半導(dǎo)體制程 分立器件 二極管的種類及其用法 二極管是一種具有1個(gè)PN接合的2個(gè)端子的器件。具有按照外加電壓的方向,使電流流動(dòng)或不流動(dòng)的性質(zhì)。 二極管的基本特性 利用PN接合的少
2012-03-27 11:02:286113 手機(jī)性能越來越強(qiáng)勁離不開半導(dǎo)體制程的進(jìn)步,明年手機(jī)處理器將會(huì)進(jìn)入10nm時(shí)代。高通驍龍835、聯(lián)發(fā)科Helio X30、蘋果A11處理器都將采用10nm制程,因此晶圓代工廠商臺(tái)積電、英特爾、三星等也在紛紛搶進(jìn)10nm、7nm先進(jìn)半導(dǎo)體制程。不過,市場真的能跟上先進(jìn)半導(dǎo)體制程的腳步嗎?
2016-12-27 15:47:02922 本文是為了在Si
基板蝕刻制造金剛石時(shí)提高制造收率,為此,將
半導(dǎo)體Si
基板接入陽極,將Pt電極接入陰極后,在pt電極用跳汰機(jī)內(nèi)放入氮?dú)馀菖萜?,旋轉(zhuǎn)對(duì)向的正電極上外部認(rèn)可電壓,泡泡器內(nèi)吹入氮?dú)?,在加?/div>
2022-03-24 16:47:483248 在半導(dǎo)體器件制造中,蝕刻指的是從襯底上的薄膜選擇性去除材料并通過這種去除在襯底上產(chǎn)生該材料的圖案的任何技術(shù),該圖案由抗蝕刻工藝的掩模限定,其產(chǎn)生在光刻中有詳細(xì)描述,一旦掩模就位,可以通過濕法化學(xué)或“干法”物理方法對(duì)不受掩模保護(hù)的材料進(jìn)行蝕刻,圖1顯示了這一過程的示意圖。
2022-07-06 17:23:522866 BGA基板工藝制程簡介
2022-11-16 10:12:27755 BGA基板工藝制程簡介
2022-11-28 14:58:001217 了,那么,芯片工藝從目前的7nm升級(jí)到3nm后,到底有多大提升呢?為什么提到芯片時(shí)都要介紹制程?制程到底是什么?今天宏旺半導(dǎo)體就帶大家來了解一下。10nm、7nm等到底是指什么?宏旺半導(dǎo)體提過,芯片是由
2019-12-10 14:38:41
年代的第一年,半導(dǎo)體工藝制程發(fā)展的狀況又會(huì)如何變化呢?是否會(huì)帶來一些新的進(jìn)展呢? 英特爾 10nm快速崛起,重返Tick-Tock時(shí)代 英特爾的發(fā)展步伐一直是業(yè)內(nèi)關(guān)注的焦點(diǎn)。2019年下
2020-07-07 11:38:14
半導(dǎo)體發(fā)展至今,無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進(jìn),如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣,半導(dǎo)體器件的規(guī)格在不斷的縮小,芯片的集成度也在不斷提升,工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
半導(dǎo)體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology
2009-11-18 11:31:10
半導(dǎo)體器件物理(胡正明)
2020-09-22 19:57:16
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備,例如硅片濕法清洗、蝕刻,硅芯硅棒濕法化學(xué)處理,液晶基板清洗,LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:21:04
半導(dǎo)體制冷—— 2 1 世紀(jì)的綠色“冷源”唐春暉(上海理工大學(xué)光學(xué)與電子信息工程學(xué)院,上海 200093)摘要:基于節(jié)能和環(huán)保已是當(dāng)今一切科技發(fā)展進(jìn)步的基本要求,對(duì)半導(dǎo)體制冷技術(shù)原理以及應(yīng)用情況做了
2010-04-02 10:14:56
大家有沒有用過半導(dǎo)體制冷的,我現(xiàn)在選了一種制冷片,72W的,我要對(duì)一個(gè)2.5W的熱負(fù)載空間(100x100x100mm)降溫,用了兩片,在環(huán)溫60度時(shí)熱負(fù)載所處的空間只降到30度,我采用的時(shí)泡沫膠
2012-08-15 20:07:10
半導(dǎo)體制冷的機(jī)理主要是電荷載體在不同的材料中處于不同的能量級(jí),在外電場的作用下,電荷載體從高能級(jí)的材料向低能級(jí)的材料運(yùn)動(dòng)時(shí),便會(huì)釋放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半導(dǎo)體制冷片控制板開發(fā)技術(shù)需要用到的功能模塊有哪些?有知道的朋友嗎?展開講講?
