工藝中探索電壓、電極間距、聚合物膜厚等參數(shù)對(duì)于成形形貌的二維分布影響。以增強(qiáng)光學(xué)散射性能為目的，基于基礎(chǔ)工藝研究開(kāi)發(fā)無(wú)序微透鏡制備方法及粗造化多級(jí)結(jié)構(gòu)制備方法，使結(jié)構(gòu)表面形貌更為多變，并選取不同工藝參數(shù)研究其對(duì)聚合
2021-02-02 17:43:45
1280 
測(cè)量金屬制品的長(zhǎng)度、寬度、高度等維度參數(shù)。
除了測(cè)量金屬表面的形狀和輪廓外，光學(xué)3D表面輪廓儀還可以生成三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)和色彩圖像，用于進(jìn)一步分析和展示：
1、三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)可以用于進(jìn)行CAD模型比對(duì)、工藝
2023-08-21 13:41:46
制備方法對(duì)Ba2FeMoO6雙鈣鈦礦磁性能的影響采用濕化學(xué)法和固相反應(yīng)制備了Ba2FeMoO6雙鈣鈦礦化合物，對(duì)比研究了制備方法對(duì)其磁性能尤其是磁卡效應(yīng)的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，濕化學(xué)法準(zhǔn)備的樣品具有
2009-05-26 00:22:45
加工工藝成熟，與IC工藝兼容性好，可以在單個(gè)直徑為幾十毫米的單晶硅基片上批量生成數(shù)百個(gè)MEMS裝置。美國(guó)加州大學(xué)Berkeley分校的傳感器與執(zhí)行器研究中心（BSAC）首先完成了三層多晶硅表面MEMS
2018-11-05 15:42:42
黑硅（Black Silicon），即為納米尺寸的硅結(jié)構(gòu)體，有望超越傳統(tǒng)的太陽(yáng)能。當(dāng)然，該預(yù)測(cè)并不是空穴來(lái)風(fēng)，最近的一些新研究成果業(yè)也增強(qiáng)了說(shuō)服力。阿爾托大學(xué)研究者已研發(fā)出新型黑硅太陽(yáng)能電池，將
2015-07-02 09:46:02
（如光刻、刻蝕工藝）完成。但是，由于這些方法受其復(fù)雜、昂貴的設(shè)備的限制，生產(chǎn)成本非常高，不適合光學(xué)模組的大批量制備。 圖17中所示即為表面浮雕光柵模板制備或小批量制備工藝流程圖，包括其掃描電鏡圖。對(duì)于直
2021-01-09 10:15:43
圖像處理的形態(tài)學(xué)是處理二值圖，下面程序首先對(duì)圖像進(jìn)行二值化處理，然后使用形態(tài)學(xué)函數(shù)的IMAQ RemoveParticle進(jìn)行圖像去除部分顆粒，端子Number of Erosion可以控制移除
2015-08-12 21:00:09
`` 本帖最后由 1453544229 于 2015-8-14 17:37 編輯
濾除邊界在形態(tài)學(xué)操作中是很有用的操作，濾除邊界可以使用LabVIEW vision中的IMAQ
2015-08-12 22:30:55
使用形態(tài)學(xué)函數(shù)處理。簡(jiǎn)單的形態(tài)學(xué)介紹，主要的二值形態(tài)學(xué)操作方法是erosion(腐蝕)和dilation（膨脹）。其它的方法基本上是這兩種方法的組合。形態(tài)學(xué)操作和濾波操作很相似，只是內(nèi)核的使用方法不同。腐蝕
2015-08-09 08:20:30
MATLAB中對(duì)音頻信號(hào)進(jìn)行小波分解和短時(shí)傅里葉分析后怎么對(duì)信號(hào)頻譜圖中能量密度特征用數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的方法進(jìn)行形態(tài)特征提??？
2020-10-12 18:21:04
