行業(yè)背景 隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，物聯(lián)網(wǎng)作為新興生產(chǎn)力正在改變許多行業(yè)的工作方式。在半導(dǎo)體芯片行業(yè)，自動蝕刻機的物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用正在助力企業(yè)達(dá)到監(jiān)控設(shè)備更加便利、故障運維更加高效、數(shù)據(jù)分析更加精準(zhǔn)等等
2024-03-20 17:52:39
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UV耐候試驗機-UV耐候試驗箱廠家-高格科技儀器一、設(shè)備用途：本試驗設(shè)備模擬由太陽紫外光引起之破壞，通過將被測材料暴露于受控高溫下光照中，來對材料進(jìn)行耐侯測試。它用紫外線燈管模擬陽光的輻射作用，通過
2024-03-19 17:05:47
4 針位圓形連接器 插頭外殼 自由懸掛 底殼，防紫外線
2024-03-14 23:20:06
4 針位圓形連接器 插座外殼 面板安裝 防紫外線
2024-03-14 23:20:00
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2024-03-14 23:19:55
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2024-03-14 23:19:53
根據(jù)已公開的研究報告，東京電子的新式蝕刻機具備在極低溫環(huán)境下進(jìn)行高速蝕刻的能力。據(jù)悉，該機器可在33分鐘內(nèi)完成10微米的蝕刻工作。此外，設(shè)備使用了新開發(fā)的激光氣體，搭配氬氣和氟化碳?xì)怏w以提升工藝水平。
2024-02-18 15:00:22109 蝕刻時間和過氧化氫濃度對ZnO玻璃基板的影響 本研究的目的是確定蝕刻ZnO薄膜的最佳技術(shù)。使用射頻濺射設(shè)備在玻璃基板上沉積ZnO。為了蝕刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的過氧化氫（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
什么是紫外線傳感器？它的結(jié)構(gòu)分類有哪些？ 紫外線傳感器是一種能夠測量、檢測和監(jiān)測紫外線輻射的電子傳感器。紫外線屬于電磁波譜的一部分，波長范圍在185納米到400納米之間。紫外線傳感器主要用于科學(xué)研究
2024-02-02 15:05:16221 請問如何通過AURIX輔助其他SOC實現(xiàn)功能安全設(shè)計？
2024-01-24 07:05:07
通常正片工藝是以堿性蝕刻工藝為基礎(chǔ)的。底片上面，所需的路徑或銅表面是黑色的，而不需要的部分是完全透明的。同樣，在路線工藝曝光后，完全透明的部分被暴露在紫外線下的干膜阻滯劑的化學(xué)作用硬化，隨后的顯影過程將在下一工序中沖走無硬襯底的干膜
2024-01-17 15:33:35163 過程中起著重要的作用。這種制造過程通常需要與埋著的SiGe薄膜接觸。與這些埋地區(qū)域接觸需要蝕刻硅并在薄薄的SiGe層中停止。 因此，為了實現(xiàn)精確的圖案轉(zhuǎn)移，我們需要一種可控蝕刻的方法。不幸的是，針對SiGe選擇性的RIE技術(shù)尚未被發(fā)現(xiàn)。幸運的是
2023-12-28 10:39:51131 
在微電子制造領(lǐng)域，光刻機和蝕刻機是兩種不可或缺的重要設(shè)備。它們在制造半導(dǎo)體芯片、集成電路等微小器件的過程中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。然而，盡管它們在功能上有所相似，但在技術(shù)原理、應(yīng)用場景等方面卻存在著明顯的區(qū)別。本文將對光刻機和蝕刻機的差異進(jìn)行深入探討。
2023-12-16 11:00:09371 
技術(shù)提供了典型應(yīng)用。蝕刻工藝對器件特性有著較大的影響，尤其是在精確控制蝕刻深度和較小化等離子體損傷的情況下影響較大。
2023-12-13 09:51:24294 
另外一種工藝方法是整個板子上都鍍銅，感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比，全板鍍銅的缺點是板面各處都要鍍兩次銅而且蝕刻時還必須都把它們腐蝕掉。
