股價26年來最大跌幅！ASML后悔了嗎？

ASML因為技術(shù)故障提前公布第三季度財報，其股價遭遇了26年來的最大跌幅，ASML后悔了嗎?

北京時間10月15日(周二)晚間22點左右，ASML提前在官網(wǎng)公布了第三季度財報，原定于周三的發(fā)布日程，因為技術(shù)故障提前公布。

財報數(shù)據(jù)公布后，全球光刻機巨頭股價暴跌16%，引起整個半導(dǎo)體板塊和美股市場走弱等連鎖反應(yīng)。

引起股價暴跌的原因有兩點：第一，Q3訂單數(shù)據(jù)為26億歐元，僅為市場預(yù)期53.9億歐元的一半;第二，ASML官方將2025年凈銷售額預(yù)期從之前的400億歐元下調(diào)至300億歐元至350億歐元之間。

據(jù)ASML Q3財報顯示：目前中國仍然是ASML的最大單一市場，占第三季度銷售額的47%，達27.9億歐元。

事實上，從2023年第三季度荷蘭出口政策收緊以來，中國仍然連續(xù)五個季度成為ASML最大的市場，占比均達到40%以上。

訂單數(shù)據(jù)持續(xù)收緊，對華制裁的力度不減，ASML如今后悔了嗎?

整體市場疲軟，AI需求有限

根據(jù)SEMI公布的數(shù)據(jù)顯示，全球光刻機市場規(guī)模平穩(wěn)增長，2023年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模為1063億美元，其中光刻機市場占比約為25%，規(guī)模達到約258.4億美元，2023年為271.3億美元。

ASML作為光刻機領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，其股價的崩盤不僅震驚了整個半導(dǎo)體行業(yè)，也引發(fā)了市場對半導(dǎo)體行業(yè)整體復(fù)蘇進程的擔(dān)憂。

近年來，隨著AI技術(shù)的不斷發(fā)展崛起，高性能芯片的需求急劇上升直接推動了對高端光刻機的需求。ASML的高端光刻機正是滿足這一市場需求的關(guān)鍵設(shè)備，目前來說，AI的發(fā)展的確為ASML帶來了更多的市場機會和訂單，但是整體市場的情況不容樂觀。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官克里斯托弗·富凱(Christophe Fouquet)也坦言：“盡管AI領(lǐng)域仍有強勁的發(fā)展和上升潛力，但目前其他市場領(lǐng)域的復(fù)蘇速度較慢。現(xiàn)在看來，復(fù)蘇要比之前預(yù)期得要慢，這種情況預(yù)期將持續(xù)到2025年，這也會導(dǎo)致客戶變得更加謹(jǐn)慎?！?/p>

面對業(yè)績的下滑和股價的大幅波動，ASML表示將繼續(xù)在產(chǎn)能爬坡和技術(shù)方面進行持續(xù)投資，為周期的轉(zhuǎn)向做好準(zhǔn)備，ASML現(xiàn)在面臨的壓力實屬不小。

原因主要有三個方面：第一，由于美國和荷蘭相關(guān)出口限制措施，ASML在中國市場的增長前景引發(fā)投資者擔(dān)憂;第二，全球芯片行業(yè)疲軟，ASML接到的訂單量大幅下降，遠(yuǎn)低于市場預(yù)期;第三，中國等市場的國產(chǎn)替代率得到提升，其高端光刻機在中國市場的銷售受到限制。

國產(chǎn)全流程替代加速，ASML市場吸引力漸減

中國光刻機產(chǎn)業(yè)一直受國外制裁，如今國內(nèi)技術(shù)也得到了發(fā)展性的進步——國產(chǎn)全流程替代，國內(nèi)光刻機或者半導(dǎo)體行業(yè)自身有了更多的拓展空間。這一趨勢不僅展現(xiàn)了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控能力的增強，也表示ASML在中國市場的吸引力逐漸減弱，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起鋪平了道路。

在中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的上游領(lǐng)域，光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設(shè)備等關(guān)鍵領(lǐng)域正在逐步實現(xiàn)國產(chǎn)替代。這些國產(chǎn)材料和設(shè)備不僅降低了光刻機的生產(chǎn)成本，還提高了整機的性能和穩(wěn)定性。

上海微電子作為國產(chǎn)光刻機的領(lǐng)軍者，其SSA600/200工藝已經(jīng)實現(xiàn)了90納米制程的量產(chǎn)，其出貨量已占國內(nèi)市場份額超過80%，在國內(nèi)市場中占據(jù)了十分重要的地位。

科益虹源、中科院上海、茂萊光學(xué)等企業(yè)也在DUV(深紫外光刻機)、EUV(極紫外光刻機)等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域取得了顯著進展，眾多國內(nèi)企業(yè)紛紛致力實現(xiàn)技術(shù)推進，為國產(chǎn)光刻機的進一步發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)。

今年9月份，國家工業(yè)和信息化部印發(fā)了《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》，其中有提到將推廣國產(chǎn)光源193nm、分辨率≤65nm、套刻≤8nm的光刻機。

這一官方文件的發(fā)布，標(biāo)志著我國在光刻機技術(shù)研發(fā)方面取得了重要突破，并且得到了國家層面的認(rèn)可和推廣。

它們的問世，不僅能夠解決我國80%以上的芯片供應(yīng)問題，而且完全實現(xiàn)了100%國產(chǎn)化。并且，在全球頂級的EUV光刻機領(lǐng)域，我國已經(jīng)實現(xiàn)了物鏡系統(tǒng)和光源系統(tǒng)的國產(chǎn)替代。

總結(jié)

此次ASML面臨的股價崩盤和市場壓力反映了全球半導(dǎo)體行業(yè)的復(fù)雜性和不確定性。ASML此次股價崩盤還會在未來繼續(xù)面臨壓力，瑞銀(UBS)分析師稱：“阿斯麥明年可能失去近四分之一在華銷售額，若限制措施持續(xù)，其在華產(chǎn)生的整體收入中還有45%將面臨風(fēng)險?！?/p>

中國市場目前仍是ASML最大的市場，若中國市場的份額發(fā)生變化，ASML的毛利率也將受到影響，進而繼續(xù)影響相關(guān)收益。

中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展迭代得到發(fā)展和進步，同時此次ASML股價崩盤更在持續(xù)提供一個更為明確的信息：核心技術(shù)始終是硬實力。

此次ASML的股價大崩盤也為中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的快速發(fā)展提供了新的視角，面對全球市場的變化，國產(chǎn)光刻機的發(fā)展需要繼續(xù)不斷地加強自主競爭,提升國產(chǎn)替代率。

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審核編輯 黃宇