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三星電子加緊推進(jìn)eMRAM制程升級(jí),預(yù)計(jì)2027年推出5nm工藝?

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-31 11:28 ? 次閱讀

三星電子日前在韓國(guó)舉行的“AI-PIM 研討會(huì)”上透露,公司正在按計(jì)劃提升 eMRAM 內(nèi)存制造工藝,當(dāng)前已基本完成 8nm eMRAM 的研發(fā)。

作為新一代存儲(chǔ)器,MRAM(磁阻隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)利用磁效應(yīng)保存信息,無(wú)需頻繁刷新且更加節(jié)能高效。與傳統(tǒng)的 DRAM 相比,MRAM 的寫(xiě)入速度可達(dá)到 NAND 的 1000 倍,適用于高寫(xiě)入速率的應(yīng)用場(chǎng)景。

針對(duì)嵌入式市場(chǎng)的 eMRAM,三星電子現(xiàn)已具備 28nm eMRAM 的生產(chǎn)能力,并已開(kāi)始為智能手表等設(shè)備供應(yīng)此類產(chǎn)品。

據(jù)2023 年的報(bào)道,三星電子曾宣布計(jì)劃于 2024 年量產(chǎn) 14nm eMRAM,2026 年量產(chǎn) 8nm eMRAM,并預(yù)計(jì)在 2027 年實(shí)現(xiàn) 5nm eMRAM 的量產(chǎn)。

截至目前,三星電子已經(jīng)成功研發(fā)出 14nm eMRAM,8nm eMRAM 的研發(fā)工作也接近尾聲,公司仍計(jì)劃在 2027 年推出 5nm eMRAM。

此外,三星電子預(yù)測(cè)未來(lái)汽車領(lǐng)域?qū)?eMRAM 的需求將會(huì)持續(xù)增加,因?yàn)槠洚a(chǎn)品能夠承受高達(dá) 150~160℃的溫度,完全符合汽車行業(yè)對(duì)半導(dǎo)體的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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