作者:Alex Lidow,Michael de Rooij,Andreas Reiter
氮化鎵(GaN)功率器件已投入生產(chǎn)10多年,除了性能和成本方面的改進(jìn)外,GaN技術(shù)具有將多個(gè)器件集成在同一襯底上的本征特性,這將極有可能給電源轉(zhuǎn)換市場(chǎng)帶有巨大影響。這種能力將使單片電源系統(tǒng)能夠以更簡(jiǎn)單,更高效,更具成本效益的方式在單個(gè)芯片上進(jìn)行設(shè)計(jì)。
基于GaN的芯片已經(jīng)歷了集成的各個(gè)階段,從單純的分立式器件到單片式半橋器件,再到包含單片集成驅(qū)動(dòng)器的功率FET。最近又發(fā)展到單片式電源階段,集成了功率FET、驅(qū)動(dòng)器、電平轉(zhuǎn)換電路、邏輯模塊和保護(hù)功能。
第一階段:?jiǎn)纹桨霕?/strong>
大約六年前,宜普電源轉(zhuǎn)換公司(EPC)開(kāi)始了單片式半橋集成的第一階段。他們進(jìn)行這一步的原因很有說(shuō)服力:半橋是電源轉(zhuǎn)換中最常用的構(gòu)建模塊。如圖1所示,第一批IC器件將上橋晶體管和下橋晶體管都放置在同一個(gè)襯底上。集成的優(yōu)勢(shì)包括尺寸上的減小和成本上的降低,并且由于兩個(gè)晶體管的緊密耦合,寄生共源電感也被降低了。并且,提高開(kāi)關(guān)速度這一優(yōu)點(diǎn)使開(kāi)關(guān)電源轉(zhuǎn)換系統(tǒng)更快,更高效。
圖1 :(左)集成式半橋的橫截面圖和(右)選擇30 V – 100 V對(duì)稱和非對(duì)稱半橋的芯片裸片圖像。
圖2比較了降壓轉(zhuǎn)換器中分立器件與單片半橋器件在12 V輸入電壓和1.2 V輸出電壓下,以1 MHz頻率工作的性能表現(xiàn)。藍(lán)線表示兩個(gè)GaN分立晶體管,利用非常高效的PCB布線,由硅驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)的結(jié)果。綠線代表單片式半橋器件的性能表現(xiàn)。
圖2:12 V輸入電壓和1.2 V輸出電壓下,以1 MHz頻率工作的GaN分立(藍(lán)線)和GaN單片半橋(綠線)的性能表現(xiàn)比較。
基于多種原因,單片式方案的效率要高得多。第一個(gè)原因是,電源環(huán)路電感已從約400 pH減小到約200 pH的范圍,而當(dāng)以兆赫茲工作時(shí),這會(huì)產(chǎn)生重大的影響。第二個(gè)原因是,在非對(duì)稱降壓轉(zhuǎn)換器中,上橋器件或控制器件的運(yùn)行溫度往往比下橋器件高。當(dāng)這兩個(gè)器件在同一芯片上時(shí),它們的熱量相互平衡,可以實(shí)現(xiàn)更低的峰值溫度和更高的整體效率。
第二階段:eGaN FET加驅(qū)動(dòng)器
在GaN中,柵極和漏極之間的距離很大程度上決定了器件可以承受的電壓。如圖3所示,通過(guò)縮小該距離,可以制造出更小的器件,這也使得非常簡(jiǎn)單的低壓邏輯和模擬器件可以與大功率高壓器件放置在同一芯片上。
圖3:(上)集成eGaN FET和驅(qū)動(dòng)器的橫截面圖(下)集成eGaN FET和驅(qū)動(dòng)器的ToF裸片圖像。
圖3下方展示了ToF IC中eGaN FET以及驅(qū)動(dòng)器集成的示例。在芯片的上方,可以看到帶有輸入邏輯的電路以及驅(qū)動(dòng)器。在下方,可以看到輸出FET。該器件將獲取邏輯信號(hào),并發(fā)出很高的電流和非常非常短的脈沖,可在ToF激光雷達(dá)應(yīng)用中發(fā)射激光。這是一個(gè)很好的例子,說(shuō)明了如何將驅(qū)動(dòng)器和GaN場(chǎng)效應(yīng)晶體管集成在一個(gè)芯片上,以生成功能強(qiáng)大、速度非常快的可被常規(guī)邏輯門(mén)驅(qū)動(dòng)的IC。
