始“風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)”,即進(jìn)行最新的5納米節(jié)點(diǎn)(“nm”)的實(shí)驗(yàn)生產(chǎn),預(yù)計(jì)在2020年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),之前領(lǐng)先的節(jié)點(diǎn)是7納米和10納米。

伴隨著摩爾定律衍生出來(lái)的是,由于較小的晶體管通常比較大的晶體管消耗更少的功率,所以隨著晶體管密度的增加,單位芯片面積的功耗保持恒定。但是,晶體管的功耗降低速度在2007年左右有所放緩。

效率和速度的改進(jìn)

遵循著摩爾定律的發(fā)展,自1960年代以來(lái),CPU速度已大大提高。較大的晶體管密度主要通過(guò)“頻率縮放”來(lái)提高速度,即,晶體管在1和0之間切換更快,以允許給定執(zhí)行單元在每秒內(nèi)進(jìn)行更多計(jì)算。由于較小的晶體管比較大的晶體管消耗的功率少,因此可以在不增加總功耗的情況下,提高晶體管的開(kāi)關(guān)速度。自1979年以來(lái)晶體管在密度,速度和效率方面的提高。

從1978年到1986年,頻率變化每年使速度增加22%。然后,從1986年到2003年,由于頻率擴(kuò)展和設(shè)計(jì)的改進(jìn),使得并行計(jì)算得以實(shí)現(xiàn),此時(shí),計(jì)算速度以每年52%的速度增長(zhǎng)。但隨著頻率擴(kuò)展變慢,多核設(shè)計(jì)支持的并行性在2003年到2011年之間只能提供23%的年加速。利用可用CPU并行度的最后剩余部分,在2011年到2015年之間帶來(lái)了12%的年提速,之后CPU速度的增長(zhǎng)速度放緩至每年僅增加3%。

效率也大大提高了由于晶體管尺寸的減小降低了每個(gè)晶體管的功耗,在2000年之前,芯片峰值使用期間的整體CPU效率每1.57年翻一番。從那以后,由于晶體管功率降低的速度減慢,效率每2.6年才提高一倍,相當(dāng)于每年僅提高30%的效率。

隨著晶體管的縮小和密度的增加,使得新的芯片設(shè)計(jì)成為可能,同時(shí),也進(jìn)一步提高了效率和速度。首先,CPU可以針對(duì)不同功能,優(yōu)化的更多不同類(lèi)型的執(zhí)行單元。其次,更多的片內(nèi)存儲(chǔ)器可以減少對(duì)訪問(wèn)較慢的片外存儲(chǔ)器的需要。諸如DRAM芯片之類(lèi)的存儲(chǔ)芯片同樣可以集成更多的內(nèi)存。第三,與串行計(jì)算的體系架構(gòu)相比,CPU可以為實(shí)現(xiàn)并行計(jì)算提供更多的空間。同時(shí),如果增加晶體管密度可以使CPU更小,那么一個(gè)設(shè)備當(dāng)中就可以包含多個(gè)CPU(也稱(chēng)為多個(gè)“核”),而每個(gè)CPU可以同時(shí)運(yùn)行不同的計(jì)算。

在20世紀(jì)90年代,因?yàn)樾酒O(shè)計(jì)公司很難通過(guò)快速增加晶體管的可用性來(lái)開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)可能性,因而,設(shè)計(jì)改進(jìn)往往落后于晶體管密度的改進(jìn)。為了克服這一瓶頸,設(shè)計(jì)公司相對(duì)更關(guān)注相對(duì)落后的節(jié)點(diǎn),將大量芯片設(shè)計(jì)的制造工作外包給國(guó)外的低薪工程師,重復(fù)使用以前設(shè)計(jì)的部分(“IP核心”),并使用EDA軟件將高級(jí)抽象設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為具體的晶體管級(jí)設(shè)計(jì)。

