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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>EVG與DELO合作為晶圓級(jí)光學(xué)元件和納米壓印光刻技術(shù)開(kāi)發(fā)材料并提升工藝能力

EVG與DELO合作為晶圓級(jí)光學(xué)元件和納米壓印光刻技術(shù)開(kāi)發(fā)材料并提升工藝能力

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壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注,是最有機(jī)會(huì)率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時(shí)候,根據(jù)英國(guó)金融時(shí)報(bào)的報(bào)道,負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開(kāi)發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時(shí)稱,采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標(biāo)最快在
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應(yīng)用材料宣布與谷歌合作,開(kāi)發(fā)AR技術(shù)

此外,應(yīng)用材料公司的保羅·邁斯納博士指出,本司將運(yùn)用先進(jìn)光學(xué)技術(shù)及卓越輕量化設(shè)計(jì)理念,助力新一代AR產(chǎn)品的誕生。他還強(qiáng)調(diào),應(yīng)用材料與谷歌的聯(lián)合,將為AR產(chǎn)品打開(kāi)無(wú)限可能。
2024-01-11 09:51:14138

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索雷碳納米聚合物材料技術(shù)在線修復(fù)工藝

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單片機(jī)開(kāi)發(fā)是現(xiàn)代電子技術(shù)中的重要分支,其在各個(gè)領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用。單片機(jī)開(kāi)發(fā)技術(shù)提升不僅可以提高工作效率,還可以提高工作質(zhì)量和創(chuàng)新能力。那么,如何提升單片機(jī)開(kāi)發(fā)技術(shù)呢? 一、加強(qiáng)基礎(chǔ)知識(shí)
2024-01-05 10:14:30

基于超構(gòu)透鏡的粒子圖像測(cè)速技術(shù)

研究嘗試將光學(xué)材料與PIV技術(shù)融合,以實(shí)現(xiàn)PIV系統(tǒng)小型化的目的。超構(gòu)透鏡是一種先進(jìn)的平面光學(xué)元件,由人工制造的納米單元陣列組成。
2024-01-02 13:47:16134

如何選擇索雷碳納米聚合物材料技術(shù)

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2023-12-29 11:02:410

幾何形貌測(cè)量設(shè)備

)及分析反映表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)。廣泛應(yīng)用于襯底制造、制造、及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業(yè)。WD
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光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度,ASML認(rèn)為其物理極限在0.25,k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運(yùn)用光刻技術(shù)的水平。
2023-12-18 10:53:05326

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用于納米材料合成的微流控技術(shù)綜述

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什么是索雷碳納米聚合物材料技術(shù)?他與傳統(tǒng)的修復(fù)工藝比有什么優(yōu)點(diǎn)

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。這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">晶的溫度直接影響到其上形成的薄膜的質(zhì)量,包括其厚度、結(jié)構(gòu)、電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)等。因此,對(duì)表面溫度的精確控制和測(cè)試是保證半導(dǎo)體產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵步驟。本文將
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2023-12-04 09:17:241334

韓國(guó)SKMP開(kāi)發(fā)出高厚度KrF光刻膠助力3D NAND閃存制造

據(jù)報(bào)道,韓國(guó)SK集團(tuán)于2020年斥資400億韓元收購(gòu)當(dāng)?shù)劐\湖石化的電子材料業(yè)務(wù),收購(gòu)后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已開(kāi)發(fā)出一種高厚度KrF光刻膠,并通過(guò)了SK海力士的性能驗(yàn)證,這將有利于SK海力士3D NAND閃存的技術(shù)開(kāi)發(fā)。
2023-11-29 17:01:56433

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《光電科學(xué)》發(fā)表的一篇新文章回顧了光學(xué)捕獲的光學(xué)納米粒子的基本原理和應(yīng)用。光學(xué)納米粒子是光子學(xué)的關(guān)鍵要素之一。
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匯川技術(shù)開(kāi)發(fā)者線下沙龍 | 以技術(shù)為王,為突破而生

