光刻機(jī)的曝光方式
光刻機(jī)的曝光方式主要有三種，分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。
接觸式曝光就是將掩膜與還沒加工基片的光膠層直接接觸并進(jìn)行的曝光；
非接觸式曝光是指掩膜和基片的光膠層不直接接觸來實(shí)現(xiàn)圖形復(fù)印的曝光；
投影式曝光是指掩膜與基片不直接接觸，但用投影儀分方式來實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
審核編輯：姚遠(yuǎn)香
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全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理
光刻與光刻機(jī)
?對準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。
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