早期的氮化鎵(GaN)功率器件需要復(fù)雜、昂貴且頻率受限的外部電路,以及復(fù)雜的封裝來保護(hù)和控制脆弱的柵極,這嚴(yán)重限制了市場的采用。
單片集成的GaN功率IC的引入,將驅(qū)動、邏輯和場效應(yīng)管集成在一個芯片上,是向前邁出的重要一步。這種信號與功率的強(qiáng)大融合提供了一種堅固的解決方案,易于使用,并極大簡化了整體系統(tǒng)設(shè)計。本文強(qiáng)調(diào)了一些早期GaN技術(shù)的困難,介紹了新款GaN功率集成電路,并展示了利用這一新革命性技術(shù)設(shè)計的高頻轉(zhuǎn)換器示例,這些應(yīng)用具有基準(zhǔn)效率、高功率密度和低系統(tǒng)成本。
AllGaN?與GaN功率集成電路
氮化鎵(GaN)是一種寬禁帶材料,能夠承受高電場,因此可以實現(xiàn)高載流子密度。具有AlGaN/GaN異質(zhì)外延結(jié)構(gòu)的二維電子氣(2-DEG)在通道和漏極漂移區(qū)域提供了很高的遷移率,與硅(Si)和碳化硅(SiC)相比,電阻顯著降低。創(chuàng)建橫向器件結(jié)構(gòu)可以實現(xiàn)極低的電荷,以支持高速操作,并且還允許集成。
圖1AllGaN?是業(yè)界首個GaN功率集成電路工藝設(shè)計工具包(PDK),它允許將650V GaN IC電路(驅(qū)動、邏輯)與GaN FET單片集成。其他功能也可以包含在內(nèi),例如滯后數(shù)字輸入、電壓調(diào)節(jié)和靜電放電(ESD)保護(hù)——所有這些都在GaN內(nèi)實現(xiàn)(見圖1)。這種驅(qū)動與開關(guān)的單片集成,在垂直GaN、dMode GaN或SiC中是無法實現(xiàn)的。
AllGaN柵極解決方案:易于驅(qū)動
最早的GaN功率器件是dMode(耗盡模式),這意味著需要額外的硅FET以“級聯(lián)”方式保持其關(guān)閉,這導(dǎo)致封裝電感和成本的負(fù)面影響。后來,eMode(增強(qiáng)模式)GaN分立器件具有脆弱的柵極和非常低的閾值電壓。這使得它們對噪聲和電壓尖峰非常敏感,尤其是周圍開關(guān)模式轉(zhuǎn)換器電路產(chǎn)生的高頻和高dv/dt噪聲,因此需要復(fù)雜且昂貴的控制和柵極驅(qū)動電路(見圖2左)。此外,這兩種實現(xiàn)方式都限制了GaN開關(guān)的高頻性能,幾乎沒有超過硅的優(yōu)勢,從而限制了市場的采用。
圖2在AllGaN解決方案中,GaN FET的柵極由上游集成的GaN驅(qū)動器安全、精確和高效地驅(qū)動。來自標(biāo)準(zhǔn)、低成本、低電壓“無驅(qū)動”控制IC的簡單、穩(wěn)健的低電流3.3V、5V或15V信號直接饋入GaN功率集成電路,實現(xiàn)易于設(shè)計、元件數(shù)量少的設(shè)計(見圖2右)。
波形呈現(xiàn)出真實的“教科書”效果,升降沿非常干凈,沒有振鈴,并且開關(guān)的開啟和關(guān)閉傳播延遲極快(見圖3)。集成消除了柵極過沖和欠沖,同時芯片上的零電感確保沒有關(guān)斷損耗。這種沒有振鈴/過沖的特性使得在半橋電路中輕松控制死區(qū)時間。
圖3這種卓越的快速和安靜的開關(guān)性能,加上集成的柵極驅(qū)動和簡單的PWM輸入,使得能夠設(shè)計多種不同的高頻功率轉(zhuǎn)換器,實際速度提升超過10倍,從65/100kHz提高到超過1MHz。
