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標(biāo)簽 > GaN快充
氮化鎵(GaN)是一種高電子遷移率晶體管(HEMT),意味著GaN器件的臨界電場強(qiáng)度大于硅。GaN具有更小的Qg,可以很容易的提升頻率,降低驅(qū)動損耗。快充能在1~5h內(nèi)使蓄電池達(dá)到或接近完全充電狀態(tài)的一種充電方法。
氮化鎵(GaN)是一種高電子遷移率晶體管(HEMT),意味著GaN器件的臨界電場強(qiáng)度大于硅。GaN具有更小的Qg,可以很容易的提升頻率,降低驅(qū)動損耗。
快充能在1~5h內(nèi)使蓄電池達(dá)到或接近完全充電狀態(tài)的一種充電方法。
氮化鎵相比傳統(tǒng)硅基半導(dǎo)體,有著比硅基半導(dǎo)體出色的擊穿能力,更高的電子密度和電子遷移率,還有更高的工作溫度。
GaN占據(jù)手機(jī)快充市場半壁江山,SiC該如何加入其中?
氮化鎵快充技術(shù)已非常成熟,快充市場被徹底激活,消費(fèi)電子配件市場不斷迭代更新。GaN是一種寬禁帶半導(dǎo)體,具有高功率密度、高頻率、低能耗、寬禁帶等特點(diǎn),被廣...
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