者們共聚魅力東莞,圍繞自動(dòng)化編程的痛難點(diǎn)互相交流分享,交流如何開(kāi)發(fā)標(biāo)準(zhǔn)化程序,提升項(xiàng)目開(kāi)發(fā)效率與可靠性。 ? ? 匯川技術(shù)開(kāi)發(fā)者大會(huì)線下沙龍由匯川技術(shù)生態(tài)戰(zhàn)略發(fā)展部發(fā)起,旨在以知識(shí)為橋梁,以經(jīng)驗(yàn)為分享,讓國(guó)內(nèi)工控從
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小型電橋技術(shù)開(kāi)發(fā)概要

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據(jù)DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引進(jìn)佳能納米壓印設(shè)備,正在進(jìn)行測(cè)試與研發(fā),目標(biāo)在2025年左右將該設(shè)備用于3D NAND量產(chǎn)。有業(yè)內(nèi)人士表示:“與EUV相比,納米壓印技術(shù)形成圖案
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納米探針式輪廓儀

中圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)、超高直線度研磨級(jí)摩擦導(dǎo)軌、高性能直流伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、高性能計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)技術(shù),分辨率高達(dá)0.1nm,系統(tǒng)殘差小于3nm
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什么是納米壓印技術(shù)?能否取代***?

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研究人員利用范德華(vdW)納米材料制造納米級(jí)諧振器

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2023-11-08 09:18:51305

幾何形貌測(cè)量及參數(shù)自動(dòng)檢測(cè)機(jī)

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中國(guó)開(kāi)發(fā)新芯片,算力提升3000倍!

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2023-11-03 16:29:08377

如何減少太陽(yáng)能電池入射光在電池器件中的反射

為了制備蜂窩狀紋理的絨面結(jié)構(gòu),研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術(shù)(TUV-Roller-NIL),基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:36253

光學(xué)光刻技術(shù)有哪些分類 光刻技術(shù)的原理

光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過(guò)光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān),而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271

無(wú)圖幾何量測(cè)系統(tǒng)

WD4000無(wú)圖幾何量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量 Wafer 厚度 、表面粗糙度 、三維形貌 、單層膜厚 、多層膜厚 。使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量 Thickness 、TTV 、LTV 、BOW
2023-10-18 09:09:00

日本佳能發(fā)布新型***

來(lái)源:中國(guó)半導(dǎo)體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設(shè)備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創(chuàng)達(dá)午后
2023-10-17 11:07:23230

璞璘科技獲數(shù)千萬(wàn)元天使輪融資,聚焦納米壓印技術(shù)

璞璘科技成立于2017年,致力于納米壓印設(shè)備及材料的生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)。據(jù)璞璘科技官方消息,公司是目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上唯一一家集納米壓印設(shè)備、材料、技術(shù)于一體的納米壓印尖端微納米制造企業(yè)。
2023-10-13 10:03:231622

納米級(jí)測(cè)量?jī)x器:窺探微觀世界的利器

納米科技的迅猛發(fā)展將我們的視野拓展到了微觀世界,而測(cè)量納米級(jí)尺寸的物體和現(xiàn)象則成為了時(shí)下熱門的研究領(lǐng)域。納米級(jí)測(cè)量?jī)x器作為一種重要的工具,扮演著重要的角色。那么,如何才能準(zhǔn)確測(cè)量納米級(jí)物體呢?在
2023-10-11 14:37:46

高壓放大器在納米材料中的應(yīng)用有哪些

傳感器:高壓放大器在納米材料傳感器中的應(yīng)用非常有前景。納米材料常常表現(xiàn)出高靈敏度和特定的電學(xué)、光學(xué)或磁學(xué)特性,可以被用作傳感器探測(cè)不同的物理或化學(xué)參數(shù)。高壓放大器可以放大來(lái)自這些納米材料傳感器的微弱信號(hào),提高傳
2023-10-11 13:54:31155

半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

光刻作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹(shù)脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上,是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491674

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 技術(shù)的發(fā)展應(yīng)用及存在問(wèn)題

器件制造具有以下優(yōu)點(diǎn)[1] (1) 片子平面的總體平面度: CMP 工藝可補(bǔ)償亞微米光刻中步進(jìn)機(jī)大像場(chǎng)的線焦深不足。 (2) 改善金屬臺(tái)階覆蓋及其相關(guān)的可靠性: CMP工藝顯著地提高了芯片測(cè)試中的片成品率。 (3) 使更小的芯片尺寸增加層數(shù)成為可能: CMP技術(shù)允許所形成的器件具有更高的縱橫比。
2023-09-19 07:23:03