實(shí)現(xiàn)，必須采用微加工技術(shù)制造。微加工技術(shù)包括硅的體微加工技術(shù)、表面微加工技術(shù)和特殊微加工技術(shù)。體加工技術(shù)是指沿著硅襯底的厚度方向?qū)?b class="flag-6" style="color: red">硅襯底進(jìn)行刻蝕的工藝，包括濕法刻蝕和干法刻蝕，是實(shí)現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的重要方法
2016-12-09 17:46:21
Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對(duì)ＳｉＣ 襯底缺陷密度相對(duì)較高的問(wèn)題，研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進(jìn)行了器件研制。通過(guò)優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為２?０７ ｎｍ的刻蝕表面；犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48
，援引《統(tǒng)計(jì)自然語(yǔ)言處理》中的定義：形態(tài)學(xué)（morphology）：形態(tài)學(xué)（又稱(chēng)“詞匯形態(tài)學(xué)”或“詞法”）是語(yǔ)言學(xué)的一個(gè)分支，研究詞的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，包括屈折變化和構(gòu)詞法兩個(gè)部分。由于詞具有語(yǔ)音特征、句法特征
2019-01-02 14:43:15
labview的二值形態(tài)學(xué)操作erosion(腐蝕)和dilation（膨脹），他們的函數(shù)在哪找？
2016-09-19 09:00:12
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：DI-O3水在晶圓表面制備中的應(yīng)用編號(hào)：JFSJ-21-034作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:36:27
，干法蝕刻制備的氮化鎵（GaN）側(cè)壁通常具有較大的粗糙度和蝕刻損傷，這會(huì)導(dǎo)致由于表面非輻射復(fù)合導(dǎo)致的光學(xué)散射和載流子注入損失引起的鏡面損失。詳細(xì)研究了干法蝕刻形成的GaN側(cè)壁面的濕化學(xué)拋光工藝，以去除蝕刻
2021-07-09 10:21:36
`晶圓是如何生長(zhǎng)的？又是如何制備的呢？本文的主要內(nèi)容有：沙子轉(zhuǎn)變?yōu)榘雽?dǎo)體級(jí)硅的制備，再將其轉(zhuǎn)變成晶體和晶圓，以及生產(chǎn)拋光晶圓要求的工藝步驟。這其中包括了用于制造操作晶圓的不同類(lèi)型的描述。生長(zhǎng)
2018-07-04 16:46:41
吳軍民a, 湯學(xué)華b （上海電機(jī)學(xué)院a.汽車(chē)學(xué)院； b.機(jī)械學(xué)院，上海200245） 摘 要：研究了一種電磁型射頻（RF）微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）開(kāi)關(guān)的軟磁懸臂梁的制備工藝。為了得到適合MEMS器件
2019-07-04 08:14:01
引言： 光學(xué)，一門(mén)古老又現(xiàn)代的學(xué)科，伽利略借助光學(xué)望遠(yuǎn)鏡，研究了天體運(yùn)動(dòng)；生物學(xué)家借助光學(xué)顯微鏡，觀察到了細(xì)胞結(jié)構(gòu)；人類(lèi)借助相機(jī)鏡頭，留住了無(wú)數(shù)難忘的瞬間。光，無(wú)可觸摸，卻又無(wú)處不在，借助光學(xué)
2018-03-15 16:45:52
。因而，電子封裝及組裝工藝必須跟上這一快速發(fā)展的步伐。隨著材料性能、設(shè)備及工藝水平的不斷提高，使得越來(lái)越多的電子制造服務(wù)公司(EMS)不再滿足于常規(guī)的表面貼裝工藝(SMT)，而不斷嘗試使用新型的組裝工藝
2018-11-26 16:13:59