2023-12-06 15:03:45261 按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。
2023-12-06 15:01:46285 GaN作為寬禁帶III-V族化合物半導(dǎo)體最近被深入研究。為了實現(xiàn)GaN基器件的良好性能，GaN的處理技術(shù)至關(guān)重要。目前英思特已經(jīng)嘗試了許多GaN蝕刻方法，大部分GaN刻蝕是通過等離子體刻蝕來完成
2023-12-01 17:02:39259 
由于其獨特的材料特性，III族氮化物半導(dǎo)體廣泛應(yīng)用于電力、高頻電子和固態(tài)照明等領(lǐng)域。加熱的四甲基氫氧化銨(TMAH)和KOH3處理的取向相關(guān)蝕刻已經(jīng)被用于去除III族氮化物材料中干法蝕刻引起的損傷，并縮小垂直結(jié)構(gòu)。
2023-11-30 09:01:58166 
便攜式氣象參數(shù)檢測儀WX-BQX5P能夠?qū)崟r監(jiān)測氣象參數(shù)，如溫度、濕度、氣壓、紫外線等，讓人們隨時隨地掌握天氣變化，為自己的出行和生活提供更加便捷的服務(wù)。這款儀器能夠?qū)崟r監(jiān)測氣象參數(shù)，讓人們及時了解
2023-11-28 15:37:06
目前，大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個缺點，包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁典型均方根(rms)粗糙度約為50納米
2023-11-24 14:10:30241 
紫外線老化試驗機在日常操作中會出現(xiàn)這樣或者那樣的問題,下面艾思荔小編為大家具體介紹一下：一.紫外燈管點不亮。紫外線試驗主要依靠紫外燈管來照射產(chǎn)品,所以紫外燈源很重要,為保障光源的穩(wěn)定性和均勻
2023-11-24 11:49:26355 
PrescientX的創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官巴里?亨特（Barry Hunt）表示，這間辦公室代表了一種未來可能性——如果未來像新冠肺炎這樣的疫情變得更加常見，紫外線殺菌燈是我們戰(zhàn)勝它們的一種最有力的武器。
2023-11-21 16:48:35376 
蝕刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)及不同成分的蝕刻液都會對蝕刻因子或側(cè)蝕度產(chǎn)生影響，或者用樂觀的話來說，可以對其進(jìn)行控制。采用某些添加劑可以降低側(cè)蝕度。這些添加劑的化學(xué)成分一般屬于商業(yè)秘密，各自的研制者是不向外界透露的。至于蝕刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)問題，后面的章節(jié)將專門討論。
2023-11-14 15:23:10217 光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長劃分，光刻機分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）、EUV（極紫外線），理論上7納米及以下的先進(jìn)芯片制程工藝只能通過EUV實現(xiàn)。
2023-11-12 11:33:14627 
自動蝕刻機是利用電解作用或化學(xué)反應(yīng)對金屬板進(jìn)行處理，以獲得所需圖紋、花紋、幾何形狀的自動化設(shè)備，廣泛應(yīng)用于芯片、數(shù)碼、航空、機械、標(biāo)牌等領(lǐng)域中?，F(xiàn)有一家蝕刻機設(shè)備制造商，要求對全國各地的蝕刻機設(shè)
2023-11-08 13:59:52146 
利用水、工業(yè)廢水處理站出水等場景。 PLC自動化控制系統(tǒng)在污水處理行業(yè)的應(yīng)用越來越廣泛，可以提高污水處理工藝的精確控制與自動化控制，具備良好的操作性與穩(wěn)定性。通過物通博聯(lián)工業(yè)智能網(wǎng)關(guān)接入到紫外線消毒設(shè)備PLC中，實現(xiàn)設(shè)備數(shù)據(jù)采集并傳
2023-11-03 17:22:40196 
波長多少的紫外線led適合做uv漆的光固化？
