9月8日,南大光電發(fā)表投資交流紀要,2022年下半年以來lcd, ic市場表現出了周期性調整,行業(yè)競爭加劇,公司的業(yè)績的重要源泉——三氟化氮產品是去年第四季度開始數量和價格都下降了?!睆哪壳皣鴥让姘骞S的開工率來看,下游地區(qū)的需求沒有明顯的上升跡象。
南大光電的激烈的市場競爭,公司充分發(fā)揮協(xié)同效應,以高品質、優(yōu)質的服務,利用低成本優(yōu)勢鞏固量占有率的同時,提高產品質量,通過加快建設全球ic客戶的滲透和海外oled市場的開拓,提高增量空間努力保持三氟化氮業(yè)務平穩(wěn)增長。
對于市場高度關注的arf光刻膠的開發(fā)情況,南大光電表示:“arf光刻膠的驗證階段分為prs(性能測試)、str(少量測試)、mstr(大量驗證)、release(通過驗證)4個階段?!惫疽呀浻袃煞N粘合劑通過了客戶的檢驗,多種粘合劑正在檢驗中。arf光刻膠根據開始時間進行過程不同,其中2個進入了mstr階段。目前公司照相事業(yè)部的主要任務是盡快完成更多產品的檢驗,加強市場擴張,為盡快實現規(guī)模的大批量生產而努力,形成業(yè)績貢獻。
南大光電還表示,公司用于生產ArF光刻膠的核心原材料,由公司自主研發(fā),在國內有供應能力的材料將通過外部采購確保。
但據業(yè)內人士透露,南大光電ArF光刻膠驗證主要在國內存儲大客戶,從短期來看,出貨量是可以忽略的。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關推薦
共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
發(fā)表于 11-01 11:08
?112次閱讀
本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
發(fā)表于 10-31 15:59
?138次閱讀
來源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠領域實現重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現配方
發(fā)表于 10-17 13:22
?176次閱讀
在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘膠臺或者烤膠設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
發(fā)表于 08-27 15:54
?169次閱讀
存儲時間 正膠和圖形反轉膠在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響
發(fā)表于 07-11 16:07
?388次閱讀
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據工藝要求,有
發(fā)表于 07-11 15:46
?584次閱讀
和高溫的結合的方法,使用深紫外堅膜工藝只能使得光刻膠表面發(fā)生交聯(lián)。下面詳細介紹這兩種工藝,以及光刻膠在處理過程中的變化。 堅膜 堅膜(硬烘)是光刻膠顯影后可選做的烘烤工藝步驟。其目的是
發(fā)表于 07-10 13:46
?605次閱讀
評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。
發(fā)表于 07-10 13:43
?483次閱讀
形態(tài)。這種方法的主要應用領域是剝離過程,在剝離過程中,底切的形態(tài)可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側壁上形成連續(xù)薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結構。 在圖像反轉烘烤步驟中,光刻膠的熱穩(wěn)
發(fā)表于 07-09 16:06
?464次閱讀
我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規(guī)劃好。并且,在
發(fā)表于 07-08 14:57
?679次閱讀
與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
發(fā)表于 03-20 11:36
?2278次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4130次閱讀
光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
發(fā)表于 01-03 18:12
?1163次閱讀
勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數,那么我們在勻膠時,是如何確定勻膠速度呢?它影響
發(fā)表于 12-15 09:35
?1758次閱讀
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠
發(fā)表于 11-13 18:14
?1422次閱讀
評論