SK海力士在京畿道利川投資15萬億韓元(約916億人民幣),建設新的半導體生產(chǎn)線M16。
19日,SK海力士在利川工廠舉行了M16奠基儀式。
在本次活動中,SK集團會長崔泰源,SK集團首席副會長崔再源,SK Supex追求協(xié)議會議長Jo Daesik,全球成長委員長Park Jeungho, SK集團ICT委員長Park Seungwook, SK海力士代表理事Lee Seokhee等首腦部門領導都出席了活動。顯示出在最近半導體市場的高點爭議和市況悲觀論擴散的情況下,SK計劃通過進攻性投資取得正面突破的意圖。
SK集團崔泰源稱:“SK海力士已經(jīng)寫出了一部克服艱難時期,在挫折中也堅持希望并取得成功的成長故事”,并稱“M16不僅要依靠尖端的硬件技術(shù),也傾注我們的汗水和努力,去創(chuàng)造新的成長神話?!痹俅伪砻髁藢Π雽w事業(yè)投資和培育的強烈的決心。
M16是引領SK海力士未來的最尖端的半導體工廠。具備為了新一代微細工程的極紫外光刻(EUV)設備等,并將生產(chǎn)10幾納米的DRAM等尖端產(chǎn)品。并計劃于2020年下半年稼動。
M16工廠的建設是崔會長在2015年M14產(chǎn)線竣工儀式上提出的共計46萬億韓元規(guī)模的“未來愿景投資計劃”中的一環(huán)??偼顿Y規(guī)模包含設備采購金額,約15萬億韓元。
M16完工后,繼目前利川的M10(DRAM)·M14(DRAM·Nand Flash)和忠清北道清州的M11·M12·M15(Nand Flash),中國無錫C2(DRAM)等之后,記憶芯片產(chǎn)品產(chǎn)能將大幅擴大。
SK海力士在繼10月初完成忠清北道清州的Nand Flash專用產(chǎn)線M15竣工后,便積極進行對C2產(chǎn)線的擴張施工等設備投資。
與此同時,計劃通過中國無錫合資法人在當?shù)亟ㄔO芯片代工廠,正式構(gòu)建DRAM、Nand Flash和代工廠等“半導體三角成長軸”。
尤其是SK海力士正在與韓國政府共同促進大規(guī)模“半導體特色產(chǎn)業(yè)園區(qū)”構(gòu)建方案。計劃不僅有半導體生產(chǎn)線,零部件、材料、設備企業(yè)也將入住園區(qū),發(fā)揮協(xié)同作用。韓國政府最近正從恢復經(jīng)濟活力層面向SK發(fā)出邀請,SK海力士也在進行詳細研究。
SK海力士社長Lee Seokhee稱“若說10幾年沒有建新工廠的SK海力士,在M14和M15建設上實現(xiàn)了許久以來的愿望,那么M16工廠則是SK海力士實現(xiàn)另一個跳躍的起跑線”,并稱“將通過與全球最先進尖端的基礎設施相匹配的創(chuàng)新與技術(shù)創(chuàng)造新的未來?!?/p>
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原文標題:投資916億!SK海力士韓國利川新工廠M16開工建設,2020年下半年量產(chǎn)
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