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標簽 > 光刻工藝
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束流消除器:兩個平行板電極之間的直流偏置(~42 v)是否垂直于電子路徑,使電子偏離軸,從而“轉(zhuǎn)動”關(guān)閉/阻塞/被下面的孔所覆蓋。
傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的,普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因...
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