0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

SK海力士的M16工廠將用上最先進(jìn)的EUV光刻工藝

cMdW_icsmart ? 來(lái)源:xx ? 2018-12-22 11:09 ? 次閱讀

今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠,這是2015年全球最大的存儲(chǔ)芯片工廠M14落成時(shí)SK Hynix宣布的46萬(wàn)億韓元投資計(jì)劃中的一部分,M15工廠位于韓國(guó)忠清南道的清州市,投資額高達(dá)15萬(wàn)億韓元,主要生產(chǎn)3D NAND閃存,初期將生產(chǎn)現(xiàn)在的72層堆棧3D NAND,不過(guò)明年初就會(huì)轉(zhuǎn)向96層堆棧的3D NAND閃存。

著NAND閃存及DRAM內(nèi)存不斷降價(jià),2019年存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)將迎來(lái)一輪熊市。為了應(yīng)對(duì)降價(jià)導(dǎo)致的損失,三星、SK Hynix及美光都計(jì)劃削減資本支出,不過(guò)削減并不意味著他們不再建設(shè)芯片工廠了。

就在本周三,也就是12月19日,SK海力士位于無(wú)錫的M16工廠正式舉行開(kāi)工典禮,預(yù)計(jì)2020年正式建成,總投資額還沒(méi)確定,不過(guò)也不會(huì)低于15萬(wàn)億韓元,其中基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)就要3.5萬(wàn)億韓元,占地面積30英畝。這座工廠最終會(huì)生產(chǎn)DRAM內(nèi)存還是NAND閃存都沒(méi)確定,SK Hynix表示這要看落成時(shí)的市場(chǎng)需求以及工廠的技術(shù)水平來(lái)決定。

不過(guò)有一點(diǎn)可以肯定的,M16工廠將會(huì)用上最先進(jìn)的EUV光刻工藝——存儲(chǔ)芯片跟邏輯芯片不同,雖然對(duì)EUV光刻工藝的需求沒(méi)那么高,不過(guò)三星、SK Hynix依然計(jì)劃在未來(lái)使用EUV工藝生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片,而美光對(duì)EUV的態(tài)度就比較保守,未來(lái)兩代的內(nèi)存芯片依然不會(huì)用到EUV光刻工藝。

據(jù)ASML證實(shí),此次入駐SK海力士無(wú)錫工廠確為NXT2000i,也即NXT2000。ASML解釋道,i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機(jī)器。

今年8月份曾有消息表示,ASML已經(jīng)開(kāi)始出貨新品Twinscan NXT2000i DUV(NXT2000i雙工件臺(tái)深紫外***),可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)。

NXT2000i將是NXE3400B EUV***的有效補(bǔ)充,畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。

同時(shí),NXT2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品,達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。

當(dāng)時(shí)ASML只表示這款性能出眾的***將于本年度末正式量產(chǎn),尚未確定***的價(jià)格。根據(jù)媒體的估計(jì),按照目前ASML的定位,這款***的定價(jià)應(yīng)該在幾千萬(wàn)至上億美元之間。ASML的3400B EUV***的報(bào)價(jià)是1.2億美元一臺(tái),而14nm節(jié)點(diǎn)的***報(bào)價(jià)則在7200萬(wàn)美元。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    317

    瀏覽量

    30084
  • SK海力士
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    944

    瀏覽量

    38401

原文標(biāo)題:中國(guó)首臺(tái)EUV光刻機(jī)正式入駐SK海力士無(wú)錫工廠

文章出處:【微信號(hào):icsmart,微信公眾號(hào):芯智訊】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    SK海力士展出全球首款16層HBM3E芯片

    在近日舉行的SK AI峰會(huì)上,韓國(guó)存儲(chǔ)巨頭SK海力士向全球展示了其創(chuàng)新成果——全球首款48GB 16層HBM3E產(chǎn)品。這一產(chǎn)品的推出,標(biāo)志著SK
    的頭像 發(fā)表于 11-13 14:35 ?152次閱讀

    SK海力士推出48GB 16層HBM3E產(chǎn)品

    近日在一次科技展覽上,SK海力士驚艷亮相,展出了全球首款48GB 16層HBM3E(High Bandwidth Memory 3E)產(chǎn)品。這一突破性產(chǎn)品不僅展示了SK
    的頭像 發(fā)表于 11-05 15:01 ?243次閱讀

    光刻工藝的基本知識(shí)

    在萬(wàn)物互聯(lián),AI革命興起的今天,半導(dǎo)體芯片已成為推動(dòng)現(xiàn)代社會(huì)進(jìn)步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù),作為先進(jìn)制造中最為精細(xì)和關(guān)鍵的工藝,不管是半導(dǎo)體芯片、MEMS器件,還是微納光學(xué)元件都離不開(kāi)
    的頭像 發(fā)表于 08-26 10:10 ?572次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻工藝</b>的基本知識(shí)

    SK海力士M16晶圓廠擴(kuò)產(chǎn),DRAM產(chǎn)能將增18%

    SK 海力士,作為全球知名的半導(dǎo)體巨頭,近期宣布了一項(xiàng)重要的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,旨在通過(guò)擴(kuò)大M16晶圓廠的生產(chǎn)規(guī)模,顯著提升其DRAM內(nèi)存產(chǎn)能。據(jù)韓媒報(bào)道,SK
    的頭像 發(fā)表于 08-16 17:32 ?1014次閱讀

