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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>AFN塊體單晶的濕法蝕刻和紅外吸收研究報(bào)告

AFN塊體單晶的濕法蝕刻和紅外吸收研究報(bào)告

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智程半導(dǎo)體完成股權(quán)融資,專注半導(dǎo)體濕法工藝設(shè)備研發(fā)

智程半導(dǎo)體自2009年起致力于半導(dǎo)體濕法工藝設(shè)備研究、生產(chǎn)與銷售事業(yè),10余載研發(fā)歷程,使得其已成為全球頂尖的半導(dǎo)體濕法設(shè)備供應(yīng)商。業(yè)務(wù)范圍包括清洗、去膠、濕法刻蝕、電鍍、涂膠顯影、金屬剝離等多種設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種高尖端產(chǎn)品領(lǐng)域。
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大尺寸AlN單晶生長研究

AlN單晶襯底以其優(yōu)異的性能和潛在的應(yīng)用前景引起了人們的廣泛研究興趣. 物理氣相輸運(yùn)(PVT)是最適合AIN襯底制備的方法。
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一圖讀懂《分布式融合存儲(chǔ)研究報(bào)告(2023)》

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2023-12-21 18:05:01270

微型發(fā)光二極管(MicroLED)技術(shù)普及研究報(bào)告

這份報(bào)告由業(yè)內(nèi)知名研究機(jī)構(gòu)——MicroLED產(chǎn)業(yè)聯(lián)合會(huì)公布。事實(shí)上,早在2000年,業(yè)界便開始關(guān)注MicroLED技術(shù)。該技術(shù)以其出色的亮度、豐富的色彩展現(xiàn)力以及超長的使用壽命引起了轟動(dòng)。
2023-12-20 14:35:07333

6G總體愿景、技術(shù)趨勢、網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)研究報(bào)告

世界各國不僅把6G作為構(gòu)筑未來數(shù)字經(jīng)濟(jì)與社會(huì)發(fā)展的重要基石,也將其視為國家間前沿科技競爭的制高點(diǎn)。全球主要國家的多。個(gè)研究機(jī)構(gòu)和聯(lián)盟組織相繼發(fā)布了6G總體愿景、技術(shù)趨勢、網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)等方面的白皮書和研究報(bào)告,陳述各國發(fā)展6G的宏偉愿景與技術(shù)思考。
2023-12-19 11:23:36151

非均勻GaAs/AlGaAs量子阱紅外探測器材料表征和器件性能研究

量子阱紅外探測器基于子帶躍遷的工作原理,探測器吸收紅外輻射后激發(fā)量子阱中的電子,使其從基態(tài)躍遷到連續(xù)態(tài)中,從而實(shí)現(xiàn)紅外探測。
2023-12-18 10:42:41232

基于電感耦合反應(yīng)離子刻蝕的氮化鎵干蝕研究

GaN和InGaN基化合物半導(dǎo)體和其他III族氮化物已經(jīng)成功地用于實(shí)現(xiàn)藍(lán)-綠光發(fā)光二極管和藍(lán)光激光二極管。由于它們優(yōu)異的化學(xué)和熱穩(wěn)定性,在沒有其它輔助的情況下,在GaN和InGaN基材料上的濕法蝕刻是困難的,并且導(dǎo)致低的蝕刻速率和各向同性的蝕刻輪廓。
2023-12-05 14:00:22220

不同氮化鎵蝕刻技術(shù)的比較

GaN作為寬禁帶III-V族化合物半導(dǎo)體最近被深入研究。為了實(shí)現(xiàn)GaN基器件的良好性能,GaN的處理技術(shù)至關(guān)重要。目前英思特已經(jīng)嘗試了許多GaN蝕刻方法,大部分GaN刻蝕是通過等離子體刻蝕來完成
2023-12-01 17:02:39259

業(yè)界首個(gè)《分布式融合存儲(chǔ)研究報(bào)告》發(fā)布,探索智算時(shí)代新存儲(chǔ)底座

存儲(chǔ)研究報(bào)告》(以下簡稱:《報(bào)告》)正式發(fā)布?!?b class="flag-6" style="color: red">報(bào)告》首次系統(tǒng)梳理并深入分析了分布式融合存儲(chǔ)的概念、技術(shù)架構(gòu)和應(yīng)用場景,為融合存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供參考和指引。 中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院領(lǐng)導(dǎo)表示,“數(shù)據(jù)成為重要的生產(chǎn)要素,數(shù)據(jù)
2023-11-30 16:25:01172

