資料介紹
雙極功率晶體管(BPT)作為電力應(yīng)用的開關(guān)器件,有一些缺點。這導(dǎo)致了功率MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管)的發(fā)展。功率MOSFET用于許多應(yīng)用,如SMPS(開關(guān)電源系統(tǒng))、計算機外圍設(shè)備、汽車和電機控制。不斷的研究和改進為它提供了替換BJT(雙極性結(jié)晶體管)的理想特性。本申請說明是對功率MOSFET的一般描述和FSC數(shù)據(jù)簿規(guī)范的詳細介紹。
場效應(yīng)晶體管的理論早在1920~1930年就已為人們所熟知,這比雙極結(jié)晶體管的發(fā)明早了20年。當時,美國的J.E.Lilienfeld提出了一種晶體管模型,其兩側(cè)各有兩個金屬觸點,半導(dǎo)體頂部有一個金屬板(鋁)。由在金屬板處提供的電壓形成的半導(dǎo)體表面的電場能夠控制金屬觸點之間的電流流動。這是場效應(yīng)晶體管的最初概念。但由于缺乏合適的半導(dǎo)體材料和不成熟的技術(shù),發(fā)展非常緩慢。威廉在1952年震驚地介紹了JFET(結(jié)場效應(yīng)晶體管)。Dacey和羅斯改進了1953。在JFET中,Lilienfeld的金屬場被pn結(jié)代替,金屬接觸被稱為源極和漏極,場效應(yīng)電極被稱為柵極。小信號MOSFET的研究仍在繼續(xù),在功率MOSFET設(shè)計方面沒有任何重大改進。20世紀70年代推出了新產(chǎn)品。
1986年3月,F(xiàn)SC與9人組成了TFT,并開始研究功率MOSFET。目前,飛兆半導(dǎo)體采用平面技術(shù)生產(chǎn)QFET系列,采用溝槽技術(shù)生產(chǎn)低壓電力溝槽產(chǎn)品。
結(jié)場效應(yīng)晶體管(JFET)
有兩種類型的JFETs。一個是N溝道類型,另一個是p溝道類型。它們都通過提供給柵極的電壓來控制漏極到源極的電流。如圖1(a)所示,如果在柵極沒有提供偏壓,則電流從漏極流向源,當偏壓在柵極提供時,耗盡區(qū)域開始增長,并減小電流,如圖1(b)所示。與源極耗盡區(qū)域相比,漏極的n個區(qū)域是柵極和漏極VDG的反向偏壓(=VGS+VDS)高于VGS(柵極和源極之間的偏壓)。
這兩種類型的MOSFET是耗盡型和增強型,并且每種類型都有n/p溝道型。耗盡型正常開啟,并作為JFET工作(參見圖2)。增強型正常關(guān)閉,這意味著漏源電流隨著柵極電壓的增加而增加。當柵極上沒有電壓供應(yīng)時,沒有電流流動
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