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臺積電CoWoS封裝技術(shù)引領(lǐng)AI芯片產(chǎn)能大躍進(jìn)

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-08-21 16:31 ? 次閱讀

據(jù)DIGITIMES研究中心最新發(fā)布的《AI芯片特別報告》顯示,在AI芯片需求激增的推動下,先進(jìn)封裝技術(shù)的成長勢頭已超越先進(jìn)制程,成為半導(dǎo)體行業(yè)的新焦點。特別是臺積電(TSMC)的CoWoS封裝技術(shù),因其對AI芯片的高度適配性,預(yù)計將在2023至2028年間實現(xiàn)產(chǎn)能擴(kuò)充的年均復(fù)合增長率(CAGR)超過50%,這一數(shù)字遠(yuǎn)超行業(yè)平均水平。

報告指出,隨著AI應(yīng)用的不斷深化,對芯片性能與出貨量的要求日益提升,晶圓代工業(yè)者正加速布局先進(jìn)制程與封裝技術(shù)的雙重升級。其中,臺積電作為行業(yè)領(lǐng)頭羊,不僅在5納米及以下先進(jìn)制程領(lǐng)域持續(xù)擴(kuò)張,其CoWoS封裝技術(shù)更是成為AI芯片制造商的首選。這一技術(shù)通過優(yōu)化芯片間的互連方式,顯著提升了AI芯片的數(shù)據(jù)處理速度與能效比,滿足了市場對高性能AI解決方案的迫切需求。

分析師陳澤嘉強(qiáng)調(diào),為了應(yīng)對AI芯片市場的快速發(fā)展,晶圓代工業(yè)者正積極探索并應(yīng)用包括微影技術(shù)、新晶體管結(jié)構(gòu)、背后供電技術(shù)(BSPDN)、2.5D/3D先進(jìn)封裝、玻璃載板、共同封裝光學(xué)(CPO)以及硅光子整合等一系列創(chuàng)新技術(shù)。這些技術(shù)的融合應(yīng)用,將進(jìn)一步推動AI芯片性能與產(chǎn)能的雙重飛躍,為半導(dǎo)體行業(yè)的未來發(fā)展注入強(qiáng)勁動力。

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