) /2 = 0.167m。而工作波長(zhǎng)在可見(jiàn)光的天線，其長(zhǎng)度估算為L(zhǎng) = λ/(2n)，這里n為天線所處的介質(zhì)環(huán)境的折射率[2]。對(duì)于工作波長(zhǎng)為680nm(紅光)的光學(xué)天線，假設(shè)其制備襯底為硅，則L
2019-06-12 07:50:19
關(guān)于黑孔化工藝流程和工藝說(shuō)明，看完你就懂了
2021-04-23 06:42:18
基于FPGA的形態(tài)學(xué)算法實(shí)現(xiàn) （程序仿真）
2017-04-14 17:16:26
。 PCB表面處理總結(jié) 結(jié)論是當(dāng)使用焊接測(cè)試點(diǎn)時(shí)，ICT性能大大提高。考慮到夾具和工藝的一些問(wèn)題，用戶相信一旦處理好這些問(wèn)題，他們能獲得的一次通過(guò)良率在80~90%之間。上面是PCB無(wú)鉛處理的主要方法
2008-06-18 10:01:53
算與閉運(yùn)算：形態(tài)學(xué)開(kāi)運(yùn)算就是先對(duì)圖像進(jìn)行腐蝕然后在膨脹，表達(dá)式即：形態(tài)學(xué)閉運(yùn)算就是先對(duì)圖像進(jìn)行膨脹然后在腐蝕，表達(dá)式即：圖1 開(kāi)運(yùn)算和閉運(yùn)算演示（原圖由美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究所提供）如圖1所示，a為
2018-08-10 09:12:22
silicon photonic circuits“。基于鍺離子注入的硅波導(dǎo)工藝和激光退火工藝，他們實(shí)現(xiàn)了可擦除的定向耦合器，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了可編程的硅基集成光路，也就是所謂的光學(xué)FPGA。
2019-10-21 08:04:48
現(xiàn)在有許多PCB表面處理工藝，常見(jiàn)的是熱風(fēng)整平、有機(jī)涂覆、化學(xué)鍍鎳/浸金、浸銀和浸錫這五種工藝，下面將逐一介紹。
2021-04-23 06:26:30
用labview進(jìn)行圖像計(jì)數(shù)，圖像經(jīng)過(guò)二值化處理需要用到形態(tài)學(xué)進(jìn)行計(jì)數(shù)，如何計(jì)數(shù)啊 ，，，求指導(dǎo)啊
2015-01-06 19:14:36
新型聚丙烯酸酯的制備與非線性光學(xué)性能設(shè)計(jì)合成了一種含偶氮苯和取代苯乙炔基長(zhǎng)共軛生色團(tuán)的丙烯酸酯，并采用溶液聚合法合成了功能化的聚丙烯酸酯，利用FTIR、NMR等對(duì)化合物的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征，證實(shí)
2009-05-26 00:24:16
我還想求教一下，我現(xiàn)在用DM642做智能視頻監(jiān)控，思路大概是這樣，基于SURF特征點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)補(bǔ)償---->幀差法---->形態(tài)學(xué)處理---->提取目標(biāo)位置---->卡爾曼跟蹤，幀率25，畫(huà)面640*480，外擴(kuò)32SDRAM，DM642能夠滿足需要嗎？？？實(shí)時(shí)性?。?！
2018-06-21 08:09:18
3.4.3 亞像素精度閾值分割3.5 特征提取3.5.1 區(qū)域特征3.5.2 灰度值特征3.5.3 輪廓特征3.6 形態(tài)學(xué)3.6.1 區(qū)域形態(tài)學(xué)3.6.2 灰度值形態(tài)學(xué)3.7 邊緣提取3.7.1 在一維和
2016-06-29 13:48:38
機(jī)械制造工藝學(xué)緒論 第一章 概述 第一節(jié) 機(jī)械制造工藝學(xué)的研究對(duì)象第二節(jié) 基本概念和定義第二章 工藝規(guī)程的制訂第一節(jié) 毛坯的選擇第二節(jié) 工件的裝夾第三節(jié) 定位基準(zhǔn)的選擇第四節(jié) 工藝路線的擬定第五節(jié)
2008-06-17 11:41:30
