現(xiàn)在,抗蝕劑的涂布方法根據(jù)電路圖形的精密度和產(chǎn)量分為以下三種方法:絲網(wǎng)漏印法、干膜/感光法、液態(tài)抗蝕劑感光法。
抗蝕油墨采用絲網(wǎng)漏印法直接把線路圖形漏印在銅箔表面上,這是最常用的技術(shù),適用于大批量生產(chǎn),成本低廉。形成的線路圖形的精度可以達(dá)到線寬/間距0.2~O.3mm,但不適用于更精密的圖形。隨著微細(xì)化這種方法逐步不能適應(yīng)。與以下所敘述的干膜法相比需要有一定技術(shù)的操作人員,操作人員必須經(jīng)過(guò)多年的培養(yǎng),這是不利的因素。
干膜法只要設(shè)備、條件齊全就可制得70~80μm的線寬圖形?,F(xiàn)在0.3mm以下的精密圖形大部分都可以用干膜法形成抗蝕線路圖形。采用干膜,其厚度是15~25μm,條件允許,批量水平可以制作30~40μm線寬的圖形。
當(dāng)選擇干膜時(shí),必須根據(jù)與銅箔板、工藝的匹配性并通過(guò)試驗(yàn)來(lái)確定。實(shí)驗(yàn)的水平即使有好的分辨能力,但并不一定在大批量生產(chǎn)使用時(shí)能有很高的合格率。柔性印制電路板薄且易于彎曲,如果選用硬一點(diǎn)的干膜則其較脆而隨動(dòng)性差,所以也就會(huì)產(chǎn)生裂縫或剝落從而使蝕刻的合格率降低。
干膜是卷狀的,生產(chǎn)設(shè)備和作業(yè)較簡(jiǎn)單。干膜是由較薄的聚酯保護(hù)膜、光致抗蝕膜和較厚的聚酯離型膜等三層結(jié)構(gòu)所構(gòu)成。在貼膜之前首先要把離型膜(又稱(chēng)隔膜)剝?nèi)ィ儆脽彷亴⑵滟N壓在銅箔的表面上,顯影前再撕去上面保護(hù)膜(又稱(chēng)載體膜或覆蓋膜),一般柔性印制電路板兩側(cè)有導(dǎo)向定位孔,干膜可稍微比要貼膜的柔性銅箔板狹窄一點(diǎn)。剛性印制電路板用的自動(dòng)貼膜裝置不適用于柔性印制電路板的貼膜,必須進(jìn)行部分的設(shè)計(jì)更改。由于干膜貼膜與其他的工序相比線速度大,所以不少?gòu)S都不用自動(dòng)化貼膜,而是采用手工貼膜。
貼好干膜之后,為了使其穩(wěn)定,應(yīng)放置1 5~20min之后再進(jìn)行曝光。
線路圖形線寬如果在30μm以下,用干膜形成圖形,合格率會(huì)明顯下降。批量生產(chǎn)時(shí)一般都不使用干膜,而使用液態(tài)光致抗蝕劑。涂布條件不同,涂布的厚度會(huì)有所變化,如果涂布厚度5~15μm的液態(tài)光致抗蝕劑于5μm厚的銅箔上,實(shí)驗(yàn)室的水平能夠蝕刻1Oμm以下的線寬。
液態(tài)光致抗蝕劑,涂布之后必須進(jìn)行干燥和烘焙,由于這一熱處理會(huì)對(duì)抗蝕膜性能產(chǎn)生很大影響,所以必須嚴(yán)格控制干燥條件。
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原文標(biāo)題:抗蝕劑的涂布-雙面FPC制造工藝
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