晶體管設(shè)計(jì)已達(dá)到基本尺寸限制

晶體管微縮到只有幾個(gè)原子厚的尺寸,它們正迅速接近物理極限。適用于小尺寸的物理問(wèn)題也使得晶體管在進(jìn)行進(jìn)一步的收縮時(shí)更具挑戰(zhàn)性。第一個(gè)重大變化出現(xiàn)在21世紀(jì)初,當(dāng)時(shí)晶體管的絕緣層變得非常薄,以至于電流開(kāi)始從絕緣層上漏出。對(duì)此,工程師使用了更多的新型絕緣材料,即使其他組件繼續(xù)收縮,絕緣層也不再收縮。

而后,晶體管又進(jìn)行了更劇烈的結(jié)構(gòu)變化。從20世紀(jì)60年代到2011年,晶體管都是一層一層疊放在一起制造的。然而,即使是更絕緣的材料也不能防止漏電。因此,工程師將更復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)代替了這種平面布置。從2011年發(fā)布的22nm節(jié)點(diǎn)到當(dāng)前的5 nm節(jié)點(diǎn),這種新結(jié)構(gòu)一直占據(jù)主導(dǎo)地位。但是,由5nm繼續(xù)向下發(fā)展時(shí),即使這種結(jié)構(gòu)也會(huì)出現(xiàn)漏電的情況。因此,工程師為未來(lái)的3nm節(jié)點(diǎn)開(kāi)發(fā)了一種全新的結(jié)構(gòu)。它是由幾個(gè)原子組成的,進(jìn)一步減小了晶體管的厚度,使得先進(jìn)工藝向3nm發(fā)展成為了可能。

今天,CPU的不斷進(jìn)步和領(lǐng)先于專(zhuān)用芯片的趨勢(shì)正在走向終結(jié)。技術(shù)難題正在以比半導(dǎo)體市場(chǎng)增長(zhǎng)更快的速度增加摩爾定律改進(jìn)的成本。最終,這些經(jīng)濟(jì)和技術(shù)因素表明,實(shí)際晶體管密度將進(jìn)一步落后于摩爾定律所預(yù)測(cè)的水平,并且我們可能會(huì)面臨晶體管密度沒(méi)有進(jìn)一步得到顯著改善的挑戰(zhàn)。

晶體管開(kāi)關(guān)速度的不斷提高和晶體管功耗的降低使CPU優(yōu)于專(zhuān)用芯片。在通用芯片占主導(dǎo)地位的時(shí)代,專(zhuān)用芯片無(wú)法產(chǎn)生足夠的銷(xiāo)售量來(lái)彌補(bǔ)高昂的設(shè)計(jì)成本。專(zhuān)用芯片的成本高昂,是因?yàn)閷?zhuān)用芯片從設(shè)計(jì)上就是在針對(duì)CPU的特定任務(wù)進(jìn)行改進(jìn)。當(dāng)快速的頻率縮放仍可帶來(lái)巨大的速度和效率優(yōu)勢(shì)時(shí),專(zhuān)用CPU的運(yùn)算能力很快就被下一代CPU所抵消,下一代CPU的成本分散在數(shù)百萬(wàn)個(gè)芯片的銷(xiāo)售中。如今,摩爾定律的放慢意味著CPU不能再像以前那樣進(jìn)行迅速迭代。在這種情況下,專(zhuān)用芯片的使用壽命得以延長(zhǎng),使其更具經(jīng)濟(jì)效益。

成本的增長(zhǎng)速度快于半導(dǎo)體市場(chǎng)

在細(xì)節(jié)上的技術(shù)困難不斷增加,推高了整個(gè)供應(yīng)鏈的高端半導(dǎo)體研發(fā)成本。半導(dǎo)體行業(yè)的不同行業(yè)基于各自的優(yōu)勢(shì),在不同的地區(qū)進(jìn)行實(shí)現(xiàn)了本地化。