通過(guò)上面三個(gè)帖子的發(fā)布，大家對(duì)形態(tài)學(xué)處理函數(shù)應(yīng)該有所了解了。這篇帖子使用形態(tài)學(xué)的函數(shù)來(lái)讀取圖片中條形碼的數(shù)值。對(duì)圖像的處理步驟：1、首先對(duì)圖像進(jìn)行二值化處理，若圖像過(guò)大，可進(jìn)行重采樣2、對(duì)圖像進(jìn)行
2015-08-15 10:00:01
有哪位同仁知道Motorola MPC755的詳細(xì)制備工藝嗎？是220nm的工藝，5層金屬如果知道的話，可以發(fā)到我的郵箱里mht_84@126.com多謝了啊
2011-02-24 16:11:17
Labview中二值化高級(jí)形態(tài)學(xué)中 Distance和Danielsson函數(shù)有啥區(qū)別
2016-03-16 11:29:16
銅前準(zhǔn)備、電鍍銅。而電鍍銅的好壞，又在很大程度上取決于電鍍銅前準(zhǔn)備。因此，業(yè)內(nèi)人士往往會(huì)把關(guān)于 PCB 可靠性的問(wèn)題，聚焦到電鍍銅前準(zhǔn)備的部分。目前行業(yè)主流的電鍍銅前準(zhǔn)備工藝，主要有三種：沉銅、黑孔
2022-06-10 16:15:12
電子器件制備工藝
2012-08-20 22:23:29
電場(chǎng)誘導(dǎo)工藝中探索電壓、電極間距、聚合物膜厚等參數(shù)對(duì)于成形形貌的二維分布影響。以增強(qiáng)光學(xué)散射性能為目的，基于基礎(chǔ)工藝研究開(kāi)發(fā)無(wú)序微透鏡制備方法及粗造化多級(jí)結(jié)構(gòu)制備方法，使結(jié)構(gòu)表面形貌更為多變，并選取
2022-03-29 15:44:41
個(gè) Arm 處理器，它們組成了一個(gè)尖峰神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)。第二，一個(gè)位于海德保的物理模型機(jī)，模擬電子模型，由400萬(wàn)個(gè)神經(jīng)元和20個(gè)硅晶片上的10億個(gè)突觸組成。作為短期利益，HBP 希望其神經(jīng)形態(tài)學(xué)平臺(tái)能夠提高
2022-04-16 15:01:00
利用準(zhǔn)分子納秒激光誘導(dǎo)的細(xì)長(zhǎng)須狀結(jié)構(gòu)和飛秒激光輻照下產(chǎn)生的具有表面枝蔓狀納米結(jié)構(gòu)的錐形微結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,這種尖峰微結(jié)構(gòu)的形成與輻照激光的波長(zhǎng)和脈沖持續(xù)時(shí)間有關(guān)。對(duì)空氣中微構(gòu)造硅的輻射反射的初步研究
2010-04-22 11:41:53
1995年希臘科學(xué)家A.G.Nassiopuoulos等人用高分辨率的紫外線照相技術(shù),各向異性的反應(yīng)離子刻蝕和高溫氧化的后處理工藝,首次在硅平面上刻劃了尺寸小于20nm的硅柱和 硅線的表面結(jié)構(gòu),觀察到了類(lèi)似于多孔硅的光激發(fā)光現(xiàn)象。
2019-09-26 09:10:15
AB5型貯氫合金是目前國(guó)內(nèi)外MH/Ni電池生產(chǎn)中使用最為廣泛的負(fù)極材料，而貯氫合金的電化學(xué)性能是由合金的成分、微觀結(jié)構(gòu)和表面狀態(tài)決定的。本文綜述了ABs型貯氫合金制備工藝-熔煉、熱處理以及制粉工藝
2011-03-11 11:57:08
，浙江大學(xué)高超教授研究的三 維石墨烯氣凝膠制備技術(shù)則是這類(lèi)技術(shù)的榜樣。發(fā)條橙子的文章中也指出：“3D石墨烯泡沫具有很大的比表面積，以及相應(yīng)帶來(lái)的良好的三維導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)，用這樣的 集流體會(huì)給材料的性能帶來(lái)很多
2019-03-19 09:02:43
