ASML新一代EUV光刻機(jī)性能提升70%_2025年量產(chǎn)

2016年，ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份，并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡，而ASML這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV***。

日前，韓媒報(bào)道稱ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV***，與現(xiàn)有的***相比，二代EUV***最大的變化就是High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代***的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大***核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。

在這個問題上，ASML去年10月份就宣布與IMEC比利時微電子中心合作研發(fā)新一代EUV***，目標(biāo)是將NA從0.33提升到0.5以上，而從***的分辨率公式——***分辨率=k1*λ/NA中可以看出，NA數(shù)字越大，***分辨率越高，所以提高NA數(shù)值孔徑是下一代EUV***的關(guān)鍵，畢竟現(xiàn)在EUV極紫外光已經(jīng)提升過一次了。

之前ASML公布的新一代EUV***的量產(chǎn)時間是2024年，不過最新報(bào)道稱下一代EUV***是2025年量產(chǎn)，這個時間上臺積電、三星都已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝了，甚至開始進(jìn)軍2nm、1nm節(jié)點(diǎn)了。

在***這個領(lǐng)域，荷蘭的ASML公司是毫無疑問的王者。目前最先進(jìn)的***就是來自這家ASML公司生產(chǎn)的EUV***，每臺售價(jià)超過1億美元，而且供不應(yīng)求。

ASML主要業(yè)務(wù)是***，在***領(lǐng)域處于絕對領(lǐng)先的地位。在45納米以下制程的高端***市場中，占據(jù)80%以上的市場份額，而在EUV***領(lǐng)域，目前處于絕對壟斷地位，市占率為100%，處于獨(dú)家供貨的狀態(tài)。阿斯麥的主要客戶為全球一線的晶圓廠，除了英特爾、三星和臺積電這三大巨頭之外，國內(nèi)的中芯國際也是阿斯麥的客戶。

科普一下，阿斯麥的***按照使用的光源不同，可以分為DUV***和EUV***。DUV是Deep Ultra Violet，即深紫外光；EUV是Extreme Ultra Violet，即極紫外光。DUV***的極限工藝節(jié)點(diǎn)是28nm，要想開發(fā)更先進(jìn)的制程，就只能使用EUV***了。