2023-11-02 08:08:23
干法蝕刻（dry etch）工藝通常由四個基本狀態(tài)構(gòu)成：蝕刻前（before etch），部分蝕刻（partial etch），蝕刻到位（just etch），過度蝕刻（over etch），主要表征有蝕刻速率，選擇比，關(guān)鍵尺寸，均勻性，終點探測。
2023-10-18 09:53:19788 
在精細(xì)印制電路制作過程中，噴淋蝕刻是影響產(chǎn)品質(zhì)量合格率重要的工序之一。現(xiàn)有很多的文章對精細(xì)線路的蝕刻做了大量的研究，但是大多數(shù)都只停留在表象的研究中，并沒有從本質(zhì)上認(rèn)識噴淋蝕刻中出現(xiàn)的問題。
2023-10-17 15:15:35164 
蝕刻液的化學(xué)成分的組成：蝕刻液的化學(xué)組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數(shù)也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數(shù)可達(dá)3.5-4。而正處在開發(fā)階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達(dá)到幾乎沒有側(cè)蝕問題，蝕刻后的導(dǎo)線側(cè)壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 據(jù)悉，東京電子新技術(shù)的目標(biāo)是能夠長時間儲存數(shù)據(jù)的3d nand閃存。該公司開發(fā)了一種新的通道孔蝕刻方法，該方法是將垂直孔快速深插入存儲單元。3D nand的存儲器容量可以通過將存儲器單元層垂直堆積來增加，如果層數(shù)增加，就需要性能更高的裝置。
2023-10-16 14:39:49368 電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供ADI(ADI)MAX17614:4.5V至60V、3A、理想二極極/有當(dāng)前限制的電源選擇器、紫外線、OV保護數(shù)據(jù)表相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊，更有MAX17614:4.5V至60V
2023-10-08 16:47:50
GaN及相關(guān)合金可用于制造藍(lán)色/綠色/紫外線發(fā)射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學(xué)蝕刻結(jié)果有限，因此人們投入了大量精力來開發(fā)干法蝕刻工藝。干法蝕刻開發(fā)一開始集中于臺面結(jié)構(gòu)，其中需要高蝕刻速率、各向異性輪廓、光滑側(cè)壁和不同材料的同等蝕刻。
2023-10-07 15:43:56319 
紫外線老化試驗箱又稱紫外光耐候試驗箱，紫外光老化測試機，耐光照試驗箱，抗紫外線老化試驗機，老化試驗箱等等，雖然這一設(shè)備在名稱方面各不相同，可它們的使用性能狀況卻是一樣的。為了使設(shè)備安全放心的為我們
2023-10-07 11:08:48200 
用微型光譜儀驗證“透明鏡片"對眼部紫外線防護效果背景眾所周知，長時間的眼部紫外線照射會影響長期的眼部健康。雖然通?？梢?b class="flag-6" style="color: red">通過紡織品或涂抹防曬霜來有效保護皮膚，但對眼睛敏感組織和周圍皮膚進(jìn)行
2023-09-26 08:17:48292 
銅的電阻率取決于其晶體結(jié)構(gòu)、空隙體積、晶界和材料界面失配，這在較小的尺度上變得更加重要。傳統(tǒng)上，銅(Cu)線的形成是通過使用溝槽蝕刻工藝在低k二氧化硅中蝕刻溝槽圖案，然后通過鑲嵌流用Cu填充溝槽來完成的。
2023-09-22 09:57:23281 
空氣質(zhì)量對我們的身體健康和生活質(zhì)量有著重要的影響，紫外線空氣凈化處理設(shè)備的使用也越來越普遍。紫外線傳感器作為空氣處理設(shè)備的重要組成部分，發(fā)揮著重要的作用。 紫外線是太陽輻射的一種，紫外線可以促進(jìn)傷口
2023-09-21 10:14:35489 
一站式PCBA智造廠家今天為大家講講pcb打樣蝕刻工藝注意事項有哪些?PCB打樣蝕刻工藝注意事項。PCB打樣中，在銅箔部分預(yù)鍍一層鉛錫防腐層，保留在板外層，即電路的圖形部分，然后是其余的銅箔被化學(xué)方法腐蝕，稱為蝕刻。