含鉛表面工藝和無(wú)鉛表面工藝差別：1、焊錫的物理屬性、熔點(diǎn)、表面張力、氧化的可能性、冶金以及金屬浸析的可能性；2、峰值溫度更高；3、預(yù)熱溫度更高；4、板和元件的無(wú)鉛表面處理（最好是有無(wú)鉛表面處理）；5、焊錫的外觀和表面效應(yīng)；6、可焊性的差別，如潤(rùn)濕速度和鋪展情況；7、元件自行定心或?qū)φ哪芰^低。
2016-07-13 16:02:31
針對(duì)傳統(tǒng)數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)邊緣檢測(cè)算法存在的邊緣分辨率較低、低強(qiáng)度邊緣保護(hù)能力較差等問(wèn)題，提出一種改進(jìn)的數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)邊緣檢測(cè)算法。該算法在保持傳統(tǒng)形態(tài)學(xué)方法優(yōu)點(diǎn)的基礎(chǔ)上
2009-04-23 09:15:14
19 醫(yī)用滌綸表面殼聚糖化學(xué)接枝法制備及細(xì)菌粘附研究: 摘 要：通過(guò)化學(xué)方法構(gòu)建了殼聚糖長(zhǎng)鏈分子接枝的滌綸表面，并研究了其細(xì)菌粘附性質(zhì)。XPS 全譜顯示接枝表
2009-04-28 23:35:3115 提出了一種制備包覆雙金屬?gòu)?fù)合材料的新工藝．即充芯連鑄法制備包覆雙金屬?gòu)?fù)合材料的工藝。試驗(yàn)研究了包鋁雙金屬棒制備的工藝， 分析了銅包鋁雙金屬棒的外觀、斷面和界面。
2009-07-07 08:41:3918 針對(duì)常規(guī)線性邊緣檢測(cè)器處理遙感圖象時(shí)細(xì)節(jié)丟失嚴(yán)重的缺點(diǎn)，介紹了數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)基本理論，討論了數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)在邊緣檢測(cè)中的應(yīng)用。形態(tài)學(xué)的灰度梯度運(yùn)算是在經(jīng)典形態(tài)變換基
2009-07-30 14:26:3519 針對(duì)邊緣模糊會(huì)導(dǎo)致二維條碼識(shí)別率下降的問(wèn)題，提出了一種基于中值濾波和數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)相結(jié)合的二維條碼邊緣檢測(cè)識(shí)別算法，該算法能夠有效地抑制噪聲，保護(hù)邊緣細(xì)節(jié)，提高
2009-08-14 09:58:4133 圖像邊緣檢測(cè)通常是以類(lèi)似于素描圖的圖像表達(dá)出物體的要素和特征，其任務(wù)是使圖像邊緣準(zhǔn)確定位和抑制噪聲。本文在傳統(tǒng)形態(tài)學(xué)算子基礎(chǔ)上提出了一種遺傳算法優(yōu)化的形態(tài)學(xué)Top-H
2009-08-20 08:26:5619 圖像邊緣檢測(cè)通常是以類(lèi)似于素描圖的圖像表達(dá)出物體的要素和特征，其任務(wù)是使圖像邊緣準(zhǔn)確定位和抑制噪聲。本文在傳統(tǒng)形態(tài)學(xué)算子基礎(chǔ)上提出了一種遺傳算法優(yōu)化的形態(tài)學(xué)Top-H
2009-08-21 09:04:540 基于小波變換和數(shù)學(xué)
形態(tài)學(xué)的人造景物提取:采用小渡變換技術(shù)對(duì)遙感圖像進(jìn)行去噪、增強(qiáng) 在此基礎(chǔ)上利用數(shù)學(xué)
形態(tài)學(xué)的方法提取圖像中的人造帚物．實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，通過(guò)構(gòu)造適當(dāng)?shù)?/div>
2009-10-26 11:30:2817 針對(duì)鐵路貨車(chē)廠修后低速駛出過(guò)程中需要進(jìn)行標(biāo)記準(zhǔn)確性的判定，研究了基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的貨車(chē)標(biāo)記圖像跟蹤識(shí)別技術(shù)。圖像預(yù)處理之后采用數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的膨脹運(yùn)算很好地解決了