    SK海力士轉(zhuǎn)向4F2 DRAM以降低成本

    SK海力士近日宣布了一項(xiàng)重要計(jì)劃,即開(kāi)發(fā)采用4F2結(jié)構(gòu)(垂直柵)的DRAM。這一決策緊跟其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星的步伐,標(biāo)志著SK海力士在DRAM制造領(lǐng)域的新探索。
    的頭像 發(fā)表于 08-14 17:06 ?722次閱讀

    SK海力士考慮新建DRAM工廠

    SK海力士,作為全球領(lǐng)先的內(nèi)存芯片制造商,正在積極考慮建設(shè)一家新的DRAM工廠。這一決策源于其現(xiàn)有的龍仁芯片集群投產(chǎn)計(jì)劃的推遲,以及對(duì)今年內(nèi)存芯片需求大幅增長(zhǎng)的預(yù)測(cè)。
    的頭像 發(fā)表于 05-06 10:52 ?517次閱讀

    SK海力士聯(lián)手TEMC開(kāi)發(fā)氖氣回收技術(shù),年度節(jié)省400億韓元

    SK海力士聯(lián)合 TEMC 研發(fā)出一套氖氣回收裝置,用以收集及分類處理光刻工藝環(huán)境中的氖氣,然后交予 TEMC 進(jìn)行純化處理,最后回流至 SK 海力士
    的頭像 發(fā)表于 04-02 14:25 ?429次閱讀

    SK海力士擬在美設(shè)立先進(jìn)芯片封裝工廠,預(yù)計(jì)提供800至1000個(gè)新職位

    SK海力士在聲明中回應(yīng)稱,正在評(píng)估在美投資建廠事宜,尚未做出最后決策。業(yè)內(nèi)人士向《華爾街日?qǐng)?bào)》透露,SK 海力士董事會(huì)有望盡快批準(zhǔn)上述方案,推動(dòng)美國(guó)重返全球半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)之位;而新設(shè)
    的頭像 發(fā)表于 03-27 15:26 ?317次閱讀

    剛剛!SK海力士出局!

    來(lái)源:集成電路前沿,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 3月25日消息,據(jù)報(bào)道,由于SK海力士部分工程出現(xiàn)問(wèn)題,英偉達(dá)所需的12層HBM3E內(nèi)存,將由三星獨(dú)家供貨,SK海力士出局! 據(jù)了
    的頭像 發(fā)表于 03-27 09:12 ?552次閱讀

    SK海力士擴(kuò)大對(duì)芯片投資

    SK海力士正積極應(yīng)對(duì)AI開(kāi)發(fā)中關(guān)鍵組件HBM(高帶寬存儲(chǔ)器)日益增長(zhǎng)的需求,為此公司正加大在先進(jìn)芯片封裝方面的投入。SK海力士負(fù)責(zé)封裝開(kāi)發(fā)的
    的頭像 發(fā)表于 03-08 10:53 ?1165次閱讀

    SK海力士斥資10億美元,加碼先進(jìn)芯片封裝研發(fā)以滿足AI需求

    據(jù)封裝研發(fā)負(fù)責(zé)人李康旭副社長(zhǎng)(Lee Kang-Wook)介紹,SK海力士已在韓國(guó)投入逾10億美元擴(kuò)充及改良芯片封裝技術(shù)。精心優(yōu)化封裝工藝是HBM獲青睞的重要原因,實(shí)現(xiàn)了低功耗、提升性能等優(yōu)勢(shì),提升了
    的頭像 發(fā)表于 03-07 15:24 ?634次閱讀

    SK海力士將在美國(guó)印第安納州建設(shè)先進(jìn)封裝工廠

    據(jù)最新消息,韓國(guó)芯片生產(chǎn)商SK海力士已經(jīng)決定在美國(guó)印第安納州建設(shè)其150億美元的先進(jìn)封裝工廠。這一決定意味著SK
    的頭像 發(fā)表于 02-03 09:40 ?464次閱讀

    SK海力士持續(xù)投資無(wú)錫的原因

    無(wú)錫工廠SK海力士的核心生產(chǎn)基地,其產(chǎn)量約占公司DRAM總產(chǎn)量的40%。目前,無(wú)錫工廠正在生產(chǎn)兩款較舊的10nm制程DRAM。
    發(fā)表于 01-31 11:23 ?763次閱讀

    SK海力士擬將無(wú)錫C2工廠升級(jí)為第四代D-ram工藝,并引進(jìn)EUV技術(shù)

    Sk海力士期望通過(guò)在無(wú)錫工廠完成第四代D-RAM制造環(huán)節(jié)中的部分工藝流程,隨后將芯片運(yùn)回韓國(guó)總部利川園區(qū)進(jìn)行EUV處理,最后送回?zé)o錫
    的頭像 發(fā)表于 01-16 14:06 ?963次閱讀

    三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

    三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
    的頭像 發(fā)表于 11-23 18:13 ?959次閱讀
    三星D1a nm LPDDR5X器件的<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻工藝</b>