ESP32-S3-PICO-1技術(shù)規(guī)格書

(TSMC) 超低功耗的 40 納米工藝。ESP32-S3-PICO-1 SiP 已將振、去耦電容、SPI flash/PSRAM、RF 匹配鏈路等所有外圍器件無(wú)縫集成進(jìn)封裝內(nèi),無(wú)需外圍元器件即可工作
2023-09-18 07:38:02

ESP32-PICO-V3-ZERO技術(shù)規(guī)格書

和藍(lán)牙雙模的單芯片方案,采用臺(tái)積電 (TSMC) 超低功耗的 40 納米工藝。ESP32-PICO-V3-ZERO 模組已將振、flash、濾波電容、RF 匹配鏈路等所有外圍器件無(wú)縫集成進(jìn)封裝內(nèi),不再
2023-09-18 07:07:42

蘇大維格:28nm***光柵尺周期精度需小于2nm

公開(kāi)的資料顯示,蘇大維格他致力于微納關(guān)鍵技術(shù),柔性智能制造、柔性光電子材料的創(chuàng)新應(yīng)用,涉及微納光學(xué)印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示(大尺寸電容觸控屏,超薄導(dǎo)光板)、高端智能微納裝備(納米壓印、微納直寫光刻、3D光場(chǎng)打印等)的開(kāi)發(fā)技術(shù)產(chǎn)業(yè)化
2023-09-11 11:45:593530

詳解LED、激光LD與量子點(diǎn)上的納米材料

不是所有尺寸小于100nm納米材料都叫納米科技納米科技廣義的定義,泛指尺寸小于100nm(納米)的材料,而研究納米材料的科學(xué)技術(shù)泛稱為「納米科技(Nanotechnology)」。納米技術(shù)的研究領(lǐng)域
2023-09-09 08:28:01562

ISM330DHCX規(guī)格書

,已經(jīng)用于微型機(jī)械加速度計(jì)和陀螺儀產(chǎn)品。多種傳感元件采用專門的微型機(jī)械加工工藝制造,而 IC 接口采用 CMOS 技術(shù)開(kāi)發(fā),可以設(shè)計(jì)出專用電路,對(duì)該電路進(jìn)行修調(diào)可以更好地匹配傳感元件的特性。在
2023-09-08 07:33:46

光學(xué)形貌輪廓儀 三維表面輪廓測(cè)量?jī)x

SuperViewW1光學(xué)形貌輪廓儀是利用光學(xué)干涉原理研制開(kāi)發(fā)的超精細(xì)表面輪廓測(cè)量?jī)x器,主要用于對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級(jí)測(cè)量??稍诎雽?dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件
2023-09-04 11:44:34

香蕉派BPI-FSM1819D 伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器

、包膜機(jī)、入殼機(jī)、頂蓋焊、氦檢機(jī)、注液機(jī)、化成柜、補(bǔ)液機(jī)、密封焊機(jī)、分容柜、Pack線等。 半導(dǎo)體行業(yè):清洗設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、修復(fù)檢測(cè)設(shè)備、劃片機(jī)、探針測(cè)試設(shè)備、分選機(jī)、貼片機(jī)、邦定機(jī)等設(shè)備
2023-09-04 09:16:12

光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的基本知識(shí)

在上一節(jié)計(jì)算光學(xué)小講堂中,我們學(xué)習(xí)了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關(guān)知識(shí)。這一節(jié)我們將主要探索光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(Optical Proximity Correction,OPC)技術(shù)是如何用來(lái)提升光刻工藝窗口,為芯片生產(chǎn)保駕護(hù)航的。
2023-09-01 09:48:442297

光伏刻蝕工藝流程 光刻蝕刻加工原理是什么

光刻蝕(Photolithography)是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術(shù),用于制造微細(xì)結(jié)構(gòu)和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學(xué)和物理作用,通過(guò)光罩的設(shè)計(jì)和控制,將光影投射到光敏材料上,形成所需的圖案。
2023-08-24 15:57:422264

半導(dǎo)體制造工藝光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221

什么是光刻工藝?光刻的基本原理

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過(guò)程通過(guò)光刻來(lái)實(shí)現(xiàn), 光刻工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578

浸沒(méi)式光刻,拯救摩爾定律

2000年代初,芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬(ArF)光源光刻技術(shù)過(guò)渡到157納米氟(F 2 )光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:46798

白光干涉儀只能測(cè)同質(zhì)材料嗎?