2009-12-07 14:04:1010 鐵基顏料鐵黃制備工藝流程
鐵黃產(chǎn)
2009-03-30 20:08:211772 
硫酸渣制備鐵紅工藝流程
2009-03-30 20:09:321004 
摘要：通過(guò)對(duì)貯氫合金的組分、熔煉、粉碎幾個(gè)方面的實(shí)驗(yàn)研究，探討了貯氫合金的制備工藝過(guò)程，分析了不同的工藝參數(shù)對(duì)合金性能的影響。確定了合金制備的最佳工藝條件為：熔化溫度1400～1550℃；熔化保持時(shí)間10～15rain；冷卻方式為急冷。 關(guān)鍵詞：貯氫合金；
2011-02-21 22:14:5750 數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)運(yùn)算是一種高度并行的運(yùn)算，其計(jì)算量大而又如此廣泛地應(yīng)用于對(duì)實(shí)時(shí)性要求較高的諸多重要領(lǐng)域。為了提高數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)運(yùn)算的速度，提出了一種基于CUDA架構(gòu)的GPU并行數(shù)學(xué)形
2011-10-25 16:55:1755 重點(diǎn)研究了采用數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)方法對(duì)瀝青混合料數(shù)字圖像進(jìn)行分析和處理。利用VC.NET開(kāi)發(fā)環(huán)境對(duì)瀝青混合料二值圖像分別進(jìn)行腐蝕、膨脹、開(kāi)運(yùn)算和閉運(yùn)算處理，通過(guò)處理效果得到數(shù)學(xué)形
2012-07-05 15:59:510 《OpenCV3編程入門(mén)》書(shū)本配套源代碼:形態(tài)學(xué)圖像處理綜合示例
2016-06-06 15:52:298 《OpenCV3編程入門(mén)》書(shū)本配套源代碼:用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)頂帽運(yùn)算
2016-06-06 15:52:2915 《OpenCV3編程入門(mén)》書(shū)本配套源代碼:用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)梯度運(yùn)算
2016-06-06 15:52:294 《OpenCV3編程入門(mén)》書(shū)本配套源代碼:用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)黑帽運(yùn)算
2016-06-06 15:52:291 OpenCV3編程入門(mén)-源碼例程全集-用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)梯度運(yùn)算，感興趣的小伙伴們可以瞧一瞧。
2016-09-18 17:02:2510 OpenCV3編程入門(mén)-源碼例程全集-用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)黑帽運(yùn)算，感興趣的小伙伴們可以瞧一瞧。
2016-09-18 17:02:250 基于改進(jìn)_變換和數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的電壓暫降檢測(cè)方法_王瑩
2017-01-08 10:11:412 改進(jìn)的形態(tài)學(xué)運(yùn)算在聲納圖像生成中的應(yīng)用_李莉
2017-03-19 11:30:431 基于形態(tài)學(xué)濾波的激光標(biāo)靶中激光光斑的識(shí)別_黃一萬(wàn)
2017-03-15 08:00:001 高溫薄膜傳感器制備與性能研究_王強(qiáng)