2023-09-18 11:06:30669 要注意的是，蝕刻時的板子上面有兩層銅。在外層蝕刻工藝中僅僅有一層銅是必須被全部蝕刻掉的，其余的將形成最終所需要的電路。這種類型的圖形電鍍,其特點是鍍銅層僅存在于鉛錫抗蝕層的下面。
2023-09-07 14:41:12474 
直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉(zhuǎn)移工藝。在直接蝕刻工藝中，首先使用光刻技術(shù)對聚合物抗蝕劑進(jìn)行構(gòu)圖，然后通過干法蝕刻技術(shù)用抗蝕劑作為掩模將圖案轉(zhuǎn)移到襯底或子層上。
2023-09-07 09:57:14292 
在印制板外層電路的加工工藝中，還有另外一種方法，就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝，可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻。
2023-09-06 09:36:57811 
我們?nèi)A林科納通過光學(xué)反射光譜半實時地原位監(jiān)測用有機堿性溶液的濕法蝕刻，以實現(xiàn)用于線波導(dǎo)的氫化非晶硅（a-Si:H）膜的高分辨率厚度控制。由a-Si:H的本征各向同性結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的各向同性蝕刻導(dǎo)致表面
2023-08-22 16:06:56239 
半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體製造過程中使用的設(shè)備。 化學(xué)溶液通過將晶片浸入化學(xué)溶液（蝕刻劑）中來選擇性地去除半導(dǎo)體晶片的特定層或區(qū)域，化學(xué)溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 ，我們描述了一種創(chuàng)造性的解決方案，它在紫外線波長下提供了出色的性能。我們描述了在120至300nm波長下理論量子效率（QEs）大于60%的涂層CCD探測器的開發(fā)進(jìn)展。這種高效率可以通過用一系列薄膜AR涂層涂覆背面照明的、減薄的、delta摻雜的C
2023-08-11 17:13:56227 
用于深紫外線傳感應(yīng)用的GaN型紫外線傳感器。
與Si型紫外線傳感器相比，新產(chǎn)品對UV-B和UV-C深紫外線具有更高的靈敏度。
通過使用GaN,產(chǎn)品的靈敏度是Si型UV傳感器的三倍。
2023-08-11 11:50:40261 
PCB蝕刻工藝中的“水池效應(yīng)”現(xiàn)象，通常發(fā)生在頂部，這種現(xiàn)象會導(dǎo)致大尺寸PCB整個板面具有不同的蝕刻質(zhì)量。
2023-08-10 18:25:431013 紫外輻射傳感器采用光電測探器，接收紫外光波電信號。該產(chǎn)品用來測量大氣中的太陽紫外線輻射（UVAB波長范圍）的精密儀器，與數(shù)據(jù)采集儀配合使用可提供公眾所關(guān)心的信息：UV指數(shù)、UV紅斑測量，UV對人體
2023-08-07 14:06:0391 
刻蝕和蝕刻實質(zhì)上是同一過程的不同稱呼，常常用來描述在材料表面上進(jìn)行化學(xué)或物理腐蝕以去除或改變材料的特定部分的過程。在半導(dǎo)體制造中，這個過程常常用于雕刻芯片上的細(xì)微結(jié)構(gòu)。
2023-07-28 15:16:594140 紫外老化試驗箱是一種用于模擬自然環(huán)境中的紫外線、濕度和溫度對材料老化影響的設(shè)備。它被廣泛用于研究材料的耐久性、性能和可靠性，是產(chǎn)品質(zhì)量控制和研發(fā)過程中不可或缺的實驗設(shè)備。上海和晟HS系列紫外老化試驗
2023-07-20 11:20:01514 
蝕刻是一種從材料上去除的過程?；砻嫔系囊环N薄膜基片。當(dāng)掩碼層用于保護特定區(qū)域時在晶片表面，蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-14 11:13:32183 
什么叫UVC紫外線呢？UVC紫外線是電磁輻射的一種類型，處于紫外線光譜中的一部分。紫外線（Ultraviolet Radiation）是指波長介于可見光和X射線之間的電磁輻射，它被分為三個主要區(qū)域：UVA、UVB和UVC。