價(jià)值最高的行業(yè),尤其是SEM、晶圓廠和芯片設(shè)計(jì)行業(yè),其成本增長(zhǎng)和整合的速度特別快。半導(dǎo)體制造設(shè)備成本(11%)和每個(gè)芯片的設(shè)計(jì)成本(24%)的年增長(zhǎng)率都高于半導(dǎo)體市場(chǎng)(7%)。而半導(dǎo)體研發(fā)人員的數(shù)量則又以每年7%的速度增長(zhǎng)。

自本世紀(jì)初以來(lái),半導(dǎo)體制造成本(包括晶圓廠和SEM)的年增長(zhǎng)率一直保持在11%。固定成本的增長(zhǎng)速度快于可變成本,這造成了更高的壁壘,擠壓了晶圓廠的利潤(rùn),并導(dǎo)致致力于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的晶圓廠代工廠數(shù)量的正在減少。圖2顯示臺(tái)積電(TSMC)在晶圓廠的建造上投入的成本增加最大。目前,在5納米節(jié)點(diǎn)上只有兩家芯片制造商:臺(tái)灣的臺(tái)積電(TSMC)和韓國(guó)的三星(Samsung)。英特爾緊隨其后,計(jì)劃推出7和5納米節(jié)點(diǎn);GlobalFoundries和中芯國(guó)際(SMIC)則推出了14納米。

***是眾多半導(dǎo)體設(shè)備當(dāng)中最昂貴和最復(fù)雜的部分,其成本已從1979年的45萬(wàn)美元/件上升到2019年的1.23億美元/件。目前只有荷蘭的ASML光刻公司能夠制造最小5納米晶體管的光刻設(shè)備。除此之外,尼康在日本是唯一可生產(chǎn)大量的***的企業(yè),其出售的設(shè)備使用于≤90納米的制程工藝上。最終,在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上增加光刻設(shè)備和晶圓廠的研發(fā)成本的企業(yè),可以從緩慢增長(zhǎng)的全球半導(dǎo)體市場(chǎng)收回成本。

同時(shí),多項(xiàng)估計(jì)表明芯片設(shè)計(jì)成本呈指數(shù)級(jí)上升。當(dāng)與臺(tái)積電的節(jié)點(diǎn)引入日期相匹配時(shí),根據(jù)國(guó)際商業(yè)策略(IBS),每個(gè)節(jié)點(diǎn)的設(shè)計(jì)成本每年增加24%。由于它們的通用用途,CPU具有規(guī)模經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì),使美國(guó)公司IntelAMD能夠在服務(wù)器和臺(tái)式機(jī)和筆記本電腦等個(gè)人電腦(PC)的CPU設(shè)計(jì)方面保持長(zhǎng)達(dá)數(shù)十年的雙寡頭壟斷地位。

隨著半導(dǎo)體復(fù)雜性的增加,對(duì)高端人才的需求推動(dòng)了設(shè)計(jì)和制造成本的超支。通過(guò)將半導(dǎo)體研發(fā)支出除以高技能工人的工資來(lái)衡量,研究人員的有效人數(shù)從1971年到2015年增長(zhǎng)了18倍。換言之,摩爾定律要求2015年的人類(lèi)研究工作量是1971年的18倍,每年增長(zhǎng)7%。

每個(gè)晶體管的總體設(shè)計(jì)和制造成本可能是衡量晶體管密度改進(jìn)是否經(jīng)濟(jì)的最佳指標(biāo)。這個(gè)成本在歷史上每年下降了20-30%左右。一些分析師稱(chēng),這種下降已經(jīng)超過(guò)了2011年引入的28nm節(jié)點(diǎn),而其他人則不同意。

半導(dǎo)體市場(chǎng)的增長(zhǎng)速度已經(jīng)超過(guò)了世界經(jīng)濟(jì)的3%。目前,半導(dǎo)體行業(yè)占全球經(jīng)濟(jì)產(chǎn)出的0.5%。部分由于美國(guó)和中國(guó)之間的貿(mào)易戰(zhàn)爭(zhēng),半導(dǎo)體市場(chǎng)在2019年縮水,然而,它典型地呈現(xiàn)出逐年鋸齒狀的增長(zhǎng)軌跡,因此多年的放緩更能表明長(zhǎng)期增長(zhǎng)的放緩。

