DASP (Defect and Dopant ab-initio Simulation Package)是一款半導(dǎo)體缺陷和雜質(zhì)性質(zhì)的第一性原理計(jì)算模擬軟件包,該軟件包能針對輸入的半導(dǎo)體晶體結(jié)構(gòu),基于材料基因組數(shù)據(jù)庫和第一性原理軟件包,自動計(jì)算并輸出半導(dǎo)體的熱力學(xué)穩(wěn)定性,缺陷和雜質(zhì)形成能及離化能級,半導(dǎo)體樣品中缺陷、雜質(zhì)和載流子濃度及費(fèi)米能級,關(guān)鍵缺陷和雜質(zhì)誘導(dǎo)的光致發(fā)光譜、載流子輻射和非輻射俘獲截面及少子壽命。
針對任一半導(dǎo)體,DASP軟件可以計(jì)算給出如下性質(zhì):熱力學(xué)穩(wěn)定性、元素化學(xué)勢空間的穩(wěn)定范圍、缺陷(含雜質(zhì),下同)形成能、缺陷轉(zhuǎn)變能級、各生長條件下的費(fèi)米能級、載流子和缺陷濃度、缺陷的光致發(fā)光譜、缺陷對載流子的俘獲截面、輻射和非輻射復(fù)合速率等。
本期將給大家介紹DASP ZnGeP2的本征缺陷計(jì)算 5.4.2-5.4.2.2 的內(nèi)容。
5.4.2. 熱力學(xué)穩(wěn)定性和元素化學(xué)勢計(jì)算TSC
5.4.2.1. 運(yùn)行TSC模塊
在上一步使用命令 dasp 1 執(zhí)行PREPARE模塊時,會生成ZnGeP2/dec目錄,并在該目錄中產(chǎn)生 1prepare.out 文件。等待程序執(zhí)行完畢, 1prepare.out 有相應(yīng)的完成標(biāo)志。進(jìn)入ZnGeP2/dec目錄。確認(rèn)INCAR-relax,INCAR-static文件中的參數(shù)是可行的。(用戶可修改INCAR,DASP將根據(jù)此目錄中的INCAR做后續(xù)的計(jì)算)
確認(rèn)PREPARE模塊完成后,回到ZnGeP2目錄,使用命令 dasp 2 執(zhí)行TSC模塊。同樣地,TSC模塊會在ZnGeP2目錄中生成名為tsc的目錄,里面記錄了TSC程序的計(jì)算輸出,包括各計(jì)算目錄以及運(yùn)行日志文件 1prepare.out 。等待程序完成期間無需額外操作。
5.4.2.2. TSC模塊運(yùn)行流程
host結(jié)構(gòu)的總能計(jì)算(與MP參數(shù)保持一致):
TSC模塊將使用與 Materials Project 數(shù)據(jù)庫提供的輸入?yún)?shù)(INCAR,KPOINTS,POTCAR)來對用戶給定的原胞做結(jié)構(gòu)優(yōu)化和靜態(tài)計(jì)算,該計(jì)算得到的總能與MP數(shù)據(jù)庫的總能是可比的。此步驟是為了得到影響ZnGeP2穩(wěn)定性的 關(guān)鍵雜相 。通過目錄可以看到:
從ZnGeP2/tsc/2tsc.out中也可以看到程序的運(yùn)行日志,即產(chǎn)生輸入文件、relaxation1、relaxation2、static、數(shù)據(jù)提取等步驟。
關(guān)鍵雜相判斷:
TSC模塊將搜尋MP數(shù)據(jù)庫上所有與ZnGeP2相競爭的雜項(xiàng),通過DFT計(jì)算的ZnGeP2的總能與MP數(shù)據(jù)庫中雜相的總能,判斷出ZnGeP2是 穩(wěn)定的 。
隨后,程序?qū)⒂?jì)算獲取影響ZnGeP2穩(wěn)定性最關(guān)鍵的雜相,本例中包括Ge,P,Zn3P2,ZnP2和Zn。在 2tsc.out 中可看到相關(guān)的信息:
host與雜相結(jié)構(gòu)的總能計(jì)算(PREPARE模塊確定的參數(shù)):
在確定關(guān)鍵雜相后,TSC模塊將使用PREPARE模塊確定的參數(shù)(AEXX)計(jì)算ZnGeP2,Ge,P,Zn3P2,ZnP2和Zn的總能。 2tsc.out 如下:
化學(xué)勢的計(jì)算:
根據(jù)DFT計(jì)算的總能,計(jì)算ZnGeP2的形成能和化學(xué)勢穩(wěn)定區(qū)間,TSC模塊給出4個化學(xué)勢的端點(diǎn)值,寫入 dasp.in :
在 2tsc.out 可以看到程序執(zhí)行完畢的輸出:
對于三元與四元的化合物,TSC模塊將輸出穩(wěn)定區(qū)域圖像,及穩(wěn)定區(qū)域各端點(diǎn)處的化學(xué)勢。通過目錄可以看到:
目錄ZnGeP2/tsc/2d-figures/中的四個文件分別是兩次計(jì)算與分析過程中繪制的穩(wěn)定區(qū)域圖像以及圖像中各端點(diǎn)處的化學(xué)勢。
查看文件 stable_2d.out 與 fig-ZnGeP2.png 。圖 fig-ZnGeP2.png 的橫縱坐標(biāo)分別是圖中所標(biāo)識元素的化學(xué)勢,陰影區(qū)域 則是目標(biāo)化合物的穩(wěn)定區(qū)域,其邊界的每一條線 是相應(yīng)所標(biāo)識材料恰好處于形成與未形成的臨界情況下的化學(xué)勢曲線,這是第一次計(jì)算與分析過程輸出的圖像。
ZnGeP2的穩(wěn)定區(qū)域圖(來自MP數(shù)據(jù)庫)
查看文件 stable_recalc_2d.out 與 fig-ZnGeP2_recalc.png ,這是第二次計(jì)算與分析過程輸出的數(shù)據(jù)與圖像。
ZnGeP2的穩(wěn)定區(qū)域圖(來自DFT計(jì)算)
編輯:黃飛
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原文標(biāo)題:產(chǎn)品教程丨ZnGeP2的本征缺陷計(jì)算( 熱力學(xué)穩(wěn)定性和元素化學(xué)勢計(jì)算TSC)
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