計(jì)算機(jī)模擬和計(jì)算等手段來(lái)精確測(cè)量參數(shù)。 無(wú)論是研究材料性質(zhì)、表面形貌,還是進(jìn)行質(zhì)量控制和判別等方面,白光干涉儀都具有廣泛的應(yīng)用前景。 SuperViewW1白光干涉儀能夠以優(yōu)于納米級(jí)的分辨率,測(cè)試各類
2023-08-21 13:46:12

光學(xué)3D表面輪廓儀可以測(cè)金屬嗎?

分析等,幫助優(yōu)化生產(chǎn)流程和提高產(chǎn)品質(zhì)量; 2、色彩圖像可以直觀地展示金屬表面的紋理、顏色等特征,為審美評(píng)價(jià)和設(shè)計(jì)提供參考。 SuperViewW1光學(xué)3D表面輪廓儀能夠以優(yōu)于納米級(jí)的分辨率,測(cè)試各類表面
2023-08-21 13:41:46

信息化時(shí)代的近身搏斗拼刺系統(tǒng),快速提升實(shí)戰(zhàn)能力

RXIRY昕銳作為行業(yè)內(nèi)成熟的激光測(cè)量技術(shù)、面向未來(lái)戰(zhàn)場(chǎng)訓(xùn)練的技術(shù)開(kāi)發(fā)及應(yīng)用方案供應(yīng)商,一直以來(lái)專注于為受訓(xùn)人員提供完整的智能化、標(biāo)準(zhǔn)化、精準(zhǔn)化訓(xùn)練體系,對(duì)于提升訓(xùn)練的效能、提升部隊(duì)作戰(zhàn)的能力具有重要的意義。
2023-08-14 15:10:26221

納米壓印技術(shù)助力手性成像超構(gòu)器件

光的偏振是一種有價(jià)值的信息通道,在光學(xué)器件中得到了廣泛的研究。但是,目前在開(kāi)發(fā)易于集成和大規(guī)模生產(chǎn)的低折射率對(duì)比度、大面積手性超構(gòu)器件(meta-device)方面的進(jìn)展非常有限。
2023-08-01 09:31:32723

昇印光電完成超億元融資,開(kāi)發(fā)原理級(jí)創(chuàng)新技術(shù):嵌入式納米印刷

當(dāng)談到該創(chuàng)新工藝時(shí),不可避免地要與傳統(tǒng)的光刻工藝體系進(jìn)行對(duì)比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層光刻膠;接著將光刻膠圖形化曝光并顯影,形成有圖案的光刻覆蓋區(qū)域
2023-07-29 11:01:50835

蘇州新維度微納科技有限公司舉行落成儀式,聚焦納米壓印

據(jù)新維度公司總經(jīng)理羅鋼博士介紹,新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術(shù)系統(tǒng),是世界主要納米壓印技術(shù)路線之一。
2023-07-20 10:58:361179

今日看點(diǎn)丨英飛凌CEO呼吁不應(yīng)過(guò)多限制對(duì)華半導(dǎo)體出口;百度集團(tuán)副總裁吳甜:文心大模型 3.5 能力已經(jīng)超出

絕緣體上硅(FD-SOI)技術(shù)開(kāi)發(fā)10納米低功耗工藝技術(shù)模塊,該技術(shù)未來(lái)將進(jìn)一步向7納米拓展,這也是浸沒(méi)式DUV光刻技術(shù)的極限。該機(jī)構(gòu)透露,F(xiàn)D-SOI新一代工藝將與18、22和28nm的現(xiàn)有設(shè)計(jì)兼容,并且還將包括嵌入式非易失性存儲(chǔ)器(eNVM)工藝。該項(xiàng)目由法國(guó)政府獨(dú)立于《歐盟芯片法案》提供資金。
2023-07-20 10:54:19427

