晶圓的定位精度達(dá)到四分之一納米,并且每秒對(duì)準(zhǔn)2萬(wàn)次以消除任何振動(dòng)的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。
計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載,大型數(shù)據(jù)中心247全天候運(yùn)行,以便創(chuàng)建用于光刻系統(tǒng)的掩膜板,這些數(shù)據(jù)中心是芯片制造商每年投資近2000億美元的資本支出的一部分
NVIDIA今天宣布推出cuLitho一一個(gè)計(jì)算光刻庫(kù)
NVIDIA H100需要89塊掩膜板,在CPU上運(yùn)行時(shí),處理單個(gè)掩膜板,當(dāng)前需要兩周時(shí)間。
臺(tái)積電可以通過(guò)在500個(gè)DGX H100系統(tǒng)上使用cuLitho加速,將功率從35MW降至5MW,從而替代用于計(jì)算光刻的4萬(wàn)臺(tái)CPU服務(wù)器,減少制造過(guò)程中的碳足跡,并為 2納米及以 上的生產(chǎn)做好準(zhǔn)備
所有行業(yè)都需要加速各種工作負(fù)載,以便我們能減少功耗,達(dá)到事半功倍的效果。
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