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標(biāo)簽 > euv光刻機(jī)
極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。
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