在高頻分立設(shè)計中,需要更多的設(shè)計時間來調(diào)查并消除或減少寄生電感,例如器件之間的串?dāng)_和更多的PCB層。同時,柵極驅(qū)動解決方案可能需要鐵氧體珠來保護(hù)柵極,但這會減慢應(yīng)用速度。傳統(tǒng)的高電感封裝,如TO220,體積龐大并限制系統(tǒng)性能。
采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的低電感表面貼裝QFN封裝,GaN功率集成電路實現(xiàn)了高性能、低成本解決方案,并具有最高功率密度。數(shù)字輸入意味著設(shè)計的靈活性,GaN器件可以放置在主板或子卡上,距離控制IC遠(yuǎn)或近。
AllGaN應(yīng)用
為了實際評估AllGaN在真實功率電子應(yīng)用中的表現(xiàn),讓我們看一下在臨界導(dǎo)通模式(CrCM)下運(yùn)行的150W PFC升壓轉(zhuǎn)換器——也稱為邊界導(dǎo)通模式(BCM),具有自振蕩頻率。由于現(xiàn)有硅輸入/輸出電容限制,傳統(tǒng)電路通常運(yùn)行在65kHz或100kHz。
現(xiàn)在,借助快速開關(guān)和低電感的GaN功率集成電路,該板的頻率保守性地提高到200kHz到1MHz的范圍,以展示新GaN功率集成電路的性能,并驗證在提高頻率時的功率密度優(yōu)勢。
圖4該電路布局和布線簡單,5x6mm的QFN GaN功率集成電路位于關(guān)鍵的升壓開關(guān)節(jié)點旁,而控制器則放置在稍遠(yuǎn)的位置,靠近關(guān)鍵的檢測節(jié)點。然后,將簡單的PWM信號在兩個模塊之間布線,以實現(xiàn)升壓開關(guān)的開啟/關(guān)閉控制。所有功率組件均在2層、2盎司PCB的底面表面貼裝,以便進(jìn)行單次波焊接合整個電路板。通過使用通孔進(jìn)行熱管理,不需要額外的散熱片。
該電路板在滿載時的峰值效率超過98%(GaN功率集成電路運(yùn)行溫度僅為61°C),平均效率為97%(包括EMI濾波器和輸入橋整流器),功率因數(shù)超過99.5%。相比之下,使用8x8mm QFN“CP”超結(jié)硅FET的同一電路板無法在200kHz以上運(yùn)行,輕載時溫度超過160°C。
圖5隨著開關(guān)頻率的增加,儲能元件(例如升壓電感)的尺寸減小。在這里,升壓電感采用3F36核心材料和Litz導(dǎo)線(源自德語的Litzendraht,意為編織/絞合線)。在低電壓/滿載條件下,典型的“100kHz” 150W電感需要約400uH的電感和RM14的核心尺寸。而這種設(shè)計在頻率僅增加4倍的情況下,僅需150uH和RM10的核心尺寸——核心尺寸減少了80%。普通和差模EMI電感還可以進(jìn)一步節(jié)省尺寸和成本。
雖然該電路板是為演示目的設(shè)計的,但其尺寸仍只有165 x 45 x 20mm,允許客戶根據(jù)需要優(yōu)化尺寸和定制外形。
GaN功率集成電路在電源設(shè)計中的應(yīng)用
借助GaN功率集成電路,高性能、高頻率的功率轉(zhuǎn)換器設(shè)計現(xiàn)在變得簡單,而不再面臨復(fù)雜且昂貴的柵極驅(qū)動和布局寄生電感相關(guān)的困難。
這一簡單但革命性的成就為電源設(shè)計帶來了巨大潛力。在多級轉(zhuǎn)換器中,整體系統(tǒng)架構(gòu)設(shè)計的靈活性顯著增加。例如,單個GaN功率集成電路模塊可以靠近各自的功率電路放置,簡單的PWM信號可以輕松從中央控制器路由到每個模塊。
這種簡單性與突破性性能的結(jié)合,最終使得高壓GaN能夠取代硅。
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