2017-03-19 19:04:390 針對(duì)激光在傳輸過(guò)程中的光能損失 ，本文根據(jù)光學(xué)薄膜理論，設(shè)計(jì)制備了減反射膜和抗激光的高反射膜，并對(duì)激光膜的鍍膜材料 、膜系設(shè)計(jì)、沉積工藝及離子輔助沉積等參數(shù)進(jìn)行了深入研究。研究結(jié)果表明，制備
2017-11-09 11:14:116 針對(duì)子像素形態(tài)學(xué)反走樣（ SMAA）算法提取圖像輪廓信息少和存儲(chǔ)空間較大的問(wèn)題，提出一種改進(jìn)的形態(tài)學(xué)反走樣算法。該算法用一個(gè)像素的亮度與調(diào)整因子的乘積作為動(dòng)態(tài)閾值，來(lái)判定該像素是否為輪廓條件
2017-11-24 16:58:570 為了更加高效地利用模板匹配的方法實(shí)現(xiàn)對(duì)車(chē)牌字符圖像的識(shí)別，結(jié)合數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)和模糊集理論，提出基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的模糊模板匹配方法。首先，對(duì)于二值圖像的每個(gè)像素點(diǎn)及其8鄰域，以賦權(quán)的方式刻畫(huà)中心像素點(diǎn)隸屬于
2017-12-04 14:32:071 針對(duì)圖像識(shí)別中圖像尺寸比例不一致、旋轉(zhuǎn)角度不相同，以及識(shí)別率低、魯棒性差的問(wèn)題，提出一種圖像的形態(tài)學(xué)識(shí)別算法。首先對(duì)圖像進(jìn)行中心化及歸一化處理，同時(shí)將圖形的輪廓圖像轉(zhuǎn)換為二值圖像；其次采用大小變化
2018-01-17 11:07:230 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是的是使用OpenCV實(shí)現(xiàn)形態(tài)學(xué)操作和腐蝕膨脹及開(kāi)閉運(yùn)算的實(shí)例說(shuō)明。
2019-11-22 16:52:001 形態(tài)學(xué)濾波由腐蝕和膨脹兩種操作組成。首先，腐蝕（Erosion）的核心思想是圖像像素之間進(jìn)行邏輯與運(yùn)算，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，當(dāng)一個(gè)包含當(dāng)前像素的結(jié)構(gòu)單元的像素值都為“1”時(shí)輸出待處理的的目標(biāo)像素。
2021-03-09 11:51:105027 圖像形態(tài)學(xué)是圖像處理的分支學(xué)科，在二值圖像處理中占有重要地位、OpenCV中實(shí)現(xiàn)了圖像形態(tài)學(xué)如下常見(jiàn)操作： -膨脹操作 -腐蝕操作 -開(kāi)操作 -閉操作 -擊中擊不中操作 -黑帽操作 -頂帽操作
2021-05-27 14:11:551266 
了基于超構(gòu)表面的量子光學(xué)的研究進(jìn)展，包括量子光源的制備、量子態(tài)的調(diào)控以及量子態(tài)的探測(cè)和成像等方面。 01 引 言 光在我們的日常生活中扮演著非常重要的角色，幾乎影響到我們生活的各個(gè)方面。自古以來(lái)，人們對(duì)掌控光的能力都非常著迷
2021-06-11 15:11:084177 基于層次值的皮膚創(chuàng)面形態(tài)學(xué)展開(kāi)方法
2021-06-27 15:10:226 書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：III-V集成光子的制備 編號(hào)：JFKJ-21-212 作者：炬豐科技 摘要 ? 本文主要研究集成光子的制備工藝。基于III-V半導(dǎo)體的器件，?這項(xiàng)工作涵蓋
2023-04-19 10:04:00130 
光伏電池制備工藝-擴(kuò)散(開(kāi)關(guān)電源技術(shù)的節(jié)能意義)-光伏電池制備工藝-擴(kuò)散? ? ? ? ? ? ? ? ??
