保持良好的勢頭。以下為您帶來200G光模塊最全解析。 下一代數(shù)據(jù)中心的主流：200G/400G 數(shù)據(jù)中心光互連市場的主要轉(zhuǎn)變是從10G到40G以及更高的40G到100G，另一個可預見的趨勢是逐步
2019-12-04 16:36:53
物體光反射特性來改變圖形。 由于可編程圖形結(jié)構(gòu)光需要顯示多個圖形，空間光調(diào)制器就成為此類掃描儀的一個關(guān)鍵組件。目前市面上有多項空間光調(diào)制技術(shù)，其中包括德州儀器（TI）DLP?技術(shù)，特別是DLP6500
2018-08-30 14:51:20
上周臺電曝光了其最新推出的一款雙核平板“臺電A10雙核”，不過上次只放出了一張背面局部的照片，今天官方終于曝光了這款雙核產(chǎn)品的真機照。從曝光的照片來看，臺電A10雙核看上去還還是比較輕薄的，官方宣稱
2012-07-05 09:49:42
好的傳感器的設(shè)計是經(jīng)驗加技術(shù)的結(jié)晶。一般理解傳感器是將一種物理量經(jīng)過電路轉(zhuǎn)換成一種能以另外一種直觀的可表達的物理量的描述。而下文我們將對傳感器的概念、原理特性進行逐一介紹，進而解析傳感器的設(shè)計的要點。
2020-08-28 08:04:04
板→浸%稀H2SO4→加厚銅 圖形轉(zhuǎn)移 目的：圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)菲林上的圖像轉(zhuǎn)移到板上?！ ×鞒蹋海ㄋ{油流程）：磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查；（干膜流程）：麻板→壓膜→靜置
2018-11-28 11:32:58
` 本帖最后由 ketianjian 于 2016-2-15 14:06 編輯
來自麻省理工學院和新加坡科技大學的團隊近期研發(fā)出了一種新技術(shù)，該技術(shù)基于圖像計算，可以使高速相機傳感器在光照較強
2016-02-15 14:03:02
的推動作用。近年來也出現(xiàn)了很多新技術(shù)和結(jié)構(gòu),促進其實用化。自由組織光波網(wǎng)絡(luò)技術(shù)該技術(shù)應(yīng)用于波導、光開關(guān)、反射器、等光學器件的互連。先將要互連的光學器件放在一個光反射材料如全息光聚合物、光反射晶體上,這些
2016-01-29 09:19:33
，從gate size放大而來。完整的光掩膜圖形中，除了對應(yīng)電路的圖形外，還包括一些輔助圖形或測試圖形，常見的有：游標，光刻對準圖形，曝光量控制圖形，測試鍵圖形，光學對準目標圖形，劃片槽圖形，和其他
2012-01-12 10:36:16
圖形反轉(zhuǎn)工藝用于金屬層剝離的研究研究了ＡＺ?５２１４ 膠的正、負轉(zhuǎn)型和形成適用于剝離技術(shù)的倒臺面圖形的工藝技術(shù)。用掃描電鏡和臺階儀測試制作出的光刻膠斷面呈倒臺面，傾角約為６０°，膠厚１?４μｍ。得到
2009-10-06 10:05:30
*附件：baoguangji_demo.pdf
曝光機的原理圖，U2可能是NE555，U3是什么MCU？
曝光管和脈沖高壓包如何選?。磕奈淮罄薪獯鹣?/div>
2022-07-23 20:50:20
多。曝光燈可以使用紫外光管或者普通的LED發(fā)光板，只是感光版對于不同的曝光燈所要求的曝光時間和強度會所不一樣。如果你也想自己采用感光板的方式做PCB板的話，那么DIY一臺好用的曝光燈或許能夠幫上你
2018-08-11 12:17:40
今天在線材測試機CT-8681上拆了一個320*240解析度圖形液晶，可是不知道硬件怎樣連接，我想把這個液晶與單片機連接來用。在網(wǎng)上也找不到相關(guān)的資料，請大家?guī)蛶兔?。謝了。液晶板上有寫RG322421 下一行UNHCWB下一行PU03120002
2012-07-10 22:51:02
曝光，且這一過程耗時時間短，操作簡單，對操作人員要求不高，可以實現(xiàn)一鍵安裝菲林。CCD半自動曝光機系統(tǒng)特點：1.單/雙面曝光。2.伺服控制雙框進出。3.八根軸控制四相機。4.自動對位，精度高，操作簡單
2020-07-06 10:58:52
, 以及二次成型 共三種. 關(guān)于一次成型，即 PHOTOIMAGIING 影像轉(zhuǎn)移法, 過程采電鍍級樹脂射出成型，如PES、LCP 液晶樹脂、環(huán)氧樹脂、SPS 等，經(jīng)粗化、觸媒涂怖、化學銅、電著光阻
2018-11-23 16:47:52
PCB中LDI曝光機的工作原理是什么？有哪些優(yōu)點呢？
