蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理
2016-09-05 10:40:27
的積體電路所組成，我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù)，所須制程多達(dá)二百至三百個(gè)步驟。半導(dǎo)體制程的繁雜性是為了確保每一個(gè)元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
北京華林嘉業(yè)科技有限公司(簡稱CGB)，公司致力于為以下行業(yè)提供蝕刻、清洗、顯影、去膜、制絨、減薄等高品質(zhì)設(shè)備：半導(dǎo)體LED：硅片清洗機(jī)；硅片腐蝕機(jī)；硅片清洗腐蝕設(shè)備；基片濕處理設(shè)備；硅片清洗刻蝕
2011-04-13 13:23:10
清洗液搭配DI Water作用于劃片刀切割晶圓硅片工藝，起到防靜電，除硅粉及芯片碎屑，有效減小DI water應(yīng)力，使DI water快速滲透到晶圓背面，減輕背崩和提高testing等作用2.吸嘴高溫
2017-01-10 14:31:04
大家好！ 附件是半導(dǎo)體引線鍵合清洗工藝方案，請參考，謝謝！有問題聯(lián)系我：*** szldqxy@163.com
2010-04-22 12:27:32
`半導(dǎo)體激光在晶圓固化領(lǐng)域的應(yīng)用1. 當(dāng)激光照射工件到上，能量集中，利用熱傳導(dǎo)固化，比用烤箱，烤爐等方式效率高?？鞠涫前丫植凯h(huán)境的空氣（或惰性氣體）加熱，再利用熱空氣傳導(dǎo)給工件來固化膠水。這種方式
2011-12-02 14:03:52
清洗液搭配DI Water作用于劃片刀切割晶圓硅片工藝，起到防靜電，除硅粉及芯片碎屑，有效減小DI water應(yīng)力，使DI water快速滲透到晶圓背面，減輕背崩和提高testing等作用2.吸嘴高溫
2017-01-10 14:34:07
蘇州晶淼半導(dǎo)體公司 是集半導(dǎo)體、LED、太陽能電池、MEMS、硅片硅料、集成電路于一體的非標(biāo)化生產(chǎn)相關(guān)清洗腐蝕設(shè)備的公司 目前與多家合作過 現(xiàn)正在找合作伙伴 ！如果有意者 請聯(lián)系我們。
2016-08-17 16:08:23
本帖最后由 青島晶誠電子設(shè)備 于 2017-12-15 13:48 編輯
青島晶誠電子設(shè)備公司主營產(chǎn)品有：半導(dǎo)體設(shè)備（SemiconductorEquipment）：硅片清洗機(jī)/晶圓清洗
2017-12-15 13:41:58
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2016-08-17 16:31:35
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2016-08-17 16:28:53
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2016-09-05 14:26:32
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2016-08-17 16:23:26
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2016-08-17 16:27:28
進(jìn)行，清洗液必須與元器件、PCB表面、金屬鍍層、鋁鍍層、標(biāo)簽、字跡等材料兼容，特殊部件需考慮能否經(jīng)受清洗?！ CBA在清洗籃中的放置密度和放置傾角是有一定要求的，這兩個(gè)因素對清洗效果會(huì)有直接
2021-02-05 15:27:50
工藝特點(diǎn) 醇類中乙醇和異丙醇是工業(yè)中常用得有機(jī)極性溶劑，甲醇毒性較大，一般僅做添加劑。醇類清洗工藝特點(diǎn)是： 1） 對離子類污染物有很好的溶解能力，清洗松香焊劑效果非常好，對油脂類溶解能力較弱； 2
2018-09-14 16:39:40
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 08:22 編輯
1、免清洗技術(shù) 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種
2012-07-23 20:41:56
申請理由：生產(chǎn)壁紙、墻紙的圓網(wǎng)，鎳網(wǎng)在每次更換油墨時(shí)，都需要經(jīng)過徹底清洗。傳統(tǒng)的清洗方式都采用人工刷洗，但是圓網(wǎng)和刮刀的內(nèi)部和死角人工很難達(dá)到徹底清洗的效果。造成下次使用時(shí)混色，色差大、產(chǎn)品報(bào)廢率高
