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賽默飛Talos F200E 掃描透射電子顯微鏡提供原子級成像和快速EDS分析

西西 ? 來源:廠商供稿 ? 作者:賽默飛世爾科技 ? 2021-03-25 09:44 ? 次閱讀

新一代儀器提升數據可靠性,控制圖像畸變≤1%

2021年3月17日,上?!茖W服務領域的世界領導者賽默飛世爾科技(以下簡稱:賽默飛)宣布推出Talos F200E掃描透射電子顯微鏡(以下簡稱:(S)TEM),這款產品提供原子級分辨率成像和快速的能量色散X射線能譜(以下簡稱:EDS)分析,可提升數據可靠性,滿足半導體行業(yè)日益增長的需求。

隨著5G時代的到來,通信技術的快速發(fā)展將進一步激發(fā)對更高效能的半導體設備的需求。自動駕駛、人工智能、工業(yè)4.0、智慧城市和物聯網IoT)也都在推動半導體制程向著更小、更復雜的方向發(fā)展。半導體行業(yè)的發(fā)展驅使其研發(fā)實驗室需要更高效的解決方案予以支持,以滿足在原子級分辨率上的大批量、可復現的 (S)TEM結果的實現。

Talos F200E (S)TEM 可發(fā)揮其自動校準的屬性,控制圖像畸變≤1%,使用戶能夠獲得快速、可靠和可重復的結果??膳渲玫腄ual-X比之前的Talos F200X 提供了更強大的EDS探測器,使EDS分析速度提高了1.5倍。Talos F200E 具有成本效益,易用性高,幫助半導體實驗室實現快速的樣品表征,加快可以量產的速度,提高制程良率。

“隨著創(chuàng)新的步伐不斷加快,半導體企業(yè)要求其分析實驗室加快周轉時間,并在各種設備和工藝技術上提供更可靠和可復現的(S)TEM數據,以支持他們的業(yè)務,”賽默飛半導體事業(yè)部副總裁Glyn Davies說道,“Talos F200E通過提供高質量的圖像數據、快速的化學分析和行業(yè)領先的缺陷表征等特質,可以為客戶提供高性價比、易用的解決方案?!?/p>

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