光刻機價格多少_還有比光刻機更貴的設(shè)備嗎

什么是光刻機

光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù)，是所有半導體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺價值量。

光刻機的內(nèi)部組件

激光器：光源，光刻機核心設(shè)備之一。

光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質(zhì)量。

光束形狀設(shè)置：設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學特性。

遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到硅片。

能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進行調(diào)整。

掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬美元。

掩膜臺：承載掩模版運動的設(shè)備，運動控制精度達到納米級。

物鏡：物鏡由 20 多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的硅片上，并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術(shù)難度就在于物鏡的設(shè)計難度大，精度的要求高。

量臺、曝光臺： 承載硅片的工作臺， 一般的光刻機需要先測量，再曝光，只需一個工作臺，ASML 的雙工作臺光刻機則可以實現(xiàn)一片硅片曝光同時另一片硅片進行測量和對準工作，能有效提升工作效率。

內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

光刻機的分類

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動

A 手動：指的是對準的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；

B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧；

C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

光刻機是干什么用的

就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的wafer曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到wafer上。

光刻機可廣泛應用于微納流控晶片加工、微納光學元件、微納光柵、ＮＭＥＭＳ器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備。

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，屬于人類制造的尖端設(shè)備，一臺超1億美元。

世界最先進的光刻機：EUV NXE 3350B（EUV極紫外線光刻機），號稱半導體業(yè)的終極武器，臺積電、英特爾都寄望，這臺史上最昂貴的「工具機」，會在2017年開始試產(chǎn)的七奈米制程大發(fā)神威，成為主力機種。

1億美元，單價超過6億人民幣，還得等，一臺機器相當于一架飛機的價錢，無它，全世界只有ASML能生產(chǎn)！那么光刻機為什么這么貴？

EUV半導體業(yè)的終極武器

臺積電、英特爾都寄望，這臺史上最昂貴的「工具機」，會在2017年開始試產(chǎn)的七奈米制程大發(fā)神威，成為主力機種。

全球每年生產(chǎn)上百億片的手機晶片、記憶體，數(shù)十年來都仰賴程序繁瑣，但原理與沖洗照片類似的曝光顯影制程生產(chǎn)。

其中以投射出電路圖案的微影機臺最關(guān)鍵、也最昂貴。過去十多年，全球最先進的微影機，都采用波長一九三奈米的深紫外光，然而英特爾、臺積電量產(chǎn)的最先進電晶體，大小已細小到僅有數(shù)十個奈米。這形同用同一支筆，要寫的字卻愈來愈小，最后筆尖比要寫的字還粗的窘境。

要接替的「超細字筆」，技術(shù)源自美國雷根時代「星戰(zhàn)計劃」，波長僅有十三奈米的EUV；依照該技術(shù)的主要推動者英特爾規(guī)劃，2005年就該上陣，量產(chǎn)時程卻一延再延。

因為這個技術(shù)實在太難了。EUV光線的能量、破壞性極高，制程的所有零件、材料，樣樣挑戰(zhàn)人類工藝的極限。例如，因為空氣分子會干擾EUV光線，生產(chǎn)過程得在真空環(huán)境。而且，機械的動作得精確到誤差僅以皮秒（兆分之一秒）計。

最關(guān)鍵零件之一，由德國蔡司生產(chǎn)的反射鏡得做到史無前例的完美無瑕，瑕疵大小僅能以皮米（奈米的千分之一）計。

這是什么概念？ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得（Peter Wennink）接受《天下》獨家專訪時解釋，如果反射鏡面積有整個德國大，最高的突起處不能高于一公分高。

「滿足這類（瘋狂）的要求，就是我們的日常工作，」兩年前由財務長接任執(zhí)行長的溫彼得說。

因為EUV的技術(shù)難度、需要的投資金額太高，另外兩大微影設(shè)備廠──日本的Nikon和佳能，都已放棄開發(fā)。ASML儼然成為半導體業(yè)能否繼續(xù)沖刺下一代先進制程，開發(fā)出更省電、運算速度更快的電晶體的最后希望。

所以到目前為止能夠生產(chǎn)這種高端光刻機的廠家就一家，并已經(jīng)占據(jù)了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場。

光刻機的維護保養(yǎng)

保養(yǎng)勝于維修，日常的保養(yǎng)維護十分重要，光刻機的保養(yǎng)方法：

1、每周用壓縮空氣清潔一次各個冷卻風扇。

2、每周較徹底地清潔一次機床內(nèi)部。

3、定期保養(yǎng)

4、導軌和絲杠每月加一次潤滑脂。

5、每半年更換一次主軸冷卻液。