什么是單晶硅光伏板?單晶硅光伏板優(yōu)缺點(diǎn)

單晶硅光伏板是一種基于單晶硅材料制造的太陽能光電設(shè)備,常用于太陽能光伏發(fā)電系統(tǒng)中。單晶硅光伏板由多個(gè)單晶硅太陽能電池片組成,每個(gè)電池片都被覆蓋在透明的防反射玻璃上,并使用鋁框架進(jìn)行支撐和保護(hù)。
2023-11-29 09:46:061005

濕法刻蝕液的種類與用途有哪些呢?濕法刻蝕用在哪些芯片制程中?

濕法刻蝕由于成本低、操作簡單和一些特殊應(yīng)用,所以它依舊普遍。
2023-11-27 10:20:17452

氮化鎵的晶體學(xué)濕式化學(xué)蝕刻

目前,大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個(gè)缺點(diǎn),包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁典型均方根(rms)粗糙度約為50納米
2023-11-24 14:10:30241

研究人員研制一種近紅外低維探測材料吸收增強(qiáng)器件

強(qiáng)度與柔韌性等,被視為“后摩爾定律”時(shí)代半導(dǎo)體工業(yè)新的突破口。然而,極薄的厚度導(dǎo)致的弱光-物質(zhì)相互作用成為研發(fā)高性能紅外探測器件的重要挑戰(zhàn)。目前已經(jīng)報(bào)道的研究工作并沒有提供令人滿意的吸收增強(qiáng)效果與低損耗率,
2023-11-17 09:07:34219

工業(yè)控制系統(tǒng)及其安全性研究報(bào)告

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2023-11-16 14:29:130

基于開關(guān)電源的尖峰吸收電路研究

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2023-11-14 14:45:192

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2023-11-14 10:29:150

2023年中國家用智能照明行業(yè)研究報(bào)告

艾瑞咨詢:2023年中國家用智能照明行業(yè)研究報(bào)告
2023-11-07 16:37:390

基于Cl2/BCl3電感偶聯(lián)等離子體的氮化鎵干蝕特性

氮化鎵(GaN)具有六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),直接帶隙約為3.4eV,目前已成為實(shí)現(xiàn)藍(lán)光發(fā)光二極管(led)的主導(dǎo)材料。由于GaN的高化學(xué)穩(wěn)定性,在室溫下用濕法化學(xué)蝕刻蝕刻或圖案化GaN是非常困難的。與濕法
2023-10-12 14:11:32244

關(guān)于氮化鎵的干蝕刻綜述

GaN及相關(guān)合金可用于制造藍(lán)色/綠色/紫外線發(fā)射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學(xué)蝕刻結(jié)果有限,因此人們投入了大量精力來開發(fā)干法蝕刻工藝。干法蝕刻開發(fā)一開始集中于臺(tái)面結(jié)構(gòu),其中需要高蝕刻速率、各向異性輪廓、光滑側(cè)壁和不同材料的同等蝕刻。
2023-10-07 15:43:56319

紅外隱身材料的應(yīng)用及其研究進(jìn)展綜述

隨著紅外探測技術(shù)的飛速發(fā)展,紅外隱身材料的開發(fā)已成為一個(gè)迫切的需求。紅外隱身效果受溫度和紅外發(fā)射率的共同影響,但以往的研究大多集中在單一因素上,從而限制了紅外隱身產(chǎn)品的有效性。
2023-10-07 15:28:42678

方圓企業(yè)服務(wù)集團(tuán)發(fā)布《2023年度ESG 研究報(bào)告

香港上市公司ESG表現(xiàn)積極 ?但仍需持續(xù)改進(jìn) 香港2023年9月20日 /美通社/ -- 方圓企業(yè)服務(wù)繼2021年以來,于2023年9月19日,連續(xù)第三年發(fā)布ESG 研究報(bào)告。通過對(duì)上市公司ESG
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用二維材料制作有效的光吸收