2022-05-22 18:26:09
半導(dǎo)體制冷片新技術(shù)應(yīng)用類金剛石基板,提高制冷效率,屬于我司新技術(shù)應(yīng)用方向,故歡迎此方面專家探討交流,手機(jī)***,QQ6727689,周S!詳細(xì)見附件!
2013-09-05 15:33:52
半導(dǎo)體制冷片是利用半導(dǎo)體材料的Peltier效應(yīng)而制作的電子元件,當(dāng)直流電通過兩種不同半導(dǎo)體材料串聯(lián)成的電偶時(shí),在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量,可以實(shí)現(xiàn)制冷的目的。它是一種產(chǎn)生負(fù)熱阻的制冷技術(shù),其特點(diǎn)是無運(yùn)動(dòng)部件,可靠性也比較高。半導(dǎo)體制冷片的工作原理是什么?半導(dǎo)體制冷片有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?
2021-02-24 09:24:02
在制造半導(dǎo)體器件時(shí),為什么先將導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導(dǎo)體,使之導(dǎo)電性極差,然后再用擴(kuò)散工藝在本征半導(dǎo)體中摻入雜質(zhì)形成N型半導(dǎo)體或P型半導(dǎo)體改善其導(dǎo)電性?
2012-07-11 20:23:15
們的投入中,80%的開支會(huì)用于先進(jìn)產(chǎn)能擴(kuò)增,包括7nm、5nm及3nm,另外20%主要用于先進(jìn)封裝及特殊制程。而先進(jìn)工藝中所用到的EUV極紫外光刻機(jī),一臺(tái)設(shè)備的單價(jià)就可以達(dá)到1.2億美元,可見半導(dǎo)體
2020-02-27 10:42:16
半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)典教程(英文版)
2014-03-06 16:19:35
。電路集成度越高,挑戰(zhàn)半導(dǎo)體制造工藝的能力,在可接受的成本條件下改善工藝技術(shù),以生產(chǎn)高級(jí)程度的大規(guī)模集成電路芯片。為達(dá)到此目標(biāo),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已變成高度標(biāo)準(zhǔn)化的,大多數(shù)制造商使用相似的制造工藝和設(shè)備。開發(fā)
2020-09-02 18:02:47
。這樣,半導(dǎo)體工廠投產(chǎn)以后整體生產(chǎn)系統(tǒng)才能發(fā)揮最大的生產(chǎn)效能。特別是迅速發(fā)展的亞微米工藝對(duì)生產(chǎn)場所空氣潔凈度要求特別高,所有半導(dǎo)體制程設(shè)備,都必須安置在隔絕粉塵進(jìn)入的密閉空間中,這就是潔凈室的來由
2020-09-24 15:17:16
的積體電路所組成,我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù),所須制程多達(dá)二百至三百個(gè)步驟。半導(dǎo)體制程的繁雜性是為了確保每一個(gè)元器件的電性參數(shù)和性能,那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
~ 3,000三、半導(dǎo)體制程設(shè)備 半導(dǎo)體制程概分為三類:(1)薄膜成長,(2)微影罩幕,(3)蝕刻成型。設(shè)備也跟著分為四類:(a)高溫爐管,(b)微影機(jī)臺(tái),(c)化學(xué)清洗蝕刻臺(tái),(d)電漿真空腔室
2011-08-28 11:55:49
的復(fù)雜性,而大多數(shù)半導(dǎo)體制造過程包含許多非線性且復(fù)雜的化學(xué)與物理反應(yīng),難以建立其制造模型,加上檢測技術(shù)的缺乏,造成無法及時(shí)得知工藝過程狀態(tài)而難以對(duì)其進(jìn)行有效監(jiān)控。因此,當(dāng)半導(dǎo)體制造進(jìn)入8英寸、12英寸
2018-08-29 10:28:14
`《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
2012-08-20 19:40:32
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:CMOS 單元工藝編號(hào):JFSJ-21-027作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html晶圓生產(chǎn)需要三個(gè)一般過程:硅
2021-07-06 09:32:40
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 基板的表面處理編號(hào):JFSJ-21-077作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html關(guān)鍵詞: GaN 襯底
2021-07-07 10:26:01
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝編號(hào):JFSJ-21-045作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:11:24