直流至85GHz TWA和Ka頻段4.9W功率放大器使用 基于光學(xué)光刻PHEMT工藝

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《直流至85GHz TWA和Ka頻段4.9W功率放大器使用 基于光學(xué)光刻PHEMT工藝.pdf》資料免費(fèi)下載
2023-07-20 09:17:340

光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀

GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07

級(jí)封裝技術(shù)崛起:傳統(tǒng)封裝面臨的挑戰(zhàn)與機(jī)遇

北京中科同志科技股份有限公司發(fā)布于 2023-07-06 11:10:50

測(cè)溫系統(tǒng),測(cè)溫?zé)犭娕迹?b class="flag-6" style="color: red">晶測(cè)溫裝置

 測(cè)溫系統(tǒng),測(cè)溫?zé)犭娕迹?b class="flag-6" style="color: red">晶測(cè)溫裝置一、引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,制造工藝對(duì)溫度控制的要求越來(lái)越高。熱電偶作為一種常用的溫度測(cè)量設(shè)備,在制造中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。本文
2023-06-30 14:57:40

繞不過(guò)去的測(cè)量

YS YYDS發(fā)布于 2023-06-24 23:45:59

光學(xué)輪廓儀應(yīng)用案例

SuperViewW系列光學(xué)輪廓儀以白光干涉技術(shù)為原理,能夠以優(yōu)于納米級(jí)的分辨率,測(cè)試各類表面并自動(dòng)聚焦測(cè)量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項(xiàng)參數(shù),廣泛應(yīng)用于光學(xué),半導(dǎo)體,材料,精密機(jī)械
2023-06-16 11:34:49

【方案公司簡(jiǎn)介】深圳市其利天下技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司

*附件:深圳市其利天下技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司.pdf
2023-06-13 21:30:42

5G技術(shù)大發(fā)展,PCB板廠工藝技術(shù)新要求,你都了解嗎

損耗,低粗糙度棕化藥水在高速板加工中應(yīng)用越來(lái)越廣泛。 華秋作為目前線上出色的 PCB 快板打樣及中小批量生產(chǎn)商,有10多年成熟的制程經(jīng)驗(yàn)和行業(yè)數(shù)據(jù),我們也向行業(yè)技術(shù)發(fā)展看齊,不斷提升自身工藝水平,高
2023-06-09 14:08:34

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857

光刻技術(shù)再次升級(jí)了

中國(guó)在半導(dǎo)體芯片制造方面仍落后于美國(guó)。早在上世紀(jì)60年代,美國(guó)就開(kāi)始占據(jù)世界半導(dǎo)體市場(chǎng)的絕對(duì)主導(dǎo)地位。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,半導(dǎo)體芯片的制造越來(lái)越精細(xì)化。從最初的65納米工程到現(xiàn)在的7納米技術(shù)開(kāi)發(fā),美國(guó)一直處于領(lǐng)先地位。
2023-06-01 10:12:43583

金剛石光學(xué)真空窗片

金剛石光學(xué)真空窗片高質(zhì)量的金剛石應(yīng)用作為光學(xué)窗口是理想的,主要為紅外,遠(yuǎn)紅外和太赫茲范圍。這些金剛石晶片由高功率微波等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(CVD)生長(zhǎng)的高純多晶金剛石組成。 
2023-05-24 11:26:37

納米壓印,終于走向臺(tái)前?

納米壓印技術(shù),即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形,通過(guò)壓印技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949

測(cè)量材料表面,就可以提升光學(xué)設(shè)計(jì)精確度?

光學(xué)材料能對(duì)光學(xué)產(chǎn)品的性能產(chǎn)生舉足輕重的影響,隨著光學(xué)技術(shù)的發(fā)展,業(yè)界對(duì)材料、表面、元件和系統(tǒng)的質(zhì)量要求越來(lái)越高,甚至提出了新的需求。例如,在汽車行 業(yè)中,光學(xué)元件 需要高透射率和高散射率的材料
2023-05-17 22:10:01249

半導(dǎo)體材料納米光子學(xué)中的作用

半導(dǎo)體材料開(kāi)發(fā)納米光子技術(shù)方面發(fā)揮著重要作用。
2023-05-14 16:58:55590

新品推薦|XD770.300S大負(fù)載壓電納米定位臺(tái)

