PLD脈沖激光沉積復合材料應用進展的詳細資料概述

　　在實驗科學中，新發(fā)現(xiàn)的（或重新發(fā)現(xiàn)的）合成技術在加速感興趣的領域中立即提供增強的性能和簡單性是一件罕見的事情。然而，1980年代末重新發(fā)現(xiàn)脈沖激光沉積（PLD）的情況就是如此。自從發(fā)現(xiàn)激光器_哈斯和拉姆齊，1969年；史密斯和特納，1965_以來，人們一直在探索使用脈沖激光作為蒸發(fā)膜生長的定向能源。初始活動范圍有限，涉及連續(xù)波（CW）和脈沖激光。脈沖激光沉積技術的首次實驗是在20世紀60年代進行的，直到70年代和80年代，其努力有限。軸向高溫超導薄膜_Inam等人，1988。這些化合物需要多種具有不同蒸發(fā)性能的陽離子，這些陽離子必須在正確的化學計量比下輸送以實現(xiàn)超導膜。同時，該材料是氧化物，在生長期間需要氧化環(huán)境。脈沖激光沉積具有許多特點，使其在復雜氧化物薄膜研究領域與其他薄膜生長技術相比具有顯著的競爭性。這些具有吸引力的主要特征是化學計量轉移、激發(fā)的氧化物種、以及初始設置和任意氧化物化合物研究中的簡單性。人們可以快速地研究幾乎任何氧化物化合物的薄膜沉積，而不管晶體化學的復雜性。脈沖激光沉積技術的顯著發(fā)展仍在繼續(xù)，在過去的15年中，PLD已經從學術上的好奇發(fā)展成為廣泛用于薄膜沉積研究的技術.Saenger， 1993; Kaczmarek， 1997; Willmott and Huber， 2000; Dubowski， 1988; Diele今天，PLD被用于絕緣體、半導體、金屬、聚合物甚至生物材料的沉積。很少有材料合成技術在研究和應用場所得到如此迅速和廣泛的滲透。