圖4顯示了這種集成的結(jié)果。圖中的粉紅色線代表通過(guò)器件的漏極電流。它顯示了一個(gè)10 A的脈沖,其寬度約為1.94 ns,上升時(shí)間為380 ps,下降時(shí)間為525 ps。當(dāng)2.1 V的邏輯輸入信號(hào)(綠線)輸入設(shè)備時(shí),輸入信號(hào)和輸出之間會(huì)有大約1 ns的延遲。這其實(shí)非??炝?!該器件可以從容地以100 MHz的脈沖頻率運(yùn)行。
圖4: 2.1 V邏輯電平輸入的單脈沖波形。黃色線為輸入(1 V / div),粉紅色線為漏極電流(5 V / div或2.5 A / div)。
第三階段:ePower階段
在2019年初,如圖5所示,驅(qū)動(dòng)功能和單片半橋與電平轉(zhuǎn)換器、同步升壓電路、保護(hù)和輸入邏輯一起集成在一個(gè)硅基GaN襯底上。圖6為該芯片的裸片示意圖。ePower作為完整的電源,可以幾兆赫茲的頻率驅(qū)動(dòng),并由一個(gè)簡(jiǎn)單的下橋CMOS IC控制,并且只需添加幾個(gè)無(wú)源元件就可以構(gòu)成一個(gè)完整的直流穩(wěn)壓器。與分立式方案相比,該解決方案在尺寸上小了35%,元件的數(shù)量減少了一半。集成的電源所需的設(shè)計(jì)時(shí)間要少得多,因?yàn)樗皇呛?jiǎn)單的邏輯輸入和電源輸出。
圖5:eGaN集成電源的橫截面圖。
圖6:ePower 電源EPC2152的芯片裸片圖。
圖7展示了在一個(gè)48 – 12 降壓轉(zhuǎn)換器中,這種單片式電源(如圖5和6所示)在1 MHz和2.5 MHz下工作時(shí)的效率。綠線表示單片電源的效率,藍(lán)線表示使用FET分立式實(shí)現(xiàn)的效率(具有與單片IC相同的特性,并使用了非常高效的布線,將分立驅(qū)動(dòng)器IC放置在非??拷麱ET的位置)。圖中的實(shí)線表示器件在1 MHz頻率下工作,并且單片IC的性能明顯優(yōu)于分立式實(shí)現(xiàn)方案。
圖7:在一個(gè) 48 V輸入,12 V輸出的降壓轉(zhuǎn)換器中,以1 MHz(實(shí)線)和2.5 MHz(虛線)頻率工作的 GaN分立(藍(lán)線)和GaN單片半橋(綠線)的性能比較。黑色X代表同類(lèi)最佳的MOSFET在1MHz時(shí)的性能。
單片式電源擁有更高性能有三個(gè)原因。首先,通過(guò)單片半橋設(shè)計(jì),可顯著降低電源環(huán)路電感。其次,通過(guò)將驅(qū)動(dòng)放在距離FET非常近的同一芯片上,可以消除柵極環(huán)路電感。最后,將所有這些元件放在一起將形成一個(gè)“熱浴盆”,可以均勻所有器件的溫度,因此產(chǎn)生一個(gè)平均較低的凈溫度。圖中的虛線代表的是相同器件在2.5 MHz頻率下的性能表現(xiàn)。黑色X代表老化的MOSFET在此應(yīng)用中可以達(dá)到的最佳性能。
除了ToF示例外,如圖8所示,集成電源已經(jīng)在三相電機(jī)驅(qū)動(dòng)應(yīng)用中進(jìn)行了測(cè)試。該應(yīng)用的優(yōu)勢(shì)在于能夠?yàn)殡姍C(jī)驅(qū)動(dòng)提供更高的開(kāi)關(guān)頻率,從而減小了尺寸(此方案僅為45mm 55mm)、減輕了重量、降低了聽(tīng)得見(jiàn)的噪音,并提供了更高的電機(jī)定位精度。電機(jī)的定位對(duì)于許多機(jī)器人裝備至關(guān)重要。