每個(gè)節(jié)點(diǎn)的芯片生產(chǎn)

鑒于芯片生產(chǎn)的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)挑戰(zhàn),新節(jié)點(diǎn)的引入比過(guò)去更慢。摩爾定律的標(biāo)準(zhǔn)承擔(dān)者英特爾確實(shí)減慢了節(jié)點(diǎn)的引入。臺(tái)積電在其前任產(chǎn)品推出兩年后推出了32和22 nm節(jié)點(diǎn),這與摩爾定律保持一致,但在22 nm推出三年后又推出了14 nm,而14 nm節(jié)點(diǎn)芯片之后又推出了10 nm。然而,領(lǐng)先的代工服務(wù)供應(yīng)商臺(tái)積電(TSMC)并沒(méi)有放緩節(jié)點(diǎn)的推出。

領(lǐng)先的節(jié)點(diǎn)芯片銷(xiāo)量的趨勢(shì)并不意味著新節(jié)點(diǎn)的采用會(huì)大幅放緩。從2002年到2016年,臺(tái)積電的領(lǐng)先節(jié)點(diǎn)穩(wěn)定地代表了其約20%的收入。2016年和2018年分別引入的臺(tái)積電10nm和7nm節(jié)點(diǎn)也分別達(dá)到了25%和35%,如圖4所示。

臺(tái)積電新節(jié)點(diǎn)的穩(wěn)定銷(xiāo)售率(盡管比2000年代初期要慢)可能掩蓋了整個(gè)代工服務(wù)市場(chǎng)正在減緩采用這一事實(shí)。在過(guò)去的十年中,臺(tái)積電控制了全球約一半的晶圓代工市場(chǎng)份額。生產(chǎn)成本的上升正在減少領(lǐng)先節(jié)點(diǎn)的公司數(shù)量。例如,在此期間,Global Foundries因無(wú)法前進(jìn)到14 nm以上而退出。如果這種趨勢(shì)伴隨著當(dāng)前領(lǐng)先節(jié)點(diǎn)的晶圓廠產(chǎn)能低于以前領(lǐng)先節(jié)點(diǎn)的晶圓廠產(chǎn)能,則表明摩爾定律正在放緩。

出于幾個(gè)原因,晶圓廠仍然在舊節(jié)點(diǎn)上制造芯片。晶圓廠在建造領(lǐng)先晶圓廠或?qū)⑴f晶圓廠升級(jí)為在較新節(jié)點(diǎn)制造晶片時(shí),會(huì)產(chǎn)生巨大成本,因此不可能立即將世界晶圓廠產(chǎn)能轉(zhuǎn)移至領(lǐng)先節(jié)點(diǎn)。相反,工廠繼續(xù)以較低的價(jià)格出售舊節(jié)點(diǎn),特別是向以購(gòu)買(mǎi)成本為主要標(biāo)準(zhǔn)的客戶(hù)出售舊節(jié)點(diǎn)。其中許多客戶(hù)可能不太關(guān)心效率,因?yàn)樗麄兊膽?yīng)用程序不是計(jì)算密集型的。類(lèi)似地,它們的應(yīng)用程序可能不需要很快的速度,或者在舊芯片上以足夠快的速度完成計(jì)算。此外,一些專(zhuān)門(mén)的低容量產(chǎn)品(如模擬芯片)需要后續(xù)節(jié)點(diǎn)來(lái)保持成本效益。

摩爾定律變慢時(shí)芯片的改進(jìn)

隨著摩爾定律(Moore’s Law)的放緩,芯片在兩方面繼續(xù)改進(jìn):一是更小晶體管的效率和速度的提高,二是利用更小晶體管尺寸所支持的更大數(shù)量晶體管的先進(jìn)芯片設(shè)計(jì)的效率和速度的提高。這些先進(jìn)的設(shè)計(jì)包括在一個(gè)芯片上封裝更專(zhuān)業(yè)的核心的能力。