都在研究這種新型設(shè)備,因?yàn)檫@種新型設(shè)備具有類似塊體結(jié)構(gòu)無法實(shí)現(xiàn)的物理特性和行為。 朱教授的團(tuán)隊(duì)最近研究了范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)對(duì)于高效光捕獲的適用性,并在《化學(xué)物理雜志》上發(fā)表了一篇新文章,報(bào)告了他們的實(shí)驗(yàn)和發(fā)現(xiàn)。他們
2023-09-18 16:47:48178

關(guān)于氣體分子紅外吸收光譜的基礎(chǔ)知識(shí)

紅外光的照射下,氣體分子只能夠吸收與其本身分子轉(zhuǎn)動(dòng)、振動(dòng)頻率一致的紅外光譜。 由于不同氣體擁有各自不同的特征頻率,因此采用特定頻率的激光照射被測氣體時(shí),根據(jù)氣體紅外吸收光譜可以從中可以獲得該氣體在紅外區(qū)的吸收峰,根據(jù)紅外吸收峰通過查詢數(shù)據(jù)庫可以得到待檢測的是何種氣體。
2023-09-18 10:24:55386

2023年中國信創(chuàng)產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告:統(tǒng)信UOS斬獲四項(xiàng)最佳!

好消息再次傳來! 統(tǒng)信UOS又雙叒叕獲得認(rèn)可! 第一新聲發(fā)布 《2023年中國信創(chuàng)產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告》 我們分別入選: 中國最佳信創(chuàng)廠商TOP50 中國最佳信創(chuàng)操作系統(tǒng)廠商 中國最佳信創(chuàng)廠商優(yōu)秀
2023-09-13 17:02:17376

《零信任發(fā)展研究報(bào)告(2023年)》發(fā)布丨零信任蓬勃發(fā)展,多場景加速落地

近日,中國信息通信研究院在“2023 SecGo云和軟件安全大會(huì)”上發(fā)布了 《零信任發(fā)展研究報(bào)告(2023年)》 (以下簡稱“報(bào)告”),全面介紹了在數(shù)字化轉(zhuǎn)型深化背景下,零信任如何解決企業(yè)面臨的安全
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pcb蝕刻是什么意思

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吸收電流是什么意思

吸收電流是什么意思 吸收電流是指某個(gè)電子元件、電路或設(shè)備所需要的電流,以供其正常工作或發(fā)揮預(yù)期功能。這些電路和設(shè)備需要一定的電流才能工作。在電路中,電流可以被看作是電荷在電路中的流動(dòng)。電荷從高
2023-09-05 09:19:171102

使用各向同性濕蝕刻和低損耗線波導(dǎo)制造與蝕刻材料對(duì)非晶硅進(jìn)行納米級(jí)厚度控制

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異質(zhì)結(jié)電池中非晶硅薄膜的紅外吸收光譜

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昆明物理研究所碲鎘汞紅外探測器研究進(jìn)展

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2023年汽車車內(nèi)通信及網(wǎng)絡(luò)接口芯片行業(yè)研究報(bào)告

佐思汽研發(fā)布了《2023年汽車車內(nèi)通信及網(wǎng)絡(luò)接口芯片行業(yè)研究報(bào)告》。 根據(jù)通信連接形態(tài)的不同,汽車通信應(yīng)用分為無線通信和有線通信。
2023-08-02 10:56:431401

展會(huì)活動(dòng) | 限時(shí)預(yù)登記領(lǐng)取AIoT行業(yè)研究報(bào)告,還有機(jī)會(huì)領(lǐng)取京東卡!

預(yù)登記展會(huì)領(lǐng)取門票還可以獲得由AIoT星圖研究院出品2023行業(yè)報(bào)告之《蜂窩物聯(lián)網(wǎng)系列之LTE Cat.1市場跟蹤調(diào)研報(bào)告》、《中國光伏物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)分析報(bào)告》、《2023中國智慧工地行業(yè)市場研究報(bào)告
2023-07-31 11:14:32525

研究報(bào)告丨容、感、阻被動(dòng)元器件市場報(bào)告

自己的模板 研究 報(bào)告《 容、感、阻被動(dòng)元器件市場報(bào)告》,如需領(lǐng)取報(bào)告,請(qǐng)關(guān)注公眾號(hào),后臺(tái)回復(fù) ? 元器件? 即可領(lǐng)??! 聲明 : 本文由電子發(fā)燒友原創(chuàng) ,轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明以上來源。如需入群交流 ,請(qǐng)?zhí)砑?/div>
2023-07-17 17:15:04246