2023-07-14 09:42:35314 
蝕刻是一種從材料上去除的過程?；砻嫔系囊环N薄膜基片。當(dāng)掩碼層用于保護特定區(qū)域時在晶片表面，蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-12 09:26:03190 
紫外線加速試驗機(控制器上直接設(shè)定幅照度）一、產(chǎn)品參數(shù)工作室尺寸：1140mm×400mm×380mm 外形尺寸：1300mm×500mm×1460mm 燈的中心距離：70mm
2023-07-03 19:29:58
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《電暈消毒紫外線機器人開源分享.zip》資料免費下載
2023-06-30 15:10:04
0 紫外線無損檢測燈
2023-06-29 15:45:23478 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《MEGR 3171便攜式溫度和紫外線指數(shù).zip》資料免費下載
2023-06-28 10:59:360 隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm，鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻，我們需要一個側(cè)壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓，但大多數(shù)鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《UVC Box:一款DIY紫外線消毒器.zip》資料免費下載
2023-06-27 10:05:420 CMOS和MEMS制造技術(shù)，允許相對于其他薄膜選擇性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的實用性。這種化學(xué)性質(zhì)非常有用，但是當(dāng)存在其他材料并且也已知在HF中蝕刻時，這就成了問題。由于器件的靜摩擦、緩慢的蝕刻速率以及橫向或分層膜的蝕刻速率降低，濕法化學(xué)也會有問題。
2023-06-26 13:32:441053 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《使用ML8511紫外線傳感器Arduino的紫外線指數(shù)計.zip》資料免費下載
2023-06-26 10:36:210 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《Pinaka:UVD(紫外線消毒)機器人開源分享.zip》資料免費下載
2023-06-25 14:22:110 步驟的工藝中的實時 EPD. 這是通過高信噪比 SNR 實現(xiàn)的, 從而避免了 OES 設(shè)備中常見的模棱兩可和復(fù)雜的多變量分析算法.
2023-06-20 17:28:31258 
上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機, 實現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665 
器件尺寸的不斷縮小促使半導(dǎo)體工業(yè)開發(fā)先進(jìn)的工藝技術(shù)。近年來，原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)已經(jīng)成為小型化的重要加工技術(shù)。ALD是一種沉積技術(shù)，它基于連續(xù)的、自限性的表面反應(yīng)。ALE是一種蝕刻技術(shù)，允許以逐層的方式從表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步驟的等離子體或熱連續(xù)反應(yīng)。
2023-06-15 11:05:05526 
【產(chǎn)品介紹】紫外老化試驗箱適用于非金屬材料的耐陽光和人工光源的老化試驗。源采用8只額定功率為40W的紫外熒光燈作發(fā)光源。紫外線熒光燈管，分布在機器的兩側(cè)，每側(cè)各4只（有UVA-340和UVB-313
2023-06-14 15:20:45250 