測(cè)量、顯微操作、納米壓印等。隨著科技不斷進(jìn)步,精密定位技術(shù)對(duì)于定位系統(tǒng)的行程、負(fù)載、精度要求也不斷攀升,哈爾濱芯明天科技有限公司持續(xù)加強(qiáng)技術(shù)實(shí)力和研發(fā)能力,不斷攻克技術(shù)壁壘,提升產(chǎn)品性能,以滿足對(duì)大行程、大
2023-05-11 08:56:02347

半影光學(xué)微納光學(xué)器件及半導(dǎo)體光掩模生產(chǎn)項(xiàng)目簽約江蘇南通

致力于衍射元器件、CGH、光柵、光掩模等產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、服務(wù),該公司生產(chǎn)的光掩模產(chǎn)品是半導(dǎo)體的基石,在技術(shù)上突破了傳統(tǒng)納米壓印制作光學(xué)器件的路徑,簡(jiǎn)化了工藝流程,其也是國(guó)內(nèi)唯一掌握了把半導(dǎo)體技術(shù)用于量產(chǎn)純石英結(jié)構(gòu)光
2023-04-26 16:53:19595

PCB制造基本工藝及目前的制造水平

  一、PCB制造基本工藝及目前的制造水平   PCB設(shè)計(jì)最好不要超越目前廠家批量生產(chǎn)時(shí)所能達(dá)到的技術(shù)水平,否則無(wú)法加工或成本過(guò)高。   1.1層壓多層板工藝   層壓多層板工藝是目前廣泛
2023-04-25 17:00:25

什么是光刻技術(shù)

光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過(guò)程,是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù),CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

開(kāi)放原子開(kāi)源基金會(huì)OpenHarmony開(kāi)發(fā)者大會(huì)2023滿舉辦

正式發(fā)布,該版本系統(tǒng)能力進(jìn)一步完善,全面提升了復(fù)雜帶屏設(shè)備體驗(yàn)。OpenHarmony項(xiàng)目管理委員會(huì)主席任革林從系統(tǒng)流暢、系統(tǒng)性能、應(yīng)用性能、分布式能力開(kāi)發(fā)效率五個(gè)方面對(duì)新版本的技術(shù)特性進(jìn)行了深度解讀。在
2023-04-21 10:12:44

MELF色環(huán)貼片電阻專家 | 第一電阻(Firstohm)

和散熱能力優(yōu)于片式電阻,非常適合作為IGBT電路中的柵級(jí)電阻(Rg),以及汽車電子電路。特性:額定功率范圍:0.4W3W電阻范圍:0.5Ω10MΩ耐高壓能力優(yōu)于片式電阻低溫漂、低誤差值散熱能力佳長(zhǎng)期
2023-04-20 16:34:17

三維光學(xué)輪廓共聚焦材料顯微鏡

以共聚焦技術(shù)為原理的共聚焦顯微鏡,是用于對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級(jí)測(cè)量的檢測(cè)儀器。 中圖儀器VT6000系列三維光學(xué)輪廓共聚焦材料顯微鏡基于共聚焦顯微技術(shù),結(jié)合精密Z向掃描模塊
2023-04-20 10:52:25

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開(kāi)發(fā),必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開(kāi)發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164

HarmonyOS/OpenHarmony公司級(jí)技術(shù)開(kāi)發(fā)團(tuán)隊(duì)硬件基本配置清單

的硬件配置完成,一個(gè)相對(duì)完整的、有模有樣的HarmonyOS/OpenHarmony公司級(jí)技術(shù)開(kāi)發(fā)團(tuán)隊(duì)的的裝備就完成了。
2023-04-10 09:34:15

PCBA檢測(cè)技術(shù)工藝標(biāo)準(zhǔn)流程介紹

狀防靜電材料上對(duì)應(yīng)于PCB通孔插裝器件的位置打上相應(yīng)形狀的孔,將其放在插裝完成的PCB板上便可以簡(jiǎn)易地目測(cè)插裝器件的正確與否?! ∫?、PCBA檢測(cè)工藝流程  PCBA檢測(cè)工藝總流程如圖所示:  注:各種檢測(cè)
2023-04-07 14:41:37

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