2015-07-26 09:57:18
半導(dǎo)體晶圓（晶片）的直徑為4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圓盤，在制造過程
中可承載非本征
半導(dǎo)體。它們是正（P）型
半導(dǎo)體或負(fù)（N）型
半導(dǎo)體的臨時(shí)形式。硅晶片是非常常見的
半導(dǎo)體晶片，因?yàn)楣?/div>
2021-07-23 08:11:27
`昆山微小精密電子有限公司是一家專業(yè)的半導(dǎo)體集成電路封裝和光電產(chǎn)業(yè)配件生產(chǎn)商，專注于提供半導(dǎo)體設(shè)備零配件、治具夾具及專項(xiàng)耗材；我公司擁有一批從業(yè)20余年的高級工程師，擁有先進(jìn)的加工技術(shù)與設(shè)備。本公司
2016-05-05 11:45:34
今日分享晶圓制造過程中的工藝及運(yùn)用到的半導(dǎo)體設(shè)備。晶圓制造過程中有幾大重要的步驟：氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴(kuò)散等。這幾個(gè)主要步驟都需要若干種半導(dǎo)體設(shè)備，滿足不同的需要。設(shè)備中應(yīng)用較為廣泛
2018-10-15 15:11:22
?！ ≈醒肟照{(diào)清洗方法第二步：然后浸泡在含有特效空調(diào)機(jī)清洗液或自制清洗液或洗潔精和肥皂粉的混合液中，浸泡時(shí)間10—20分鐘，視過濾網(wǎng)骯臟度而定，浸泡完用瓶刷輕輕刷過濾網(wǎng)，讓每個(gè)濾孔清澈透明，無臟堵痕跡
2010-12-21 16:22:40
使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓去除晶圓表面的有機(jī)污染物等雜質(zhì)，但是同時(shí)在等離子產(chǎn)生過程中電極會(huì)出現(xiàn)金屬離子析出，如果金屬離子附著在晶圓表面也會(huì)對晶圓造成損傷，如果在使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓如何規(guī)避電極產(chǎn)生的金屬離子？
2021-06-08 16:45:05
蘇州晶淼有限公司專業(yè)制作半導(dǎo)體設(shè)備、LED清洗腐蝕設(shè)備、硅片清洗、酸洗設(shè)備等王經(jīng)理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
屬于有機(jī)溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點(diǎn)比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進(jìn)行漂洗，然后進(jìn)行烘干。有些清洗劑中添加5%~20%的水和少量表面活性劑，既降低了可燃性，又可使漂洗更為輕易。半水清洗工藝
2018-09-13 15:50:54
`什么是硅晶圓呢，硅晶圓就是指硅半導(dǎo)體積體電路制作所用的硅晶片。晶圓是制造IC的基本原料。硅晶圓和晶圓有區(qū)別嗎？其實(shí)二者是一個(gè)概念。集成電路（IC）是指在一半導(dǎo)體基板上，利用氧化、蝕刻、擴(kuò)散等方法
2011-12-02 14:30:44
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備，例如硅片濕法清洗、蝕刻，硅芯硅棒濕法化學(xué)處理，液晶基板清洗，LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:23:36
各位同仁好！我最近在芯片清洗上遇到一個(gè)問題，自己沒辦法解決，所以想請教下。一個(gè)剛從氮?dú)獍b袋拿出來的晶圓片經(jīng)過去離子水洗過后，在強(qiáng)光照射下或者顯微鏡下觀察，片子表面出現(xiàn)一些顆粒殘留，無論怎么洗都
2021-10-22 15:31:35
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2016-08-17 16:38:15
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司位于蘇州工業(yè)園區(qū)，致力于半導(dǎo)體集成電路、光電子器件、分立器件、傳感器和光通信、LED等行業(yè)，中高端濕法腐蝕、清洗設(shè)備、CDS集中供液系統(tǒng)、通風(fēng)柜/廚等一站式的解決方案
2020-05-26 10:43:05
的物理力重復(fù)作用于污垢層，污垢一層層被剝開，小氣泡再繼續(xù)向前推進(jìn)，直到污垢層被剝下為止。這就是空化二次效應(yīng)。 (3)超聲清洗中清洗液的超聲振動(dòng)本身對清洗的作用力(4)清洗劑也溶解了污垢，產(chǎn)生
