二次離子質譜(SIMS)是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束(通常是氧氣或(無機樣品用銫離子)“濺射”樣品表面上選定區(qū)域的材料。
噴射出的“二次離子”通過質量。分光計,它將離子按照它們的質量/電荷比,實際上提供了化學物質分析一個很小的取樣量。
編輯:黃飛
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原文標題:聚焦離子束工藝技術詳解(178頁PPT)
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