2021-09-23 14:11:4919 、光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡相結(jié)合，研究了KOH/IPA蝕刻對(duì)紋理表面形態(tài)和粗糙度的影響。結(jié)果表明，在80℃以下的溫度下，IPA濃度對(duì)（001）-單晶晶體表面粗糙度的影響最強(qiáng)。高于該值時(shí)，在硅襯底上顯示出溫度引起裂紋。氫氧化鉀：
2022-01-11 14:41:581050 
摘要 本文主要研究集成光子的制備工藝?；贗II-V半導(dǎo)體的器件， 這項(xiàng)工作涵蓋了一系列III-V材料以及各種各樣的設(shè)備。 最初，設(shè)計(jì)，制造和光學(xué)表征研究了鋁砷化鎵波導(dǎo)增強(qiáng)光學(xué)非線性
2022-02-24 14:55:40950 
本文章將對(duì)表面組織工藝優(yōu)化進(jìn)行研究，多晶硅晶片表面組織化工藝主要分為干法和濕法，其中利用酸或堿性溶液的濕法蝕刻工藝在時(shí)間和成本上都比較優(yōu)秀，主要適用于太陽(yáng)能電池量產(chǎn)工藝。本研究在多晶晶片表面組織化工藝
2022-03-25 16:33:49516 
形態(tài)學(xué)是圖像處理領(lǐng)域的一個(gè)分支，主要用于描述和處理圖像中的形狀和結(jié)構(gòu)。形態(tài)學(xué)可以用于提取圖像中的特征、消除噪聲、改變圖像的形狀等。其中形態(tài)學(xué)的核心操作是形態(tài)學(xué)運(yùn)算。
2023-05-23 15:52:44732 
銅基復(fù)合材料的制備工藝與綜合性能，重點(diǎn)討論了各種制備工藝的特點(diǎn)、強(qiáng)化機(jī)制、構(gòu)型設(shè)計(jì)，總結(jié)了針對(duì)復(fù)合界面結(jié)合弱與石墨烯分散困難這2類(lèi)主要技術(shù)難點(diǎn)的解決途徑，最后對(duì)石墨烯增強(qiáng)銅基復(fù)合材料的制備工藝進(jìn)行了展望。
2023-06-14 16:23:483052 
溫度、比熱容及熱焓等。油箱用水性涂料的制備及性能研究【機(jī)械科學(xué)研究總院張哲】油箱用水性涂料的制備及性能研究上海和晟HS-DSC-101B差示掃描量熱儀
2022-01-18 16:58:58216 
表面形貌即為表面微觀幾何形態(tài)，不僅對(duì)接觸零件的機(jī)械和物理特性起著決定作用，而且對(duì)一些非接觸零件的光學(xué)和外部特性影響也很大。所以對(duì)表面形貌的精準(zhǔn)測(cè)量能正確地識(shí)別出加工過(guò)程的變化和缺陷，對(duì)研究表面幾何
2023-05-19 16:52:10411 
磷酸鐵鋰制備工藝多樣，主要分為固相法，液相法這兩大主流工藝。固相法是目前最成熟也是應(yīng)用最廣的磷酸鐵鋰合成方法，液相法工藝難度較大。今天小編給大家介紹幾種磷酸鐵鋰制備工藝方法：
2023-10-20 09:58:141339 
近年來(lái)，隨著研究人員對(duì)紅外微光學(xué)元器件的深入研究，高精度制備器件備受關(guān)注。傳統(tǒng)的制備技術(shù)存在許多缺點(diǎn)，而飛秒激光有著超強(qiáng)、超快的特性，非常合適用來(lái)制備紅外微光學(xué)元器件。
2023-12-29 16:25:01224 
已全部加載完成
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論