蘇大維格：28nm***光柵尺周期精度需小于2nm
據(jù)中國(guó)媒體報(bào)道，9月7日蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司（蘇大維格，300331.SZ）在投資者交流平臺(tái)上寫道：“貴公司的光柵尺最高分辨率是多少？精度是多少？”28納米工程需要小于2納米的網(wǎng)格周期，公司相關(guān)產(chǎn)品需要小于1納米的周期?？紤]到秘密情報(bào)，詳細(xì)的參數(shù)很難泄露。
公開的資料顯示，蘇大維格他致力于微納關(guān)鍵技術(shù)，柔性智能制造創(chuàng)新，柔性光電子材料的應(yīng)用，相關(guān)若干或光學(xué)印刷材料、納米印刷、3d影像材料平板顯示器（大尺寸電容觸控屏，超薄導(dǎo)光板）、高級(jí)智能麥克風(fēng)，裝備（納米壓印、微納直寫光刻、3D光場(chǎng)打印等）的開發(fā)和技術(shù)產(chǎn)業(yè)化，2012年6月28日在深圳證券交易所a股創(chuàng)業(yè)板上市。該公司在今年7月的互動(dòng)平臺(tái)上表示：“公司向相關(guān)企業(yè)少量（少量）提供了用于半導(dǎo)體領(lǐng)域投影式***的位置追蹤光柵尺配件，目前在相關(guān)收入中所占的比重非常低?！?/p>
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發(fā)表于 01-25 14:14
?413次閱讀
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發(fā)表于 01-09 08:01
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這座晶圓廠于2022年4月開始新建，大樓主結(jié)構(gòu)已完工，且辦公室部分區(qū)域也在今年8月啟用。將生產(chǎn)N28 28nm級(jí)工藝芯片，這是日本目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。22ULP工藝也會(huì)在這里生產(chǎn)，但注意它不是22nm，而是
三大芯片巨頭角逐2nm技術(shù)
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3nm工藝剛量產(chǎn)，業(yè)界就已經(jīng)在討論2nm了，并且在調(diào)整相關(guān)的時(shí)間表。2nm工藝不僅對(duì)晶圓廠來說是一個(gè)重大挑戰(zhàn)，同樣也考驗(yàn)著EDA公司，以及在此基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)芯片的客戶。
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晶體管尺寸在3nm時(shí)達(dá)到臨界點(diǎn)，納米片F(xiàn)ET可能會(huì)取代finFET來滿足性能、功耗、面積和成本目標(biāo)。同樣，正在評(píng)估2nm銅互連的重大架構(gòu)變化，此舉將重新配置向晶體管傳輸電力的方式。
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論