Intel和ASML宣布全球第一臺(tái)High-NA光刻機(jī)“首光”

荷蘭ASML是世界上最先進(jìn)的光刻設(shè)備制造商，最近該公司啟動(dòng)了第一臺(tái)high-NA(numerical aperture,數(shù)值孔徑)設(shè)備，以確保其正常工作。Intel也加入了這一行列，因?yàn)樗鞘澜缟系谝患矣嗁?gòu)該設(shè)備的代工廠。

Intel和ASML宣布全球第一臺(tái)High-NA光刻機(jī)“首光”這一事件，是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一次重大突破。High-NA光刻機(jī)，即高數(shù)值孔徑極紫外（EUV）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體制造中最重要的工具之一。它能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更小的線寬，從而為生產(chǎn)更高性能的芯片打下基礎(chǔ)。

據(jù)報(bào)道，ASML經(jīng)過(guò)十年的研發(fā)，于2023年12月正式向Intel交付了首臺(tái)High-NA EUV光刻系統(tǒng)——TWINSCAN EXE:5000的首批模塊。這一系統(tǒng)的分辨率直達(dá)8nm，相比之前的DUV系統(tǒng)，其在光的波長(zhǎng)參數(shù)上進(jìn)行了重大調(diào)整，使用13.5nm光，而最高分辨率DUV系統(tǒng)則使用193nm光。此外，這臺(tái)機(jī)器的尺寸龐大，組裝完成后高達(dá)3層樓高，需要建造新的廠房來(lái)容納。

在Intel位于美國(guó)俄勒岡州的D1X工廠內(nèi)，ASML工程團(tuán)隊(duì)完成了該光刻機(jī)的安裝調(diào)試工作。相關(guān)組件通過(guò)空運(yùn)從荷蘭運(yùn)到美國(guó)，以縮短交貨時(shí)間。這一光刻機(jī)的價(jià)值在3億至4億美元之間，被ASML公司宣稱為芯片制造商參與人工智能熱潮的“必備品”。

據(jù)了解，TWINSCAN EXE:5000光刻機(jī)將應(yīng)用在Intel的18A制造工藝中，即1.8納米級(jí)別。它的應(yīng)用被認(rèn)為是推進(jìn)摩爾定律的關(guān)鍵步驟，標(biāo)志著摩爾定律向前邁進(jìn)了一大步。然而，根據(jù)ASML的路線圖，這一代的High-NA EUV光刻機(jī)或許主要是被晶圓制造商用于相關(guān)實(shí)驗(yàn)與測(cè)試，以便公司更好地了解High-NA EUV設(shè)備的使用，獲得寶貴經(jīng)驗(yàn)。實(shí)際量產(chǎn)可能會(huì)依賴于計(jì)劃在2024年底出貨的TWINSCAN EXE:5200。

總的來(lái)說(shuō)，Intel和ASML宣布全球第一臺(tái)High-NA光刻機(jī)“首光”，無(wú)疑是半導(dǎo)體行業(yè)的一次重大進(jìn)步。它不僅展示了ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，也預(yù)示著半導(dǎo)體制造工藝將邁向新的高度。然而，如何充分利用這一技術(shù)，并將其應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)中，還需要進(jìn)一步的研究和實(shí)驗(yàn)。我們期待看到更多關(guān)于這一技術(shù)的后續(xù)報(bào)道和應(yīng)用進(jìn)展。