2009-06-18 08:55:02
清洗液搭配DI Water作用于劃片刀切割晶圓硅片工藝，起到防靜電，除硅粉及芯片碎屑，有效減小DI water應(yīng)力，使DI water快速滲透到晶圓背面，減輕背崩和提高testing等作用2.吸嘴高溫
2017-01-10 14:29:27
從液晶顯示器的工作原理以及由來進(jìn)行講述，到怎樣清洗液晶顯示器和如何清洗液晶顯示器。非常的詳細(xì)。
2008-06-10 00:57:01
35 半導(dǎo)體設(shè)備用治具的清洗爐（Vacuum Bake Cleaner）●該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物（GaN、AlN 等）。采用潔凈氣體的干式清洗法，因此不需要濕法后道處
2022-01-14 14:21:00
用于晶圓制造過程中的封裝過程，因?yàn)椴捎脽o機(jī)堿性藥液，因此具有高濃度的化學(xué)物質(zhì)，存在粘度高、速度慢的問題。采用表面活性劑加入清洗堿液中，從而達(dá)到低粘度化，改善 潤濕性，效率提高。
2022-05-26 15:15:26
氧化鋯基氧化鋁 - 半導(dǎo)體晶圓研磨粉 (AZ) 系列半導(dǎo)體晶圓研磨粉是一種細(xì)粉磨料，是作為需要高精度的包裹材料而開發(fā)的。原材料粒度分布尖銳，粒度穩(wěn)定，形狀呈塊狀。再以熔融氧化鋁為原料，鋯英
2022-05-31 14:21:38
的腐蝕性，同時(shí)金屬元素空白值低，無溶出無析出，不會(huì)污染芯片晶圓等。半導(dǎo)體晶圓清洗槽尺寸可按要求定做。同時(shí)可定制配套蓋子，防止污染。二、特點(diǎn)：1、外觀半透明，易觀察槽內(nèi)
2022-09-01 13:25:23
單槽超聲波清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)是由超聲波清洗槽、超聲波發(fā)生器等組成的清洗設(shè)備。此系列清洗機(jī)主要采用水基清洗液作為清洗溶劑。全一公司生產(chǎn)的通用QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)，采用全不
2024-03-13 13:22:48
盛美半導(dǎo)體發(fā)表了十二英寸單片兆聲波清洗設(shè)備的最新工藝，本工藝用于45nm技術(shù)及以下節(jié)點(diǎn)的十二英寸高端硅片清洗
2011-03-22 09:17:54
1310 超聲波清洗的原理是由超聲波發(fā)生器發(fā)出的高頻振蕩信號(hào)，通過換能器轉(zhuǎn)換 成高頻機(jī)械振蕩而傳播到介質(zhì) -- 清洗溶劑中，超聲波在清洗液中疏密相間的向 前輻射，使液體流動(dòng)而產(chǎn)生數(shù)
2011-04-29 10:46:45119 半導(dǎo)體清洗工藝全集 晶圓清洗是半導(dǎo)體制造典型工序中最常應(yīng)用的加工步驟。就硅來說，清洗操作的化學(xué)制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設(shè)備的支持。所
2011-12-15 16:11:44186 雖然清理電視機(jī)的辦法有很多種，但是在清洗的過程中，大家要注意不要倒入太多的清潔劑，否則它容易從下面的縫隙里面溜進(jìn)去，到時(shí)候電視出現(xiàn)什么大問題就不好處理了。如果大家在清洗的時(shí)候，發(fā)現(xiàn)擦拭布上面
2018-07-16 12:14:0046056 目前的電路板清洗，主要是用超聲波進(jìn)行的，但在電路板上有點(diǎn)元器件，如晶振之類的，都有金屬外殼，在清洗過后，很難將元件里面的水分烘干。利用超聲波清洗原理：對助焊劑殘留物清洗，主要是通過溶解
2019-05-28 14:43:1014271 超聲清洗機(jī)可用于溶劑清洗，也可用于水清洗工藝。它是利用超聲波的作用使清洗液體產(chǎn)生孔穴作用、擴(kuò)散作用及振動(dòng)作用，對工件進(jìn)行清洗的設(shè)備。超聲清洗機(jī)的清洗效率比較高，清洗液可以進(jìn)入被清洗工件的最細(xì)小的間隙中，因此可以清洗元件底部、元件之間及細(xì)小間隙中的污染物。
2020-03-24 11:29:202112 6月28日消息，作為先進(jìn)半導(dǎo)體器件的晶圓清洗技術(shù)領(lǐng)域中領(lǐng)先的設(shè)備供應(yīng)商，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（NASDAQ:ACMR）近日發(fā)布了Ultra C VI單晶圓清洗設(shè)備，這是Ultra C清洗系列的最新產(chǎn)品