2023-04-23 16:16:55
計算機輔助制造處理技術(shù)有什么作用？光繪工藝有哪些基本流程？
2021-04-21 06:55:09
強度的設(shè)置 在光繪過程中，如果光源強度過高，則繪制的圖形會出現(xiàn)光暈；如果光源的強度過低，則繪制的圖形會曝光不足，因此無論是矢量光繪機還是激光光繪機都存在一個光強調(diào)節(jié)問題。在高檔的光繪機中設(shè)置有一個
2018-08-31 14:13:27
PCB制造工序中，無論是單、雙面板及多層板、最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版(Art-work)圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點，也都是技術(shù)難點所在。其工藝方法有
2019-06-12 10:40:14
等。【2】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過壓膜機，在銅面上，貼附感光材料（干膜）。【3】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:46:54
，圖形轉(zhuǎn)移的首件確認工作，絕大多數(shù)情況下，并不在圖形轉(zhuǎn)移確認，而是在AOI，而AOI，其實也是圖形轉(zhuǎn)移的檢驗子流程之一。只不過，因為此子流程非常重要，為了更好地確保所生產(chǎn)出線路圖形的品質(zhì)，與便于生產(chǎn)管理
2023-02-27 10:48:09
面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查；（干膜流程）：麻板→壓膜→靜置→對位→曝光→靜置→沖影→檢查六、圖形電鍍目的：圖形電鍍是在線路圖形裸露的銅皮上或孔壁上電鍍一層達到要求厚度的銅層與要求厚度的金
2018-09-12 16:23:22
圖形的一面用黑色布與曝光燈射出的紫外光隔開，如果不用黑布，紫外光透過沒有圖形的一面透射到焊盤里使焊盤孔里的阻焊料經(jīng)過曝光后，顯影不掉。在曝兩面圖形不一致的印制板時，先網(wǎng)印一面阻焊，然后進行單面曝光
2014-12-25 11:10:05
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過程對PCB制作來說，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說的干膜。這種膜遇
2019-03-12 06:30:00
18612980073座機：010-82435898Email: sale@huanor.net QIKE 系列USB3.0工業(yè)相機模塊介紹： QIKE系列USB3.0工業(yè)相機模塊，是一款能長期穩(wěn)定工作
2019-01-24 13:49:05
lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
了感光抗蝕材料的PCB基材（覆銅箔層）緊密貼附是精密曝光機最重要的技術(shù)要求之一，它的目的是為了獲得高質(zhì)量的抗蝕圖形。但是，仔細分析這種曝光工藝，仍然可以發(fā)現(xiàn)它存在著不可抗拒的產(chǎn)生質(zhì)量缺陷的因素，因為該
2008-06-17 10:07:17
中文資料 6頁7 線性光耦原理與電路設(shè)計 5頁8 變頻器電路中的光耦器件 9頁9 光耦使用技巧 6頁10 光耦繼電器 8頁【【【如果下載不了，請看最后一貼】】】★★★下載網(wǎng)盤帳號：：*** 密碼
2012-07-30 17:35:17
對比 4頁4 線性光耦在電流采樣中的應(yīng)用 5頁5 變頻器電路中的光耦器件_BB變頻器電路原理圖 4頁6 線性光耦hcnr200中文資料 6頁7 線性光耦原理與電路設(shè)計 5頁8 變頻器電路中的光耦器件 9
2012-09-27 08:21:16
對應(yīng)的生成的代碼。如圖：6. 光控燈圖形編程操作完成，下一步在確保對應(yīng)設(shè)備在線的情況下，點擊燒錄按鈕，即可將該程序燒錄至設(shè)備。7. 圖形編程在設(shè)備正常運行，對應(yīng)控件顯示如下：8. 圖形代碼各模塊注釋
2016-05-21 16:28:07
同行。本文就LDI曝光與傳統(tǒng)CCD曝光技術(shù)的差異進行分析。一.光成像制程定義：利用UV光或激光將客戶需要之影像轉(zhuǎn)到基板干膜上，使干膜發(fā)生聚合交聯(lián)反應(yīng),使其圖形轉(zhuǎn)移到板面上，搭配后段處理工序，以完成客戶
2020-05-18 14:35:29