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN、ZnO和SiC的濕法化學(xué)蝕刻編號(hào):JFKJ-21-830作者:炬豐科技摘要寬帶隙半導(dǎo)體具有許多特性,使其對(duì)高功率、高溫器件應(yīng)用具有吸引力。本文綜述了三種
2021-10-14 11:48:31
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN晶體蝕刻的幾何方面和光子應(yīng)用編號(hào):JFSJ-21-044作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要:濕法
2021-07-08 13:09:52
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN的晶體濕化學(xué)蝕刻[/td][td]編號(hào):JFSJ-21-0作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html 目前
2021-07-07 10:24:07
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:IC制造工藝編號(hào):JFSJ-21-046作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要:集成電路的制造主要包括以下工藝
2021-07-08 13:13:06
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:InGaP 和 GaAs 在 HCl 中的濕蝕刻編號(hào):JFSJ-21-0作者:炬豐科技關(guān)鍵字:InGaP,濕法蝕刻,蝕刻速率 在H3P04和H202不同含量
2021-07-09 10:23:37
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:微鏡角度依賴性與蝕刻劑選擇編號(hào):JFKJ-21-047作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html抽象的:在為微光學(xué)創(chuàng)建
2021-07-19 11:03:23
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:用于半導(dǎo)體封裝基板的化學(xué)鍍 Ni-P/Pd/Au編號(hào):JFSJ-21-077作者:炬豐科技 隨著便攜式電子設(shè)備的普及,BGA(球柵陣列)越來越多地用于安裝在高密度
2021-07-09 10:29:30
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:硅納米柱與金屬輔助化學(xué)蝕刻的比較編號(hào):JFSJ-21-015作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33:58
1、GaAs半導(dǎo)體材料可以分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類,元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體,化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍,非常適合
2019-07-29 07:16:49
從7nm到5nm,半導(dǎo)體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示,比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
我想用單片機(jī)開發(fā)板做個(gè)熱療儀,開發(fā)板是某寶上買的那種,有兩個(gè)猜想:一個(gè)用半導(dǎo)體制冷片發(fā)熱,一個(gè)用電熱片。但我不會(huì)中間要不要接個(gè)DA轉(zhuǎn)換器還是繼電器什么的,查過一些資料,如果用半導(dǎo)體制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
求大神解答,半導(dǎo)體制冷片的正負(fù)極能反接嗎,如果可以,那原來的制冷面是不是可變成散熱面而原來的散熱面變成制冷面??
2016-03-03 16:53:12
基于半導(dǎo)體制冷片的高精度溫度控制系統(tǒng),總結(jié)的太棒了
2021-05-08 06:20:22
如何實(shí)現(xiàn)基于STM32的半導(dǎo)體制冷片(TEC)溫度控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)?
2021-12-23 06:07:59
想用半導(dǎo)體制冷片制作小冰箱,需要用到大功率電源,半導(dǎo)體制冷片,還有散熱系統(tǒng),單片機(jī)控制系統(tǒng),能調(diào)溫度,還能顯示溫度,具體的思路已經(jīng)有了,想問問你們有沒好點(diǎn)的意見,能盡量提高點(diǎn)效率還有溫度調(diào)節(jié)的精度
2020-08-27 08:07:58
