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陽極化膜用于等離子體電光開關(guān)放電腔絕緣模擬研究:殼體金屬化是等離子體電光開關(guān)實(shí)現(xiàn)陣列結(jié)構(gòu)的必須，放電腔的絕緣是殼體金屬化的技術(shù)關(guān)鍵和難點(diǎn)。分析了等離子體電極電光開關(guān)放電腔的主要放電過程和特性；介紹了幾種厚度陽極化膜層的擊穿電壓和用于電光開關(guān)放電腔絕緣模擬實(shí)驗(yàn)的情況和結(jié)果。初步分析了影響陽極化膜用于等離子體電極電光開關(guān)放電腔絕緣的主要因素，實(shí)驗(yàn)表明60μm厚度的陽極化膜可以滿足電光開關(guān)放電腔絕緣的實(shí)用要求。
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