2020-06-29 14:52:513708 半導(dǎo)體清洗設(shè)備直接影響集成電路的成品率，是貫穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié)，在單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵制程及封裝工藝中均為必要環(huán)節(jié)，約占所有芯片制造工序步驟30％以上，且隨著節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)，清洗工序的數(shù)量和重要性會(huì)繼續(xù)提升，清洗設(shè)備的需求量也將相應(yīng)增加。
2020-09-28 14:53:285659 
振蕩而傳播到介質(zhì)—清洗液中，強(qiáng)力的超聲波在清洗液中以疏密相間的形式向被洗物件輻射。產(chǎn)生“空化”現(xiàn)象，即在清洗液中“氣泡”形式，產(chǎn)生破裂現(xiàn)象。當(dāng)“空化”在達(dá)到被洗物體表面破裂的瞬間，產(chǎn)生遠(yuǎn)超過1000個(gè)大氣壓力的沖擊
2020-12-08 11:48:244908 超聲波清洗機(jī)原理主要是通過換能器，將功率超聲頻源的聲能轉(zhuǎn)換成機(jī)械振動(dòng)，通過清洗槽壁將超聲波輻射到槽子中的清洗液。由于受到超聲波的輻射，使槽內(nèi)液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動(dòng)。破壞污物與清洗件表面的吸附，引起污物層的疲勞破壞而被駁離，氣體型氣泡的振動(dòng)對固體表面進(jìn)行擦洗。
2020-12-17 14:56:145629 在實(shí)際清洗處理中，常采用物理、或化學(xué)反應(yīng)的方法去除;有機(jī)物主要來源于清洗容積、機(jī)械油、真空脂、人體油脂、光刻膠等方面，在實(shí)際清洗環(huán)節(jié)可采取雙氧水或酸性溶液去除 ;氧化物主要是相應(yīng)半導(dǎo)體單晶拋光片
2021-06-20 14:12:151150 書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：下一代半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng) 編號(hào)：JFKJ-21-188 作者：炬豐科技 摘要 本文簡要概述了面臨的挑戰(zhàn)晶圓清洗技術(shù)正面臨著先進(jìn)的silicon技術(shù)向非平面
2023-04-23 11:03:00246 螺旋板換冷凝器 1、根據(jù)螺旋板換冷凝器堵塞情況及垢物性質(zhì)，按比例配制一定濃度的化學(xué)清洗溶液，并不時(shí)調(diào)整各組份的添加量。 2、配制清洗劑。選定專用螺旋板換冷凝器清洗劑按比例匹配清洗液。 3、清洗液入口
2021-11-01 09:32:36874 。確定了反應(yīng)動(dòng)力學(xué)相對于心衰和氧濃度都是一階的。提出了一種涉及氧的Cu0和Cu1+的還原和氧化的動(dòng)力學(xué)方案，這與實(shí)驗(yàn)確定的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)順序和在清洗過程中觀察到的不良銅殘留物在半導(dǎo)體晶片上的沉積相一致。我們研究目的是研究銅薄膜
2022-01-07 13:15:56362 
濕法蝕刻清洗步驟來說，最關(guān)鍵的是在聚合物、殘余物以及金屬和非金屬顆粒去除方面要堅(jiān)固，并且在濕法蝕刻清洗過程中與暴露的襯底材料表現(xiàn)出高度的兼容性。
2022-02-14 15:50:33431 
清洗都是開發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。 介紹 半導(dǎo)體是一種固體物質(zhì)，其導(dǎo)電性介于絕緣體和導(dǎo)體之間。半導(dǎo)體材料的定義性質(zhì)是，它可以摻雜
2022-02-23 17:44:201426 摘要 本文介紹了半導(dǎo)體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實(shí)驗(yàn)研究。比較了兩種晶片制備技術(shù):一種是傳統(tǒng)的濕法技術(shù)，其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中，然后干燥；另一種
2022-03-04 15:03:502588 
我們?nèi)A林科納研究了基于檸檬酸(CA)的清洗液來去除金屬污染物硅片表面。 采用旋涂法對硅片進(jìn)行Fe、Ca、Zn、Na、Al、Cu等標(biāo)準(zhǔn)污染，并在各種添加Ca的清洗液中進(jìn)行清洗。 金屬的濃度采用氣相分
2022-03-07 13:58:161071 