幸運(yùn)的是,一些速度和效率的改進(jìn)仍然是可用的,但是有相當(dāng)大的技術(shù)挑戰(zhàn)。大約在2004年,當(dāng)達(dá)到65nm節(jié)點(diǎn)時(shí),晶體管密度的改善在降低晶體管功耗和提高晶體管開(kāi)關(guān)速度(頻率縮放)方面變慢。盡管如此,晶圓廠報(bào)告稱(chēng),晶體管級(jí)別的創(chuàng)新,而非設(shè)計(jì)級(jí)別的創(chuàng)新,將繼續(xù)提供節(jié)點(diǎn)與節(jié)點(diǎn)之間一致(盡管速度較慢)的改進(jìn)。

臺(tái)積電和三星聲稱(chēng),他們的5nm節(jié)點(diǎn)芯片在功率保持不變的情況下,其7nm節(jié)點(diǎn)芯片的晶體管速度分別提高了15%和10%,而在晶體管速度保持不變的情況下,其功耗降低了30%和20%。臺(tái)積電所聲稱(chēng)的在90nm和5nm之間的恒定效率下的節(jié)點(diǎn)到節(jié)點(diǎn)晶體管速度改善的下降趨勢(shì),但是在臺(tái)積電所聲稱(chēng)的晶體管功率降低改善的下降趨勢(shì)是平緩的。

三星在兩項(xiàng)指標(biāo)上的數(shù)據(jù)都在14nm到5nm之間呈下降趨勢(shì),但是我們?nèi)鄙俅笥?4nm的節(jié)點(diǎn)的數(shù)據(jù)。英特爾發(fā)現(xiàn)晶體管的速度略有下降,但從65nm到10nm,節(jié)點(diǎn)到節(jié)點(diǎn)的晶體管功率降低的改進(jìn)仍在繼續(xù)。英特爾還沒(méi)有推出其7nm節(jié)點(diǎn)。這些速度和效率的提高既有利于像CPU這樣的通用芯片,也有利于像AI芯片這樣的專(zhuān)用芯片。

芯片設(shè)計(jì)的改進(jìn)現(xiàn)在提供了降低CPU效率和速度的改進(jìn)。按節(jié)點(diǎn)合并了CPU和晶體管的速度和效率測(cè)量。對(duì)于CPU,我們使用圖1中的數(shù)據(jù)。對(duì)于晶體管,我們使用來(lái)自圖5和圖6的臺(tái)積電和英特爾節(jié)點(diǎn)的數(shù)據(jù)。這些消息來(lái)源在速度和效率改進(jìn)方面大致一致。臺(tái)積電和英特爾報(bào)告的來(lái)自晶體管級(jí)創(chuàng)新的改進(jìn),通常與來(lái)自晶體管級(jí)和設(shè)計(jì)級(jí)創(chuàng)新的CPU改進(jìn)相匹配。粗略的匹配表明,晶體管級(jí)的創(chuàng)新在過(guò)去15年里一直在CPU效率和速度改進(jìn)方面發(fā)揮著重要作用,至少在經(jīng)過(guò)測(cè)量的CPU基準(zhǔn)測(cè)試中是這樣。然而,高效的設(shè)計(jì)仍然發(fā)揮著作用。

改進(jìn)的晶體管密度可實(shí)現(xiàn)專(zhuān)業(yè)化

除了改善晶體管功能外,增加晶體管密度還能使芯片包含更多種類(lèi)的專(zhuān)用電路,用于執(zhí)行不同類(lèi)型的計(jì)算。一個(gè)芯片可以調(diào)用不同的專(zhuān)用電路,這取決于所請(qǐng)求的計(jì)算。這些電路可以包括一些優(yōu)化的AI算法和其他專(zhuān)門(mén)針對(duì)不同類(lèi)型的計(jì)算。