為了提供更優(yōu)良的靜電完整性，三維(3D)設(shè)計（如全圍柵(GAA)場電子晶體管(FET )）預(yù)計將在互補金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)中被采用。3D MOS架構(gòu)為蝕刻應(yīng)用帶來了一系列挑戰(zhàn)。雖然平面設(shè)備更多地依賴于各向異性蝕刻，但是3D設(shè)備在不同材料之間具有高選擇性，需要更多的各向異性蝕刻能力。
2023-06-14 11:03:531779 
概述：
? SB-FSS06 是一款基于C2M低代碼核心模組開發(fā)的《4G_Lora遠(yuǎn)程紫外線監(jiān)測器》設(shè)備，可實現(xiàn)4G或Lora遠(yuǎn)程獲取紫外線強度值的功能。該設(shè)備的配置方式極其簡單，用戶無需在電腦端
2023-06-13 10:13:32
本身溫度大于絕對零度的物體，都可以發(fā)射電磁波；電磁波從低頻率到高頻率，包括無線電波、微波、紅外線、可見光、紫外線、X-射線和伽馬射線等。光也是一種電磁波，紫外線通常是指波長在100—400nm之間的電磁波，相對于人眼不可見。
2023-06-07 16:30:54683 
等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個必要步驟，然而，載體材料的選擇可能會實質(zhì)上改變蝕刻特性。在小型單個芯片上制造氮化鎵（GaN）設(shè)備，通常會導(dǎo)致晶圓的成本上升。在本研究中，英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54452 
納米片工藝流程中最關(guān)鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的，并使用氟化化學(xué)。優(yōu)化內(nèi)部間隔蝕刻（壓痕）和通道釋放步驟，以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071 
過去利用堿氫氧化物水溶液研究了硅的取向依賴蝕刻，這是制造硅中微結(jié)構(gòu)的一種非常有用的技術(shù)。以10M氫氧化鉀（KOH）為蝕刻劑，研究了單晶硅球和晶片的各向異性蝕刻過程，測量了沿多個矢量方向的蝕刻速率，用單晶球發(fā)現(xiàn)了最慢的蝕刻面。英思特利用這些數(shù)據(jù)，提出了一種預(yù)測不同方向表面的傾角的方法
2023-05-29 09:42:40618 
微孔利用光和物質(zhì)的相互作用來獲得獨特的性質(zhì)，特別是，當(dāng)用紫外光、可見光或近紅外光在其表面等離子體極化頻率附近照射時，金屬微孔結(jié)構(gòu)表現(xiàn)出強烈的共振。然而，用于制造微孔的技術(shù)是耗時的，并且需要昂貴的設(shè)備和專業(yè)人員。因此，英思特開發(fā)了一種通過濕化學(xué)蝕刻硅襯底來制造微孔的方法。
2023-05-25 13:47:51846 
UV三防漆（電防膠）是一種通過紫外線輻射固化的涂料，其固化速度快的特點可有效防止漆膜表面起皺、脫落等現(xiàn)象發(fā)生。但是在實際施膠過程中，UV三防漆固化速度會受不同因素影響，那么影響UV三防漆的固化速度
2023-05-22 10:31:26362 
蝕刻可能是濕制程階段最復(fù)雜的工藝，因為有很多因素會影響蝕刻速率。如果不保持這些因素的穩(wěn)定，蝕刻率就會變化，因而影響產(chǎn)品質(zhì)量。如果希望利用一種自動化方法來維護蝕刻化學(xué)，以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575 
一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作抗蝕刻 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金
2023-05-18 16:23:484917 蝕刻是微結(jié)構(gòu)制造中采用的主要工藝之一。它分為兩類：濕法蝕刻和干法蝕刻，濕法蝕刻進(jìn)一步細(xì)分為兩部分，即各向異性和各向同性蝕刻。硅濕法各向異性蝕刻廣泛用于制造微機電系統(tǒng)(MEMS)的硅體微加工和太陽能電池應(yīng)用的表面紋理化。
2023-05-18 09:13:12700 
拋光硅晶片是通過各種機械和化學(xué)工藝制備的。首先，硅單晶錠被切成圓盤（晶片），然后是一個稱為拍打的扁平過程，包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機械損傷，蝕刻之后是各種單元操作，如拋光和清洗之前，它已經(jīng)準(zhǔn)備好為設(shè)備制造。
