長(zhǎng)江存儲(chǔ)迎來(lái)荷蘭光刻機(jī)，國(guó)產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤將更上一層樓

貿(mào)易戰(zhàn)一波三折，目前兩方還是在互懟的狀態(tài)。。。6月15日，美國(guó)白宮宣布對(duì)從中國(guó)進(jìn)口的、含重要工業(yè)技術(shù)的500億美元商品征收25%的關(guān)稅，并提到這些商品與“中國(guó)制造2025”相關(guān)。中國(guó)方面立即做出回應(yīng)，將對(duì)等反擊美國(guó)挑起的貿(mào)易戰(zhàn)。6月16日，國(guó)務(wù)院稅委會(huì)宣布對(duì)美國(guó)出口至中國(guó)的695項(xiàng)約500億商品加收關(guān)稅，具體也分成兩類：對(duì)農(nóng)產(chǎn)品、汽車、水產(chǎn)品等545項(xiàng)商品自2018年7月6日起加征25%關(guān)稅；對(duì)化工品、醫(yī)療設(shè)備、能源產(chǎn)品等114項(xiàng)商品，加征關(guān)稅實(shí)施時(shí)間另行公告。

大大說(shuō)過(guò)：核心技術(shù)是化緣不來(lái)的。是的，這個(gè)時(shí)間段正是我們抓緊補(bǔ)漏的階段，尤其是在半導(dǎo)體行業(yè)等重點(diǎn)薄弱領(lǐng)域，做好自身實(shí)力上的儲(chǔ)備。

前不久，長(zhǎng)江存儲(chǔ)迎來(lái)了一臺(tái)來(lái)自于荷蘭的光刻機(jī)，可謂是為芯片制造產(chǎn)業(yè)增添一件利器！這臺(tái)光刻機(jī)同樣來(lái)自荷蘭ASML，193nm沉浸式設(shè)計(jì)，可生產(chǎn)20-14nm工藝的3DNAND閃存晶圓，售價(jià)達(dá)7200萬(wàn)美元，約合人民幣4.6億元。這臺(tái)光刻機(jī)的加盟，意義真是非凡！

標(biāo)志著中國(guó)在生產(chǎn)設(shè)備上與其他尖端芯片制造強(qiáng)國(guó)處于同一水平上，相信國(guó)產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤能夠更上一層樓。

那么，什么是光刻機(jī)呢？本節(jié)小編就帶大家一起認(rèn)識(shí)一下光刻機(jī)。

一、什么是光刻機(jī)？

光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。

當(dāng)然，光刻機(jī)是用來(lái)制作芯片的，所以我們來(lái)介紹一下基本的芯片制造工藝中的光刻工藝。

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。

在我們知道了光刻機(jī)的作用之后，相信大家會(huì)疑問(wèn)：光刻機(jī)有哪些種類呢？

二、光刻機(jī)的品牌

光刻機(jī)的品牌眾多，大致在層次上可以分為高檔和低檔兩類：：

高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬(wàn)美金的光刻機(jī)。

高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來(lái)自德國(guó)），日本Nikon（intel曾經(jīng)購(gòu)買過(guò)Nikon的高端光刻機(jī)）和日本Canon三大品牌為主。

生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國(guó)SUSS、美國(guó)MYCRO NXQ4006、以及中國(guó)品牌。

那么，光刻機(jī)在原理上可以分為哪幾類呢？

三、光刻機(jī)的種類

光刻機(jī)在原理上可以分為三類：接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)、投影式光刻機(jī)。

接觸式光刻機(jī)，來(lái)源于它的曝光方式：采用了接觸式曝光的形式，就是掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來(lái)的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡(jiǎn)單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。軟接觸 就是把基片通過(guò)托盤吸附住（類似于勻膠機(jī)的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；硬接觸 是將基片通過(guò)一個(gè)氣壓（氮?dú)猓?，往上頂，使之與掩膜接觸；真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）。

接觸式光刻機(jī)雖然簡(jiǎn)單，但是存在一些問(wèn)題：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損，容易損壞，壽命很低（只能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個(gè)世紀(jì)七十年代的工業(yè)水準(zhǔn)，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)均為接觸式曝光，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)機(jī)構(gòu)無(wú)法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產(chǎn)品化，所以中國(guó)的光刻機(jī)研發(fā)還要加把力！

接近式光刻機(jī)采用了接近式曝光的方式，掩膜板與光刻膠基底層保留一個(gè)微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm?？梢杂行П苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長(zhǎng)（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現(xiàn)代光刻工藝中應(yīng)用最為廣泛。