近日,韓國DRAM內(nèi)存芯片巨頭SK海力士宣布,位于江蘇無錫的第二工廠(C2F)已經(jīng)竣工,產(chǎn)出的第一批晶圓良品率也符合預(yù)期,計(jì)劃今年5月正式投入量產(chǎn)。
SK海力士是江蘇省單體投資規(guī)模最大的外企,雙方合作已經(jīng)超過14年,累計(jì)投資額超105億美元。
就在日前,SK海力士剛剛宣布將一方面提高第一代10nm級(jí)工藝(1xnm)內(nèi)存芯片的產(chǎn)能,另一方面今年下半年開始銷售基于第二代10nm級(jí)工藝(1ynm)的內(nèi)存芯片。
SK海力士無錫二廠項(xiàng)目2016年12月宣布,2017年10月簽約,2017年6月開工,2018年11月開始設(shè)備遷入,總投資達(dá)86億美元,其中16億美元用于建設(shè)3.3萬平米的新廠房和附屬設(shè)施,70億美元用于引入全球最先進(jìn)的內(nèi)存芯片生產(chǎn)設(shè)備。
作為現(xiàn)有工廠(C2)的延伸項(xiàng)目,新工廠建設(shè)周期2017-2026年,全部完成后將成為全球單體投資規(guī)模最大、月產(chǎn)能最大、技術(shù)最先進(jìn)的10nm級(jí)別工藝內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地,月產(chǎn)能可達(dá)18萬塊300毫米晶圓,年銷售額可達(dá)33億美元。
目前,SK海力士占有中國內(nèi)存芯片市場(chǎng)大約35%的份額,無錫二廠投用后預(yù)計(jì)可升至超過45%。
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