山東高唐杰盛半導(dǎo)體科技有限公司,我公司主要從事微電子工藝設(shè)備及高精度自動(dòng)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。制造和服務(wù)等,已申請(qǐng)國家專利10項(xiàng),授權(quán)7項(xiàng),產(chǎn)品涉及到半導(dǎo)體制造的前道清洗、擴(kuò)散和后道封裝,技術(shù)達(dá)到國內(nèi)
2013-09-13 15:16:45
,而且制程成熟、整合度高,具成本較低之優(yōu)勢,換言之,SiGe不但可以直接利用半導(dǎo)體現(xiàn)有200mm晶圓制程,達(dá)到高集成度,據(jù)以創(chuàng)造經(jīng)濟(jì)規(guī)模,還有媲美GaAs的高速特性。隨著近來IDM大廠的投入,SiGe技術(shù)
2016-09-15 11:28:41
{:1:}想了解半導(dǎo)體制造相關(guān)知識(shí)
2012-02-12 11:15:05
問個(gè)菜的問題:半導(dǎo)體(或集成電路)工藝 來個(gè)人講講 半導(dǎo)體工藝 集成電路工藝 硅工藝 CMOS工藝的概念和區(qū)別以及聯(lián)系吧。查了一下:集成電路工藝(integrated
2009-09-16 11:51:34
是半導(dǎo)體制造,微機(jī)械和微流控設(shè)備中的重要過程,需要微尺度的特征來優(yōu)化性能或創(chuàng)建層流態(tài),這在宏觀上幾乎是不可能獲得的。由于能夠通過改變蝕刻劑濃度和蝕刻時(shí)間來輕松控制z軸蝕刻,因此常用于分層應(yīng)用。缺點(diǎn)包括許多化學(xué)廢物,其中許多是高酸性和多步過程。
2021-01-08 10:15:01
可行嗎?還需要電器隔離嗎?半導(dǎo)體制冷片的額定電壓是12v,mcu是stm32
2018-05-01 19:29:12
碳化硅(SiC)即使在高達(dá)1400℃的溫度下,仍能保持其強(qiáng)度。這種材料的明顯特點(diǎn)在于導(dǎo)熱和電氣半導(dǎo)體的導(dǎo)電性極高。碳化硅化學(xué)和物理穩(wěn)定性,碳化硅的硬度和耐腐蝕性均較高。是陶瓷材料中高溫強(qiáng)度好的材料
2021-01-12 11:48:45
到了二十世紀(jì)五十年代隨著半導(dǎo)體材料的迅猛發(fā)展,熱電制冷器才逐漸從實(shí)驗(yàn)室走向工程實(shí)踐,在國防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療和日常生活等領(lǐng)域獲得應(yīng)用,大到可以做核潛艇的空調(diào),小到可以用來冷卻紅外線探測器的探頭,因此通常又把熱電制冷器稱為半導(dǎo)體制冷器。
2013-11-29 09:26:38
芯片制造-半導(dǎo)體工藝制程實(shí)用教程學(xué)習(xí)筆記[/hide]
2009-11-18 11:44:51
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備,例如硅片濕法清洗、蝕刻,硅芯硅棒濕法化學(xué)處理,液晶基板清洗,LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:26:21
英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾在半世紀(jì)前提出的摩爾定律,是指每代制程工藝都要讓芯片上的晶體管數(shù)量翻一番??v觀芯片每代創(chuàng)新歷史,業(yè)界一直遵循這一定律,并按前一代制程工藝縮小約 0.7倍來對(duì)新制程節(jié)點(diǎn)命名
2019-07-17 06:27:10
、物理學(xué)等相關(guān)專業(yè)是否應(yīng)屆要求不限性別要求男女不限年齡要求-薪金面議詳細(xì)描述受新加坡公司委托***半導(dǎo)體工程師數(shù)名。主要包括:半導(dǎo)體制成整合,光刻,蝕刻,薄膜,擴(kuò)散等工藝和設(shè)備工程師要求:本科及以上
2009-10-12 11:10:18
、物理學(xué)等相關(guān)專業(yè)是否應(yīng)屆要求不限性別要求男女不限年齡要求-薪金面議詳細(xì)描述受新加坡公司委托***半導(dǎo)體工程師數(shù)名。主要包括:半導(dǎo)體制成整合,光刻,蝕刻,薄膜,擴(kuò)散等工藝和設(shè)備工程師要求:本科及以上
2009-10-12 11:15:49
半導(dǎo)體制程之薄膜沉積
在半導(dǎo)體組件工業(yè)中,為了對(duì)所使用的材料賦與某種特性,在材料表面上常以各種方法形成被膜而加以使用,假如
2009-03-06 17:14:585558 圖解半導(dǎo)體制程概論1
█ 半導(dǎo)體的物理特性及電氣特性
【
2010-03-01 17:00:496880 圖解半導(dǎo)體制程概論(2)
邏輯IC
電子機(jī)器的動(dòng)作所必需的內(nèi)部信號(hào)處理大致可以分為模擬信號(hào)處理和數(shù)字信號(hào)處理
2010-03-01 17:03:522811 先進(jìn)工藝制程成本的變化是一個(gè)有些爭議的問題。成本問題是一個(gè)復(fù)雜的問題,有許多因素會(huì)影響半導(dǎo)體制程成本。本文將討論關(guān)于半導(dǎo)體制程的種種因素以及預(yù)期。 晶圓成本 影響半導(dǎo)體工藝制程成本的第一個(gè)因素是晶圓成本。 毫無疑問,晶圓成本在不斷上升。