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過程對PCB制作來說，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說的干膜。這種膜遇
2018-09-20 17:27:19
的衛(wèi)星信息； 2.使用迪文屏T5L內(nèi)部的單片機做主控，合定位模塊通訊，并控制屏幕動態(tài)顯示；下面詳細說明一下開發(fā)的過程及要點。一、合宙Air551G定位模塊的通訊及數(shù)據(jù)解析： Air551G支持多種衛(wèi)星
2022-02-18 17:49:48
數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)?！ 〕Ｒ?guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
真的在“刻”啦，這步驟叫“微影制程”，是將光罩上具有各種電子特性的區(qū)域圖即電路圖形，微縮并曝光成像在晶圓上，為流程中的后續(xù)步驟在晶圓上打好藍圖?！ ÷斆魅缒悖藭r一定會說：這不就是拍照咯？ 是的
2020-09-02 17:38:07
]。光刻膠涂覆在半導體、導體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對底層起保護作用，然后采用超凈高純試劑進行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到底層上的圖形轉(zhuǎn)移過程。一個IC的制造一般需要經(jīng)過10多次圖形轉(zhuǎn)移
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
有利的。它將與激光直接成像(LDI)一樣，可以縮短PCB生產(chǎn)周期，提高產(chǎn)品質(zhì)量，是PCB工業(yè)技術(shù)的重要改革與進步。 采用數(shù)字噴墨打印的圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，其加工工序最少(不足傳統(tǒng)技術(shù)的40%)，所用設(shè)備
2018-08-30 16:18:02
`有時自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個網(wǎng)購定時模塊制作了一個曝光箱，還沒進行PCB實操，放一個變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
內(nèi)的程序，這就是所謂單片機加密或者說鎖定功能。事實上，這樣的保護措施很脆弱，很容易被破解。單片機攻擊者借助專用設(shè)備或者自制設(shè)備，利用單片機芯片設(shè)計上的漏洞或軟件缺陷，通過多種技術(shù)手段，就可以從芯片中提取關(guān)鍵信息，獲取單片機內(nèi)程序。 單片機攻擊技術(shù)解析 目前，攻擊單片機主要有四種技術(shù)，分別是：
2021-12-13 07:28:51
條件轉(zhuǎn)移指令是指在滿足一定條件時進行相對轉(zhuǎn)移。判A內(nèi)容是否為0轉(zhuǎn)移指令JZ relJNZ rel第一指令的功能是：如果(A)=0，則轉(zhuǎn)移，不然次序執(zhí)行（執(zhí)行本指令的下一條指令）。轉(zhuǎn)移到什么地方去呢
2018-06-15 10:49:31
側(cè)射越嚴重，分辨率越低。 技術(shù)要求規(guī)定，能分辨的最小平行線條寬度，一級指標＜0．1mm，二級指標≤0.15mm。 ◎ 耐蝕刻性和耐電鍍性 技術(shù)要求規(guī)定，光聚合后的干膜抗蝕層，應(yīng)能耐三氯化鐵蝕刻液
2010-03-09 16:12:32
→曝光→顯影（貼干膜→曝光→顯影）→形成負相圖象→圖形鍍銅→圖形電鍍金屬抗蝕層→去膜→蝕刻→進入下工序 圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法，一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移
2010-03-09 16:22:39
:JYJS.0.2010-06-003【正文快照】：隨著經(jīng)濟全球化進程的不斷深入,科技發(fā)展對提升國家綜合國力和國際地位具有十分重要的影響。許多國家都把科技創(chuàng)新作為國家發(fā)展戰(zhàn)略,競相搶占國際競爭的制高點。隨著我國建設(shè)創(chuàng)新型國家戰(zhàn)略的確立,國家創(chuàng)新體系中的重要組成部分之一——技術(shù)轉(zhuǎn)移已經(jīng)日益滲透于我國國民經(jīng)濟的各全文下載
