導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些？
存儲時間
正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗，而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在 可見光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力，對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程非常緩慢，因此通常只有在更換新批次的光刻膠時才會被注意到。
污染
光刻膠與水或不適合的溶劑(如異丙醇)接觸，或經(jīng)冷凍后的抗蝕劑可能會改變其顏色。在這種情況下，光刻膠的變質(zhì)是不可避免的。
襯底和光刻膠厚度
在不同的基材上，光刻膠膜會呈現(xiàn)不同的顏色。特別是對于薄的光刻膠薄膜，僅改變10nm的抗蝕劑薄膜厚度就會引起光刻膠薄膜的干涉色變。這種厚度的變化可能是由溶劑揮發(fā)、光刻膠老化、溫度或空氣濕度的變化、或涂層設(shè)備或參數(shù)的變化引起的。
化學(xué)侵蝕
含HNO3蝕刻液的侵蝕或高溫烘烤可導(dǎo)致光刻膠結(jié)構(gòu)的變色（褐色）。
免責(zé)聲明：文章來源汶顥 www.whchip.com 以傳播知識、有益學(xué)習(xí)和研究為宗旨。轉(zhuǎn)載僅供參考學(xué)習(xí)及傳遞有用信息，版權(quán)歸原作者所有，如侵犯權(quán)益，請聯(lián)系刪除。
審核編輯 黃宇
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻膠
+關(guān)注
關(guān)注
10文章
308瀏覽量
30116
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章：收藏！常用光刻膠型號資料大全，幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球，領(lǐng)取公眾號資料
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？
在微流控PDMS芯片加工的過程中，需要使用烘膠臺或者烤膠設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡要介紹SU-8
光刻膠的硬烘烤技術(shù)
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝，我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián)，稱為硬烘烤或者堅膜?；蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
光刻膠的一般特性介紹
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能，這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度（sensitivity）是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高，所
光刻膠后烘技術(shù)
后烘是指（post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影，也就是說還未閉合，PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們在
光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
光刻膠的保存和老化失效
我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能，但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題，其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且，在
SU-8光刻膠起源、曝光、特性
在紫外光照射下，三芳基碘鹽光敏劑被激活，釋放活性碘離子。這些活性碘離子與SU-8光刻膠中的丙烯酸酯單體反應(yīng)，引發(fā)單體之間的交聯(lián)反應(yīng)，導(dǎo)致SU-8光刻膠在曝光區(qū)域形成凝膠化的圖案。
關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹
與正光刻膠相比，電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠
光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)
光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場景。
發(fā)表于 01-03 18:12
?1163次閱讀
勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響
不僅需要***，更需要光刻膠
為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，
光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠
發(fā)表于 11-13 18:14
?1422次閱讀
工商網(wǎng)監(jiān)
評論