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臺積電A16采用背面供電技術(shù),提升運算效能并降低功耗

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-07 15:49 ? 次閱讀

據(jù)報道,臺積電于近期發(fā)布的北美技術(shù)論壇上披露了A16節(jié)點的關(guān)鍵信息,該節(jié)點將搭載更多晶體管,以提升計算效率并降低能耗。

據(jù)悉,臺積電A16工藝節(jié)點采用了全新Super PowerRail背面供電技術(shù),相較于英特爾的正面供電技術(shù)更為復(fù)雜,能夠更好地滿足AI芯片及數(shù)據(jù)中心的發(fā)展需求。

隨著晶體管尺寸減小、密度增加以及堆疊層數(shù)增多,為晶體管提供電源和傳輸數(shù)據(jù)信號變得愈發(fā)困難,需穿越10至20層堆棧,使得線路設(shè)計難度大幅提升。

臺積電通過采用背面供電技術(shù),將供電線路置于晶體管下方,有效解決了IR壓降問題。

IT之家引用臺積電官方新聞稿指出,晶體管主要由源極、汲極、通道和閘極四大組件構(gòu)成。其中,源極為電流進入晶體管的入口,汲極為出口;通道與柵極則分別負責(zé)協(xié)調(diào)電子運動。

相比之下,臺積電A16節(jié)點制程技術(shù)中的電力傳輸線直接連通源極與汲極,使其比英特爾的背面供電技術(shù)更為復(fù)雜。臺積電表示,此舉旨在提升客戶芯片的效能。

臺積電表示,在同等工作電壓(Vdd)下,采用Super PowerRail的A16節(jié)點運算速度可比N2P快8~10%;在同樣運算速度下,功耗降低15%~20%,芯片密度提升達1.10倍。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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