深度解讀硅微納技術(shù)之的蝕刻技術(shù)

蝕刻是一種從材料上去除的過程。基片表面上的一種薄膜基片。當(dāng)掩碼層用于保護(hù)特定區(qū)域時(shí)在晶片表面,蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-14 11:13:32183

斑馬技術(shù)發(fā)布2023年汽車生態(tài)系統(tǒng)愿景研究報(bào)告

年7月6日 作為致力于助力企業(yè)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)、資產(chǎn)和人員智能互聯(lián)的先進(jìn)數(shù)字解決方案提供商,斑馬技術(shù)公司(納斯達(dá)克股票代碼:ZBRA)今日發(fā)布2023年《汽車生態(tài)系統(tǒng)愿景研究報(bào)告》。報(bào)告結(jié)果表明,汽車制造商正面對(duì)著來自各方面的壓力,他們需要滿足消費(fèi)者對(duì)整體制造過
2023-07-07 16:07:24321

研究報(bào)告丨虛擬人產(chǎn)業(yè)鏈及市場前景報(bào)告

自己的模板 研究 報(bào)告《 虛擬人產(chǎn)業(yè)鏈及市場前景報(bào)告》,如需領(lǐng)取報(bào)告,請(qǐng)關(guān)注公眾號(hào),后臺(tái)回復(fù) ? 虛擬人? 即可領(lǐng)?。?聲明 : 本文由電子發(fā)燒友原創(chuàng) ,轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明以上來源。如需入群交流 ,請(qǐng)?zhí)砑?/div>
2023-07-03 17:25:02283

鋁等離子體蝕刻率的限制

隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm,鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻,我們需要一個(gè)側(cè)壁鈍化機(jī)制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓,但大多數(shù)鋁蝕刻研究
2023-06-27 13:24:11318

鍺、硅、SiNx薄膜的各向同性等離子體蝕刻

CMOS和MEMS制造技術(shù),允許相對(duì)于其他薄膜選擇性地去除薄膜,在器件集成中一直具有很高的實(shí)用性。這種化學(xué)性質(zhì)非常有用,但是當(dāng)存在其他材料并且也已知在HF中蝕刻時(shí),這就成了問題。由于器件的靜摩擦、緩慢的蝕刻速率以及橫向或分層膜的蝕刻速率降低,濕法化學(xué)也會(huì)有問題。
2023-06-26 13:32:441053

14.3 SiC體單晶的制備_clip001

單晶
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13.4 ZnO的單晶的摻雜

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13.3 ZnO的薄膜單晶的制備

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11.6 GaN薄膜單晶的摻雜

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11.5 GaN薄膜單晶的制備_clip002

單晶
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11.5 GaN薄膜單晶的制備_clip001

單晶
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11.4 GaN體單晶的制備

單晶
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9.3 絕緣體上的單晶硅薄膜SOI

單晶
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9.2 單晶硅薄膜材料(下)

單晶
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9.2 單晶硅薄膜材料(上)_clip002

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9.2 單晶硅薄膜材料(上)_clip001

單晶
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8.5 直拉硅單晶的缺陷

單晶
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8.3 直拉硅單晶的輕元素雜質(zhì)_clip001

單晶
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8.2 直拉硅單晶的摻雜濃度_clip002

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8.1 直拉硅單晶的摻雜技術(shù)(下)

單晶
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7.6 直拉硅單晶的加工(下)

單晶
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7.6 直拉硅單晶的加工(上)

單晶
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7.5 新型直拉硅單晶生長工藝

單晶
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7.4 單晶生長的主要影響因素

單晶
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7.3 直拉硅單晶生長的基本工藝(下)

單晶
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7.2 直拉硅單晶生長的基本工藝(中)

單晶
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7.2 直拉硅單晶生長的基本工藝(上)_clip002

單晶
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7.2 直拉硅單晶生長的基本工藝(上)_clip001

單晶
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7.1 直拉硅單晶

單晶
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6.3 區(qū)熔硅單晶(下)