2016-12-20 02:14:112183 半導(dǎo)體制作工藝CH
2017-10-18 10:19:4747 半導(dǎo)體制作工藝CH13
2017-10-18 10:22:0922 半導(dǎo)體制作工藝CH12
2017-10-18 10:24:1418 半導(dǎo)體制作工藝CH11
2017-10-18 10:26:0719 半導(dǎo)體制作工藝CH10
2017-10-18 10:28:1523 半導(dǎo)體制作工藝CH09
2017-10-18 10:30:5322 半導(dǎo)體制作工藝CH08
2017-10-18 10:32:4425 半導(dǎo)體制作工藝CH06
2017-10-18 10:34:2219 半導(dǎo)體制作工藝CH07
2017-10-18 10:36:1021 半導(dǎo)體制作工藝CH05
2017-10-18 10:37:5925 半導(dǎo)體制作工藝CH04
2017-10-18 10:39:4321 半導(dǎo)體制作工藝CH03
2017-10-18 10:41:2329 半導(dǎo)體制作工藝CH02
2017-10-18 10:43:2134 半導(dǎo)體制作工藝CH01
2017-10-18 10:45:2356 本文開始介紹了陶瓷基板的用途與優(yōu)點(diǎn),其次介紹了半導(dǎo)體制冷器概述與主要特點(diǎn),最后介紹了半導(dǎo)體制冷機(jī)工作原理。
2018-04-19 11:38:5814146 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了:1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導(dǎo)體制造企業(yè) 1.6基本的半導(dǎo)體材料 1.7 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00200 半導(dǎo)體制造的工藝節(jié)點(diǎn),涉及到多方面的問題,如制造工藝和設(shè)備,晶體管的架構(gòu)、材料等。隨著制程的進(jìn)一步縮小,芯片制造的難度確實(shí)已經(jīng)快接近理論極限了。
2020-03-08 15:53:0024263 MEMS工藝——半導(dǎo)體制造技術(shù)說明。
2021-04-08 09:30:41237 半導(dǎo)體一般是指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體的應(yīng)用非常廣泛,在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明應(yīng)用等都有應(yīng)用。那么半導(dǎo)體工藝制程中常用的工序有哪些呢?下面一起
2021-10-03 18:14:004194 標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造工藝可以大致分為兩種工藝。一種是在襯底(晶圓)表面形成電路的工藝,稱為“前端工藝”。另一種是將形成電路的基板切割成小管芯并將它們放入封裝的過程,稱為“后端工藝”或封裝工藝。在半導(dǎo)體制
2022-03-14 16:11:136770 通過使半導(dǎo)體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢,可以簡化后處理序列,從而縮短前工藝處理時(shí)間,上述感光膜去除方法是:在工藝室內(nèi)晶片被抬起的情況下,用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟;將晶片安放在板上,然后用O2等離子體去除感光膜的步驟;和RCA清洗步驟。
2022-04-11 17:02:43783 半導(dǎo)體器件的制造流程包含數(shù)個(gè)截然不同的精密步驟。無論是前道工藝還是后道工藝,半導(dǎo)體制造設(shè)備的電源都非常重要。
2023-05-19 15:39:04478 在前幾篇文章(點(diǎn)擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導(dǎo)體制程 。在上一篇我們說到,為制作巧克力夾心,需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分,然后倒入巧克力糖漿,再蓋上一層餅干層?!暗谷肭煽肆μ菨{”和“蓋上餅干層”的過程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。
2023-06-29 16:56:17830 半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 隨著科技的不斷進(jìn)步,半導(dǎo)體制冷片在各種領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。而陶瓷基板DPC工藝作為一種先進(jìn)的制作技術(shù),在半導(dǎo)體制冷片制作中具有顯著的優(yōu)勢。本文將從多個(gè)方面介紹陶瓷基板DPC工藝在半導(dǎo)體制冷片中
2023-09-06 14:45:22666 [半導(dǎo)體前端工藝:第二篇] 半導(dǎo)體制程工藝概覽與氧化
2023-11-29 15:14:34541
評(píng)論
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