除了使用這些專(zhuān)用電路外,近年來(lái)在通用芯片上增加更多的晶體管幾乎沒(méi)有什么好處。從理論上講,更多的晶體管可以使CPU包含更多的電路,從而并行執(zhí)行更多的計(jì)算。然而,并行性的加速通常受到串行計(jì)算時(shí)間百分比的限制,串行計(jì)算一個(gè)接一個(gè)地執(zhí)行,因?yàn)橐粋€(gè)計(jì)算的結(jié)果需要啟動(dòng)另一個(gè)計(jì)算。相反,并行計(jì)算是同時(shí)進(jìn)行的。即使只有1%的算法計(jì)算時(shí)間需要串行計(jì)算,也會(huì)浪費(fèi)45%的處理器能量。不幸的是,大多數(shù)應(yīng)用程序至少需要一些串行計(jì)算,并且隨著串行化百分比的增加,處理器的能量浪費(fèi)變得過(guò)高。自2000年中期以來(lái),隨著其他設(shè)計(jì)改進(jìn)的放緩,擁有越來(lái)越多核心的多核設(shè)計(jì)開(kāi)始激增。但是多核設(shè)計(jì)也不能有效地并行化算法,這需要在串行計(jì)算上花費(fèi)大量的時(shí)間。
責(zé)任編輯:tzh

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    CMOS晶體管和MOSFET晶體管的區(qū)別

    CMOS晶體管和MOSFET晶體管在電子領(lǐng)域中都扮演著重要角色,但它們?cè)诮Y(jié)構(gòu)、工作原理和應(yīng)用方面存在顯著的區(qū)別。以下是對(duì)兩者區(qū)別的詳細(xì)闡述。
    的頭像 發(fā)表于 09-13 14:09 ?321次閱讀

    PNP晶體管符號(hào)和結(jié)構(gòu) 晶體管測(cè)試儀電路圖

    PNP晶體管是一種雙極性晶體管,用于電子電路中放大、開(kāi)關(guān)和控制電流的器件。與NPN晶體管相對(duì)應(yīng),PNP晶體管的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)在于其三個(gè)不同的半導(dǎo)體區(qū)域:正極(P型)、負(fù)極(N型)、正極(P型
    的頭像 發(fā)表于 07-01 17:45 ?1050次閱讀
    PNP<b class='flag-5'>晶體管</b>符號(hào)和結(jié)構(gòu) <b class='flag-5'>晶體管</b>測(cè)試儀電路圖

    晶體管功率繼電器的基本介紹

    來(lái)控制電路的通斷。當(dāng)輸入信號(hào)達(dá)到設(shè)定的閾值時(shí),晶體管導(dǎo)通,使輸出端與電源或負(fù)載連接,實(shí)現(xiàn)電路的通斷控制。 主要類(lèi)型 晶體管功率繼電器主要分為NPN型和PNP型兩種。NPN型晶體管在基極
    的頭像 發(fā)表于 06-28 09:13 ?367次閱讀

    降壓開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器如何使用串聯(lián)晶體管

    例如降壓轉(zhuǎn)換器可以將+12伏轉(zhuǎn)換為+5伏。 降壓開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器是一種直流-直流轉(zhuǎn)換器,也是簡(jiǎn)單、的開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器類(lèi)型之一。當(dāng)在開(kāi)關(guān)模式電源配置中使用時(shí),降壓開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器使用串聯(lián)晶體管或功率 MOSFET
    發(fā)表于 06-18 14:19

    如何提高晶體管的開(kāi)關(guān)速度,讓晶體管快如閃電

    跑得快首先就得讓晶體管減肥,也就是減小晶體管尺寸。就像短跑運(yùn)動(dòng)員的肌肉緊湊有力,小尺寸晶體管電荷走的路程短,自然速度就快。然后,咱們談?wù)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 04-03 11:54 ?510次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>晶體管</b>的開(kāi)關(guān)速度,讓<b class='flag-5'>晶體管</b>快如閃電

