應(yīng)用聲明缺陷評估工具為0.18微米晶圓廠設(shè)定了步伐

加利福尼亞州圣克拉拉市 - 應(yīng)用材料公司今天表示其SEMVision缺陷檢查系統(tǒng)已經(jīng)過驗(yàn)證國際Sematech生產(chǎn)0.18微米芯片。據(jù)Applied介紹，該行業(yè)聯(lián)盟已指定掃描電子顯微鏡(SEM)系統(tǒng)作為第一個(gè)能夠自動(dòng)檢查和分類晶圓廠缺陷的批量生產(chǎn)工具。

隨著器件尺寸縮小，定位可能破壞制造產(chǎn)量的微小缺陷不僅變得更加困難，而且確定異常是嚴(yán)重還是僅僅是“滋擾缺陷”也變得更加困難。能夠在生產(chǎn)車間快速對缺陷進(jìn)行分類變得至關(guān)重要，因?yàn)榫A廠經(jīng)理在將新的半導(dǎo)體材料引入工藝的過程中試圖提高產(chǎn)量(參見SBN在線雜志的特寫)。

“SEMVision系統(tǒng)為基于SEM的半導(dǎo)體行業(yè)自動(dòng)缺陷分類設(shè)立了新的基準(zhǔn)，”Sematech在德克薩斯州奧斯汀的前端處理部門主管Rinn Cleavelin表示?！霸撚?jì)劃驗(yàn)證了SEMVision系統(tǒng)符合國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖中針對180納米技術(shù)所述的生產(chǎn)ADC自動(dòng)缺陷分類要求。特別令人印象深刻的是該系統(tǒng)的高產(chǎn)量和可靠的性能，這是實(shí)現(xiàn)產(chǎn)值產(chǎn)量的重要要求，“他補(bǔ)充道。

應(yīng)用材料公司表示，Sematech使用SEMVision基于規(guī)則的自動(dòng)缺陷分類方法，基于八種核心缺陷類別為工具供應(yīng)商和用戶創(chuàng)建了一種通用語言。應(yīng)用說，該術(shù)語將使芯片制造商能夠按類型(例如顆粒或劃痕)，材料特性以及操作員可以用來快速確定問題根源的其他特征對缺陷進(jìn)行分類。

預(yù)計(jì)芯片制造商將在未來幾年內(nèi)在自動(dòng)缺陷檢查和分類系統(tǒng)上投入更多資金。 Dataquest預(yù)測，這些工具 - 包括基于光學(xué)和SEM的系統(tǒng) - 到2003年將產(chǎn)生3.84億美元的收入，而1998年為1.58億美元。