2010-04-24 09:42:50
針對目前大型平行光管成像質(zhì)量監(jiān)測的現(xiàn)狀,本文提出了一種對平行光管進行實時監(jiān)測的新方法,驗證了這種監(jiān)測方法的可行性。該方法根據(jù)光管自準檢測原理,采用小平面鏡對光管像質(zhì)進行實時監(jiān)測,計算了在一個焦深
2010-05-13 09:04:36
`max中的camera attributes中并沒有關(guān)于曝光時間exposuretime的參數(shù)設(shè)置，不知道還可以怎么來調(diào)整曝光，現(xiàn)在用snap捕捉一幀圖像的時候還可以，是這樣的，但是用grab來連續(xù)捕捉的時候圖像就變?yōu)榱诉@樣，我懷疑是攝像頭根據(jù)視場的亮度自動調(diào)整了曝光，不知有沒有辦法解決。`
2014-09-27 12:11:47
的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過程對PCB制作來說，有非常重要的意義。內(nèi)層干膜包括內(nèi)層貼膜、曝光顯影、內(nèi)層蝕刻等多道工序。內(nèi)層貼膜就是在銅板表面貼上一層特殊的感光膜，就是我們所說的干膜。這種膜遇
2018-09-20 17:29:41
微米級的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個強大工具，從而能夠在批量生產(chǎn)情況下實現(xiàn)快速曝光，以及更低的運營成本。 通過使用可編程光控制的DLP技術(shù)，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜
2018-08-29 15:19:25
等?！?】干膜（壓干膜/貼膜/貼干膜）通過壓膜機，在銅面上，貼附感光材料（干膜）?！?】曝光利用感光照相原理，使感光材料（干膜）受到紫外光照射（即曝光）后，發(fā)生聚合反應(yīng)，完成圖形轉(zhuǎn)移。注：曝光又為圖形
2023-02-17 11:54:22
氮化鎵功率半導體技術(shù)解析基于GaN的高級模塊
2021-03-09 06:33:26
曝光，且這一過程耗時時間短，操作簡單，對操作人員要求不高，可以實現(xiàn)一鍵安裝菲林。那么深圳CCD半自動曝光機系統(tǒng)有哪些特點及參數(shù)？相信不少人是有疑問的，今天深圳四元數(shù)就跟大家解答一下！四元數(shù)CCD半自動
2021-09-28 14:44:04
需要數(shù)據(jù)背后的根因。但業(yè)界的圖形棧測試，絕大部分都只提供應(yīng)用層面的數(shù)據(jù)，有一部分可以深入系統(tǒng)層分析，但仍無法觸及硬件這一層的測試分析?！ armonyOS圖形棧測試技術(shù)，不僅可以深入系統(tǒng)層分析，幫助
2022-04-08 11:14:00
用labview怎么模擬產(chǎn)生一束平行光
2015-04-30 11:26:39
自18世紀在德國被發(fā)明以來，被稱為“數(shù)字曝光”的打印方法經(jīng)歷了一段很長的發(fā)展歷程。今天，數(shù)字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片，包括書本和T恤。 這項打印技術(shù)的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為
2022-11-16 07:18:34
早期的簡單平行式結(jié)構(gòu)貼片機也可以看做是一條貼片生產(chǎn)流水線。當線路板運行到流水線的某一個工位時停下，在這個工位上會有一些固定的裝有真空吸嘴的機械臂將元件從送料器中同時吸取，再同時貼裝到線路板上固定
2018-09-06 16:32:30
一 前言 最早PCB生產(chǎn)過程的圖形轉(zhuǎn)移材料采用濕膜，隨著濕膜的不斷使用和PCB的技術(shù)要求提高，濕膜的缺點也顯露出來了，主要聚中在生產(chǎn)周期長、涂膜厚度不均、涂膜后板面針眼和雜物太多、孔中顯影困難
2018-08-29 10:20:48
自制pcb曝光機原理圖和程序，求大神們哦
2013-10-28 10:44:53
給面子，于是估摸著想買個曝光機，到淘寶淘了一下看價格動則三五百，實在是....~，還是自己動手DIY吧，反正他描述得再神奇我也只是用到燈泡功能，看來又要充分發(fā)揮我的粗工濫造精神了——迷你便攜式曝光機，寫下
2013-08-18 17:49:40
設(shè)計的位置有所差別，將影響到total pitch(圖案實際長度與設(shè)計長度的誤差容忍值)的誤差。而一般接近式曝光技術(shù)解析度與光罩及基板的間隙和光的波長有關(guān)。隨著基片的增大，光罩也隨之增大，由于光罩本身
