中國為什么造不出自己的光刻機?半導(dǎo)體設(shè)備究竟差在哪里

光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心裝備，其中包含了數(shù)以萬計的精密零件，被譽為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的一顆明珠”。

但這顆明珠卻長期為荷蘭阿斯麥（ASML）公司所壟斷，由于稀缺，一臺光刻機的售價可賣到數(shù)千萬美元甚至過億美元。對于5nm、7nm等高端芯片制造工藝，沒人可以繞開ASML進行生產(chǎn)。

近日，在第三屆上海進出口商品交易會上，ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波在接受采訪時透露，這些年來，他們已經(jīng)為中國的半導(dǎo)體客戶積累了700多臺裝機。第一臺光刻機于1988年進入中國，距今已有32年。

根據(jù)ASML的財務(wù)報告，在今年第二季度和第三季度，該公司向國內(nèi)地區(qū)銷售的光刻機占全球銷量的20%。目前，ASML已在中國設(shè)有12個辦事處，11個倉儲和物流中心，2個開發(fā)中心和1個培訓(xùn)中心，共有1000多名員工。

國產(chǎn)光刻機的缺失，不僅意味著每年中國企業(yè)要付出巨大代價去采購?fù)鈬?a target="_blank">產(chǎn)品，更代表了半導(dǎo)體工業(yè)已經(jīng)將自己的“命脈”拱手讓人。

那么中國為什么造不出自己的光刻機？中國的高端半導(dǎo)體設(shè)備究竟差在哪里？

前瞻產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2020年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場研究報告》指出，光刻機發(fā)展至今，已經(jīng)歷了5代產(chǎn)品的迭代，目前第五代EUV光刻機是未來光刻機技術(shù)發(fā)展的主要方向，目前ASML是全世界唯一一家能夠設(shè)計和制造EUV設(shè)備的廠商。

從中國市場來看，上海微電子裝備有限公司（SMEE）是我國國內(nèi)唯一能夠做光刻機的企業(yè)，其已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中，性能最好的能夠達到90nm的制程工藝。

但值得一提的是，在光刻機產(chǎn)業(yè)的上下游，不乏國產(chǎn)企業(yè)的身影。

盡管我國光刻機的發(fā)展與國際領(lǐng)先水平有著不小差距，但在半導(dǎo)體設(shè)備的其它細分領(lǐng)域已有了較大進展。

從國內(nèi)市場來看，刻蝕機是我國最具優(yōu)勢的半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，也是國產(chǎn)替代占比最高的重要半導(dǎo)體設(shè)備之一。目前我國主流設(shè)備中，去膠設(shè)備、刻蝕設(shè)備、熱處理設(shè)備、清洗設(shè)備等的國產(chǎn)化率均已經(jīng)達到20%以上。

那么目前國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的國產(chǎn)替代化究竟發(fā)展到了什么程度？

據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究員分析，國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備已經(jīng)形成系列化布局，以北方華創(chuàng)等為代表的龍頭公司正在加緊布局設(shè)備國產(chǎn)替代。

目前國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)在刻蝕、薄膜沉積、離子注入、光學(xué)測量、研磨拋光、清洗設(shè)備等主要設(shè)備均有布局，客戶的接受度也不斷增強，包括中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕機、北方華創(chuàng)的硅刻蝕機、PCV設(shè)備，上海盛美的清洗設(shè)備等國產(chǎn)12英寸設(shè)備已經(jīng)在生產(chǎn)線上實現(xiàn)批量應(yīng)用。另外，一部分應(yīng)用于14nm的國產(chǎn)設(shè)備也開始進入生產(chǎn)線步入驗證。

半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)是半導(dǎo)體芯片制造的基石，半導(dǎo)體不僅與信息安全的發(fā)展進程息息相關(guān)，其價值鏈更具有放大效應(yīng)。根據(jù)國際貨幣基金組織測算，每1美元半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)值可帶動相關(guān)電子信息產(chǎn)業(yè)10美元產(chǎn)值，并帶來100美元的GDP。

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