0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

全球四大光刻機生產(chǎn)商

姚小熊27 ? 來源:網(wǎng)絡整理 ? 作者:佚名 ? 2021-09-21 17:50 ? 次閱讀

全球四大光刻機生產(chǎn)商如下:

1.上海微電子

上海微電子簡稱SMEE,主要致力于半導體裝備泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。

2.荷蘭ASML

ASML是一家總部設在荷蘭埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半導體設備制造商之一,向全球復雜集成電路生產(chǎn)企業(yè)提供領先的綜合性關鍵設備。

ASML為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關服務,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產(chǎn)效率最高,應用最為廣泛的高端光刻機型。

3.佳能

佳能是日本的一家全球領先的生產(chǎn)影像與信息產(chǎn)品的綜合集團,佳能光刻機22納米 ,光刻機是制造微機電、光電二極體大規(guī)模集成電路的關鍵設備。光刻機可以分鐘兩種,分別是模板和圖樣大小一致的contact aligner ,曝光時模板緊貼芯片;第二是類似投影機原理的stepper ,獲得比模板更小的曝光圖樣。

4.尼康

尼康(Nikon),是日本的一家著名制造商,成立于1917年。尼康作為世界上能夠制造商用光刻機的公司,似乎在這個領域不被許多普通人知道,許多人只知道尼康的相機做的好,卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

編輯:YYX

整合自:百科、百度知道

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 佳能
    +關注

    關注

    2

    文章

    388

    瀏覽量

    39553
  • 微電子
    +關注

    關注

    18

    文章

    375

    瀏覽量

    41145
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1142

    瀏覽量

    47178
  • ASML
    +關注

    關注

    7

    文章

    715

    瀏覽量

    41137
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    俄羅斯首臺光刻機問世

    據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?693次閱讀

    俄羅斯推出首臺光刻機:350nm

    來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據(jù)外媒報道,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak表示,該設備可確保生產(chǎn)350納米工藝
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:13 ?629次閱讀

    Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機

    全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?573次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機

    阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據(jù)彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠程癱瘓(remotely
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5710次閱讀

    臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?869次閱讀

    光刻機的常見類型解析

    光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1612次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的常見類型解析

    光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5609次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關動態(tài)
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?495次閱讀
    ASML 首臺新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1100次閱讀

    英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機的廠商

    英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
    的頭像 發(fā)表于 03-06 14:49 ?424次閱讀
    英特爾成為<b class='flag-5'>全球</b>首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>光刻機</b>的廠商

    ASML光刻機技術的領航者,挑戰(zhàn)與機遇并存

    ASML在半導體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
    發(fā)表于 03-05 11:26 ?1083次閱讀

    光刻膠和光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4144次閱讀

    光刻機結構及IC制造工藝工作原理

    光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2503次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>結構及IC制造工藝工作原理

    荷蘭政府撤銷ASML光刻機出口許可 中方回應美停止對華供光刻機

    在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:22 ?1062次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機

    如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?816次閱讀