2019-08-16 11:11:34
，光刻和刻蝕是其中最為核心的兩個步驟。 而晶體管就是通過光刻和蝕刻雕刻出來的，光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會
2020-07-07 11:36:10
萌新求助，求大神詳細解析單個光耦的硬件電路的知識點
2021-10-14 08:14:54
視頻監(jiān)控系統(tǒng)圖像處理技術(shù)應(yīng)用解析隨著物聯(lián)網(wǎng)和移動互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)的迅速發(fā)展，傳統(tǒng)的IT架構(gòu)逐漸云端化，計算資源和承載業(yè)務(wù)將進一步深度整合，在物聯(lián)網(wǎng)和云計算匯聚的潮流中，視頻監(jiān)控技術(shù)將發(fā)生徹底的變革：視頻
2013-09-23 15:00:02
單平行式貼片機的優(yōu)點是什么？
2021-04-25 07:21:06
路燈用聲音、光測量電路仿真.ms10文件。求一個！！急
2013-12-27 20:35:19
程序包含了去膠渣、化學銅和電鍍銅三個程序。3、干膜壓合：制作感光性蝕刻的阻抗層。4、內(nèi)層線路影像轉(zhuǎn)移 ：利用曝光將底片的影像轉(zhuǎn)移至板面。5、 外層線路曝光：經(jīng)過感光膜的貼附后，電路板曾經(jīng)過類似內(nèi)層板
2020-10-27 08:52:37
紫外線曝光機是PCB 圖形轉(zhuǎn)移中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)的邁拉曬架雖然簡便，但存在著需要趕氣、效率低、不能實現(xiàn)精確對位的缺點。而雙玻璃曬架與傳統(tǒng)的邁拉曬架相比不僅具有不需
2009-07-15 10:58:55
28 GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
在材料科學領(lǐng)域，鐳射轉(zhuǎn)移復合紙剝離試驗機作為一種先進的測試設(shè)備，發(fā)揮著越來越重要的作用。這種試驗機主要用于研究各種材料的剝離性能，特別是在紙張、塑料、金屬等材料的復合剝離方面，具有廣泛的應(yīng)用價值。一
2023-10-30 16:29:48
精密圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)控制要點一·高密度FPC柔性電路圖形轉(zhuǎn)移
2006-04-16 21:18:14
891 摘要本文通過筆者多年對圖形轉(zhuǎn)移工藝控制及管理經(jīng)驗，得出一些心得體
2006-04-16 21:20:35710 在圖形轉(zhuǎn)移工藝時檢測板上余膠的方法
在圖形轉(zhuǎn)移工藝時如何檢測板上的余膠？方法有二： 方法一、將板放入1%甲基紫酒精水溶液或1-2%
2010-03-11 15:22:02805 描述觸發(fā)器的邏輯功能還可以采用圖形方式，即狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖來描述。圖13-4為基本觸發(fā)器的狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖。圖中兩
2010-08-13 09:31:4120875 
一、高密度多層板圖形轉(zhuǎn)移工藝控制技術(shù)
2010-10-22 17:29:39754 基于高通Adreno圖形處理器全解析
2017-10-30 16:15:1811 本文介紹了proe技術(shù)的平行混合特征范例。 本例使用平行混合特征建立如圖6-1所示的零件模型。該例中練習使用截面邊數(shù)不同時建立平行混合特征的技巧。
2017-11-17 14:15:560 基板的表面處理—— 》涂布（絲印）——》預烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》蝕刻——》褪膜——》檢查 （備注：內(nèi)層板）
基板的表面處理—— 》涂布（絲印）——》預烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》電鍍——》褪膜——》蝕刻——》檢查 （備注：外層板）
2019-07-05 14:47:322090 
圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點，也是技術(shù)難點，其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。所以，在制作過程中，必須要達到以下幾點：