2023-05-16 10:03:00584 
光刻機用UV光源，其通過特殊光學(xué)設(shè)計發(fā)射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外線通過掩膜掩孔對集成電路高精密線路完成蝕刻曝光顯影的工作。
2023-05-11 10:34:283159 
文件殺菌機的想法
目前針對文件殺菌的設(shè)備很少，主要用于臭氧殺菌，或紫外線照射殺菌。無法對文件內(nèi)部，或堆疊的文件內(nèi)頁進(jìn)行殺菌。
想利用靜電原理，或者電荷釋放使紙張帶同種電荷，然后相互排斥，以達(dá)到成堆
2023-05-04 15:24:28
在這篇文章中，我們將討論直流紫外線殺菌燈鎮(zhèn)流器電路的結(jié)構(gòu)，該電路可用于通過12V直流電源驅(qū)動任何標(biāo)準(zhǔn)的20瓦紫外線燈。
2023-04-29 17:21:007152 
在昨天測試紫外線燈管擊穿電壓實驗中， 燈絲沒有加熱。?對應(yīng)的擊穿電壓為1308V，?如果將燈絲進(jìn)行加熱， 能夠在多大程度上降低紫外線燈管的擊穿電壓呢？?我們知道電子是從陰極發(fā)射的， 所以下面通過實驗測試一下對于陰極燈絲加熱之后， 紫外線燈管的擊穿電壓是多少。
2023-04-24 13:45:30358 
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：單晶的濕法蝕刻和紅外吸收 編號：JFKJ-21-206 作者：炬豐科技 摘要 采用濕法腐蝕、x射線衍射和紅外吸收等方法研究了物理氣相色譜法生長AlN單晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118 波長的紫外線水平不足以影響光刻膠?！ 『谏该髂z片通過銷釘固定，以防止與面板對齊。當(dāng)面板和鋼網(wǎng)接觸時，發(fā)生器會用高強度的紫外線將其噴砂，從而使光致抗蝕劑硬化。然后，面板進(jìn)入機器，該機器去除未硬化的抗蝕劑
2023-04-21 15:55:18
在昨天測試紫外線燈管擊穿電壓實驗中， 燈絲沒有加熱。?對應(yīng)的擊穿電壓為1308V，?如果將燈絲進(jìn)行加熱， 能夠在多大程度上降低紫外線燈管的擊穿電壓呢？?我們知道電子是從陰極發(fā)射的， 所以下面通過實驗測試一下對于陰極燈絲加熱之后， 紫外線燈管的擊穿電壓是多少。
2023-04-19 11:45:05320 
反應(yīng)離子蝕刻 (RIE)是一種干法蝕刻工藝，與半導(dǎo)體工業(yè)中使用的互補金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)方法兼容。
2023-04-14 14:26:161253 
干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應(yīng)在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片，是液體（濕法蝕刻）還是氣體（干法蝕刻）
2023-04-12 14:54:331004 經(jīng)過多年的研發(fā)，隨著該行業(yè)在內(nèi)存和邏輯方面面臨新的挑戰(zhàn)，一種稱為低溫蝕刻的技術(shù)正在重新出現(xiàn)，成為一種可能的生產(chǎn)選擇。
2023-03-29 10:14:41392 
印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過程，本文就對其最后的一步--蝕刻進(jìn)行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886 研究表明，半導(dǎo)體的物理特性會根據(jù)其結(jié)構(gòu)而變化，因此半導(dǎo)體晶圓在組裝成芯片之前被蝕刻成可調(diào)整其電氣和光學(xué)特性以及連接性的結(jié)構(gòu)。
2023-03-28 09:58:34251 
在濕蝕刻的情況下，隨著SiNx/SiOy層的厚度減小，剩余的SiOy層由于表面張力而坍塌，蝕刻溶液對孔的滲透變得更具挑戰(zhàn)性。
2023-03-27 10:17:49402 
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