    什么是達(dá)林頓晶體管?達(dá)林頓晶體管的基本電路

    達(dá)林頓晶體管(Darlington Transistor)也稱(chēng)為達(dá)林頓對(duì)(Darlington Pair),是由兩個(gè)或更多個(gè)雙極性晶體管(或其他類(lèi)似的集成電路或分立元件)組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)。通過(guò)這種結(jié)構(gòu),第一個(gè)雙極性晶體管放大的電流
    的頭像 發(fā)表于 02-27 15:50 ?3763次閱讀
    什么是達(dá)林頓<b class='flag-5'>晶體管</b>?達(dá)林頓<b class='flag-5'>晶體管</b>的基本電路

    晶體管的偏置定義和方式

    晶體管的偏置是指為了使晶體管正常工作,需要給晶體管的基極或發(fā)射極加上適當(dāng)?shù)碾妷?,從而?b class='flag-5'>晶體管的工作點(diǎn)處于穩(wěn)定的狀態(tài)。
    的頭像 發(fā)表于 02-05 15:00 ?1397次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>的偏置定義和方式

    有什么方法可以提高晶體管的開(kāi)關(guān)速度呢?

    有什么方法可以提高晶體管的開(kāi)關(guān)速度呢? 電子行業(yè)一直在尋求提高晶體管速度的方法,以滿(mǎn)足高速和高性能計(jì)算需求。下面將詳細(xì)介紹幾種可以提高晶體管開(kāi)關(guān)速度的方法: 1. 尺寸縮?。?/div>
    的頭像 發(fā)表于 01-12 11:18 ?1028次閱讀

    晶體管是怎么做得越來(lái)越小的?

    上次我的文章解釋了所謂的7nm不是真的7nm,是在實(shí)際線寬無(wú)法大幅縮小的前提下,通過(guò)改變晶體管結(jié)構(gòu)的方式縮小晶體管實(shí)際尺寸來(lái)達(dá)到等效線寬的效果那么新的問(wèn)題來(lái)了:從平面
    的頭像 發(fā)表于 12-19 16:29 ?548次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>是怎么做得越來(lái)越小的?

    探討晶體管尺寸縮小的原理

    從平面晶體管結(jié)構(gòu)(Planar)到立體的FinFET結(jié)構(gòu),我們比較容易理解晶體管尺寸縮小的原理。
    發(fā)表于 12-02 14:04 ?826次閱讀
    探討<b class='flag-5'>晶體管</b><b class='flag-5'>尺寸</b>縮小的原理

    晶體管是如何工作的?BJT和MOSFET晶體管區(qū)別

    晶體管的工作原理就像電子開(kāi)關(guān),它可以打開(kāi)和關(guān)閉電流。一個(gè)簡(jiǎn)單的思考方法就是把晶體管看作沒(méi)有任何動(dòng)作部件的開(kāi)關(guān),晶體管類(lèi)似于繼電器,因?yàn)槟憧梢杂盟鼇?lái)打開(kāi)或關(guān)閉一些東西。當(dāng)然了晶體管也可以
    發(fā)表于 11-29 16:54 ?536次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>是如何工作的?BJT和MOSFET<b class='flag-5'>晶體管</b>區(qū)別

    如何選擇分立晶體管?

    來(lái)至網(wǎng)友的提問(wèn):如何選擇分立晶體管?
    發(fā)表于 11-24 08:16

    如何避免晶體管損壞?

    如何避免晶體管損壞? 晶體管是半導(dǎo)體器件的一種,應(yīng)用廣泛,可以在計(jì)算機(jī)、電視、手機(jī)等各種設(shè)備中使用。晶體管工作時(shí)非常穩(wěn)定,但是如果不注意使用、維護(hù),很容易損壞。下面為您介紹幾種避免晶體管
    的頭像 發(fā)表于 10-31 10:37 ?638次閱讀