2019-04-28 14:50:382752 在印制電路板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來進行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移。現(xiàn)在，濕膜主要用于多層印制電路板的內(nèi)層線路圖形的制作和雙面及多層板的外層線路圖形的制作。
2019-05-21 16:51:424929 在印制板的制作工藝中，圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序，以前常用干膜工藝來進行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移。
2019-11-15 11:20:221260 本文首先介紹了平行梁傳感器的原理，其次介紹了平行梁傳感器技術(shù)參數(shù)，最后介紹了平行梁傳感器安裝方法。
2019-12-23 14:06:462722 光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217950 
HDC 2021華為開發(fā)者大會HarmonyOS測試技術(shù)與實戰(zhàn)-HarmonyOS圖形棧測試技術(shù)深度解析
2021-10-23 15:09:001252 
SADP 技術(shù)先利用浸沒式光刻機形成節(jié)距較大的線條，再利用側(cè)墻圖形轉(zhuǎn)移的方式形成 1/2 節(jié)距的線條，這種技術(shù)比較適合線條排列規(guī)則的圖形層，如 FinFET 工藝中的 Fin 或后段金屬線條。
2022-11-25 10:14:446269 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-16 21:00:071077 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 11:59:00455 
由于Micro LED的特征尺寸小于100μm，傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)在轉(zhuǎn)移效率、轉(zhuǎn)移精度上很難達到要求。傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)對單顆芯片的尺寸要求存在物理極限，芯片太小無法轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移精度也難以滿足。
2023-03-27 14:49:171178 銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為： 利用光化學原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-04-06 09:20:03685 光刻機用UV光源，其通過特殊光學設(shè)計發(fā)射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外線通過掩膜掩孔對集成電路高精密線路完成蝕刻曝光顯影的工作。
2023-05-11 10:34:283160 
銜接上文，繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖，第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為：利用光化學原理，將圖形線路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上，再利用化學原理，將圖形線路在印制板上制作
2023-02-17 13:52:20592 
工藝也有其獨到之處。其中最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到陶瓷基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點，也是技術(shù)難點所在。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（Screen Printing
2023-09-12 11:31:51594 
窺探材料性能的利器：平行擠壓測試儀解析
2023-12-11 09:09:27244 
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