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      標簽　>　微影技術

      微影技術

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      ASML：預計2015年可發(fā)布首款量產型EUV機臺

      設備供應商艾司摩爾（ASML）已協(xié)同比利時微電子研究中心（IMEC）和重量級晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產出速度，預計2015年可發(fā)布首款量產型...

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      FinFET改變戰(zhàn)局：臺積將組大聯(lián)盟抗三星Intel

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      摩爾定律等待跨越微影障礙

      專家們一致認為，過去幾十年來一直扮演半導體創(chuàng)新引擎的摩爾定律（Moore“s Law ），正由于下一代超紫外光（EUV）微影技術的延遲而失去動力。

      2012-10-10 標簽：摩爾定律IMEC微影技術 943 0

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