單晶
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清華大學(xué)AIGC發(fā)展研究報(bào)告1.0版震撼發(fā)布!192頁P(yáng)PT

研究報(bào)告1.0版》,總計(jì)192頁,分為技術(shù)篇、產(chǎn)業(yè)篇、評(píng)測篇、職業(yè)篇、風(fēng)險(xiǎn)篇、哲理篇、未來篇、團(tuán)隊(duì)篇等多個(gè)篇章,對(duì)AIGC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢進(jìn)行了詳盡研究和分析
2023-06-09 10:32:36550

充電寶XB8608AFN-xb8608芯片參數(shù)規(guī)格書-驪微電子

供應(yīng)充電寶XB8608AFN,提供xb8608芯片參數(shù)規(guī)格書 ,更多產(chǎn)品手冊(cè)、應(yīng)用料資請(qǐng)向深圳市驪微電子申請(qǐng) 。>>
2023-06-08 10:44:415

清華大學(xué)AIGC發(fā)展研究報(bào)告1.0版震撼發(fā)布!192頁P(yáng)PT

發(fā)展研究報(bào)告1.0版》,總計(jì)192頁,分為技術(shù)篇、產(chǎn)業(yè)篇、評(píng)測篇、職業(yè)篇、風(fēng)險(xiǎn)篇、哲理篇、未來篇、團(tuán)隊(duì)篇等多個(gè)篇章,對(duì)AIGC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢進(jìn)行了詳盡研究和分析。 以下為報(bào)告內(nèi)容 受篇幅限制,以上僅為部分報(bào)告預(yù)覽 后臺(tái)回復(fù)【 AIG
2023-06-04 16:15:01503

6.3 區(qū)熔硅單晶(上)

單晶
jf_75936199發(fā)布于 2023-06-01 00:16:50

載體晶圓對(duì)蝕刻速率、選擇性、形貌的影響

等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個(gè)必要步驟,然而,載體材料的選擇可能會(huì)實(shí)質(zhì)上改變蝕刻特性。在小型單個(gè)芯片上制造氮化鎵(GaN)設(shè)備,通常會(huì)導(dǎo)致晶圓的成本上升。在本研究中,英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54452

淺談蝕刻工藝開發(fā)的三個(gè)階段

納米片工藝流程中最關(guān)鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的,并使用氟化化學(xué)。優(yōu)化內(nèi)部間隔蝕刻(壓痕)和通道釋放步驟,以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071

硅在氫氧化鈉和四甲基氫氧化銨中的溫度依賴性蝕刻

過去利用堿氫氧化物水溶液研究了硅的取向依賴蝕刻,這是制造硅中微結(jié)構(gòu)的一種非常有用的技術(shù)。以10M氫氧化鉀(KOH)為蝕刻劑,研究單晶硅球和晶片的各向異性蝕刻過程,測量了沿多個(gè)矢量方向的蝕刻速率,用單晶球發(fā)現(xiàn)了最慢的蝕刻面。英思特利用這些數(shù)據(jù),提出了一種預(yù)測不同方向表面的傾角的方法
2023-05-29 09:42:40618

PCB常見的五種蝕刻方式

一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作抗蝕刻 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金
2023-05-18 16:23:484918

高速硅濕式各向異性蝕刻技術(shù)在批量微加工中的應(yīng)用

蝕刻是微結(jié)構(gòu)制造中采用的主要工藝之一。它分為兩類:濕法蝕刻和干法蝕刻,濕法蝕刻進(jìn)一步細(xì)分為兩部分,即各向異性和各向同性蝕刻。硅濕法各向異性蝕刻廣泛用于制造微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的硅體微加工和太陽能電池應(yīng)用的表面紋理化。
2023-05-18 09:13:12700

硅晶片的酸基蝕刻:傳質(zhì)和動(dòng)力學(xué)效應(yīng)

拋光硅晶片是通過各種機(jī)械和化學(xué)工藝制備的。首先,硅單晶錠被切成圓盤(晶片),然后是一個(gè)稱為拍打的扁平過程,包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機(jī)械損傷,蝕刻之后是各種單元操作,如拋光和清洗之前,它已經(jīng)準(zhǔn)備好為設(shè)備制造。
2023-05-16 10:03:00584