圖8:使用ePower Stage EPC2152的500 W三相電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路的照片(圈出部分為ePower Stage)。
GaN的未來(lái)
圖9顯示了eGaN技術(shù)進(jìn)程的摘要。 如圖9頂部所示,EPC正處在分立式平臺(tái)中第“5+”代。如圖9底部所示,集成電路從單片式半橋開(kāi)始,隨后進(jìn)行擴(kuò)展,以增加更多功能和特性。
前面討論的單片式電源IC與基于硅MOSFET的多芯片DrMOS模塊具有相同的基本功能,但還具有更高的電壓、更高的開(kāi)關(guān)速度、更小尺寸和更低的成本等優(yōu)勢(shì)。
這些第一代電源僅包含電容器、電阻器和橫向n溝道FET。后來(lái)很快又包含了電流和溫度在內(nèi)的其它傳感器件,以及諸如基準(zhǔn)電壓源、比較器和運(yùn)算放大器的電路模塊,從而在單個(gè)芯片上構(gòu)建集成的控制器和輸出級(jí)。還可以集成多級(jí)拓?fù)?,以便用低電壓電源器件?shí)現(xiàn)較高的輸入電壓。
圖9:GaN技術(shù)分立和集成開(kāi)發(fā)的路線圖。
幾年之后,分立技術(shù)將與集成電路融合。隨著分立式元件獲得越來(lái)越高的電源密度,它們將不再可能從器件的凸塊結(jié)構(gòu)中抽取電流。因此,小型的,多芯片的,多功能的集成電路將會(huì)是必要的。在未來(lái)的三到四年內(nèi),電源轉(zhuǎn)換中的分立式晶體管將逐漸過(guò)時(shí),設(shè)計(jì)人員在構(gòu)建電源系統(tǒng)時(shí)將選擇集成解決方案。
集成的挑戰(zhàn)
在實(shí)現(xiàn)完整的GaN片上系統(tǒng)解決方案之前,還需要克服一些挑戰(zhàn)。首先,GaN中還沒(méi)有p溝道器件,這使得電路設(shè)計(jì)更加困難,尤其是可能無(wú)法制造出好的CMOS電路。其次,預(yù)先設(shè)計(jì)的電路模塊更少。
GaN是一種相對(duì)較新的技術(shù),因此沒(méi)有龐大的電路模塊庫(kù)可以簡(jiǎn)單地被“剪切和粘貼”使用。缺少電路模塊庫(kù)使得設(shè)計(jì)階段更長(zhǎng),因?yàn)樵O(shè)計(jì)過(guò)程需要更多的迭代,并且需要IC設(shè)計(jì)人員具有更高的技術(shù)水平。第三,分立式技術(shù)將繼續(xù)快速發(fā)展,GaN仍與其最大理論性能相差300倍之多。
如果集成電路(IC)平臺(tái)的增長(zhǎng)不能迅速跟上分立平臺(tái)的發(fā)展,那么IC將無(wú)法產(chǎn)出分立晶體管現(xiàn)在還具有的性能優(yōu)勢(shì)。因此,克服這些挑戰(zhàn)需要極速開(kāi)發(fā)工藝設(shè)計(jì)套件,以實(shí)現(xiàn)IC功能設(shè)計(jì)的自動(dòng)化以及設(shè)計(jì)套件的迭代,用來(lái)與快速的技術(shù)發(fā)展步伐保持同步。
總結(jié)
隨著新一代分立式器件的推出,eGaN技術(shù)正在迅速發(fā)展,這已成為新一代高效、小尺寸和低成本集成電路的平臺(tái)。 GaN集成電路可使產(chǎn)品更小、更快、更高效,且更易于設(shè)計(jì)。 GaN的崛起正在重新定義電源轉(zhuǎn)換,而這項(xiàng)偉大的新技術(shù)將對(duì)集成電路產(chǎn)生巨大的影響!
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