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》單晶濕法蝕刻紅外吸收

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章:單晶濕法蝕刻紅外吸收 編號(hào):JFKJ-21-206 作者:炬豐科技 摘要 采用濕法腐蝕、x射線衍射和紅外吸收等方法研究了物理氣相色譜法生長AlN單晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118

工業(yè)泵在半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備中的應(yīng)用

【摘要】 在半導(dǎo)體濕法工藝中,后道清洗因使用有機(jī)藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進(jìn)行對(duì)比研究,論述不同藥液與機(jī)臺(tái)的清洗原理,清洗特點(diǎn)與清洗局限性?!娟P(guān)鍵詞
2023-04-20 11:45:00823

研究報(bào)告丨汽車MCU產(chǎn)業(yè)鏈分析報(bào)告

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2023-04-12 15:10:02390

干法蝕刻濕法蝕刻-差異和應(yīng)用

干法蝕刻濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項(xiàng)目開始時(shí)必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應(yīng)在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片,是液體(濕法蝕刻)還是氣體(干法蝕刻
2023-04-12 14:54:331004

從頭到尾的半導(dǎo)體技術(shù)

濕法蝕刻工藝的原理是使用化學(xué)溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為液體化合物。選擇性非常高
2023-04-10 17:26:10453

【新聞】全國普通高校大學(xué)生計(jì)算機(jī)類競賽研究報(bào)告正式發(fā)布

全國普通高校大學(xué)生計(jì)算機(jī)類競賽研究報(bào)告鏈接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在計(jì)算機(jī)類競賽中的表現(xiàn)情況是評(píng)估相關(guān)高校計(jì)算機(jī)
2023-04-10 10:16:15

STPS340AFN

STPS340AFN
2023-04-06 23:30:03

濕式半導(dǎo)體工藝中的案例研究

半導(dǎo)體行業(yè)的許多工藝步驟都會(huì)排放有害廢氣。對(duì)于使用非常活潑的氣體的化學(xué)氣相沉積或干法蝕刻,所謂的靠近源頭的廢氣使用點(diǎn)處理是常見的做法。相比之下,對(duì)于濕法化學(xué)工藝,使用中央濕式洗滌器處理廢氣是一種公認(rèn)
2023-04-06 09:26:48408

浪潮云洲入選IDC《中國工業(yè)邊緣市場分析》研究報(bào)告

濟(jì)南2023年3月31日?/美通社/ -- 近日,國際數(shù)據(jù)公司(IDC)發(fā)布了《中國工業(yè)邊緣市場分析》研究報(bào)告(以下簡稱《報(bào)告》)。浪潮云洲憑借云邊緣一體化機(jī)器視覺等特色解決方案布局,入選工業(yè)邊緣
2023-04-01 08:03:30540

氮化鋁單晶濕法化學(xué)蝕刻

清洗過程在半導(dǎo)體制造過程中,在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實(shí)現(xiàn)無顆粒、無金屬雜質(zhì)、無有機(jī)、無水分、無天然氧化物、無表面微粗糙度、無充電、無氫。硅片表面的主要容器可分為顆粒、金屬雜質(zhì)和有機(jī)物三類。
2023-03-31 10:56:19314

STPS1L30AFN

STPS1L30AFN
2023-03-29 22:37:25

片上紅外氣體傳感技術(shù)的研究進(jìn)展

多數(shù)氣體分子在近紅外波段(0.8~2.5 μm)和中紅外波段(2.5~20 μm)具有指紋吸收譜線,基于紅外光譜法的氣體檢測技術(shù)具有選擇性好、響應(yīng)速度快等顯著優(yōu)點(diǎn),在醫(yī)療衛(wèi)生、環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
2023-03-29 09:36:38687

STPS2H100AFN

STPS2H100AFN
2023-03-28 13:19:41

新技術(shù)使蝕刻半導(dǎo)體更容易

研究表明,半導(dǎo)體的物理特性會(huì)根據(jù)其結(jié)構(gòu)而變化,因此半導(dǎo)體晶圓在組裝成芯片之前被蝕刻成可調(diào)整其電氣和光學(xué)特性以及連接性的結(jié)構(gòu)。
2023-03-28 09:58:34251

DB25S1AFN

DB25S1AFN
2023-03-23 02:27:32

DB25P1AFN

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2023-03-23 02:27:28

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