隨著器件尺寸縮小到深亞微米級，半導(dǎo)體制造中有效的濕法清洗工藝對于去除硅晶片表面上的殘留污染物至關(guān)重要。GOI強(qiáng)烈依賴于氧化前的晶片清潔度，不同的污染物對器件可靠性有不同的影響，硅表面上的顆粒導(dǎo)致
2022-03-21 13:39:405472 
使用，為了提高表面的清潔度，進(jìn)行了清洗法的改良，降低使用的超純水、藥品中的污染等方面的努力。今后為了進(jìn)一步提高表面清潔度，有必要比以前更多地減少工藝中的污染，但這并不是把污染金屬集中起來處理，而是考慮到每個(gè)元素在液體中的行為不同，在本文中，介紹了關(guān)于Si晶圓表面金屬在清洗液中的行為的最近的研究例子。
2022-03-21 13:40:12469 
VLSI制造過程中，晶圓清洗球定義的重要性日益突出。這是當(dāng)晶片表面存在的金屬、粒子等污染物對設(shè)備的性能和產(chǎn)量(yield)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響時(shí)的門。在典型的半導(dǎo)體制造工藝中，清潔工藝在工藝前后反復(fù)進(jìn)行
2022-03-22 14:13:163579 
使用，為了提高表面的清潔度，進(jìn)行了清洗法的改良，降低使用的超純水、藥品中的污染等方面的努力。今后為了進(jìn)一步提高表面清潔度，有必要比以前更多地減少工藝中的污染，但這并不是把污染金屬集中起來處理，而是考慮到每個(gè)元素在液體中的行為不同，在本文中，介紹了關(guān)于Si晶圓表面金屬在清洗液中的行為的最近的研究例子。
2022-03-28 15:08:53990 
隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，多層處理變得越來越復(fù)雜，清洗溶液和蝕刻化學(xué)物質(zhì)在提高收率和減少缺陷方面的作用變得越來越重要。本文證明了具有銅和鎢相容性的成功配方，并具有層間介電(ILD)清洗和選擇性鈦刻蝕的性能。
2022-04-06 16:33:54808 
本發(fā)明公開了一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法,所公開的本發(fā)明的特點(diǎn)是:具備半導(dǎo)體晶片和含有預(yù)定清潔液的清潔組、對齊上述半導(dǎo)體晶片的平坦區(qū)域，使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導(dǎo)體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 在半導(dǎo)體制造工序的硅晶圓的清洗中，RCA清洗法被很多企業(yè)使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方法，其中清洗溶液的溫度控制對于穩(wěn)定的清洗性能很重要，但它涉及困難，許多清洗溶液顯示非線性和時(shí)變的放熱
2022-04-15 14:55:27727 
酸和堿與過氧化氫水( H2O2水)的清洗液。目前市場上的工業(yè)H2O2水大部分采用蒽衍生物的自動(dòng)氧化法生產(chǎn)。該制法是將蒽醌溶解于疏水性芳香族有機(jī)物中作為工作液使用的方法，合成的H2O2水中殘留有少量疏水性有機(jī)物。另外，由于制造設(shè)備由不銹鋼和鋁等金屬材料構(gòu)成，因此來源于其的金屬雜質(zhì)也同樣存在于H2O2水中。
2022-04-19 11:22:26677 
金屬溶解在pH為0-2的酸性溶液中，如SC-2清洗液，并作為離子穩(wěn)定存在，因此晶片上的金屬雜質(zhì)也被溶解和去除。
2022-04-21 12:26:571552 
①超聲波清洗槽
裝載清洗液的超聲波清洗槽，操作時(shí)放置需要清洗污跡工件的地方，加上清洗液能夠更好更快達(dá)到去污效果。
②超聲波發(fā)生器
超聲波發(fā)生器是超聲波電箱，市電AC（190-240V，50
2022-06-22 20:08:135117 ，在一個(gè)實(shí)施例中，清潔溶液還包含一種表面活性劑，清洗溶液還包括溶解氣體，含有氫氧化銨、過氧化氫、螯合劑和/或表面活性劑和/或溶解氫的相同清洗溶液也可用于多個(gè)晶片模式，用于某些應(yīng)用。一種包括氧化劑和CO氣體的去離子水沖洗溶液，所有
2022-06-30 17:22:112101 
機(jī)工作時(shí)，不要將手指浸入清洗液中。 5、嚴(yán)禁空載狀態(tài)下開機(jī)，開機(jī)前必須按使用說明的液位將清洗液倒入清洗槽內(nèi)。 6、被清洗物不得和槽底接觸，建議將工件放入籃筐中清洗。 7、清洗液不得呈強(qiáng)酸或強(qiáng)堿性，在沒有可靠的安全措施條件下，
2022-07-25 14:02:331432 ，為什么使用醫(yī)用超聲波清洗機(jī)來清洗醫(yī)療器具？ 1、清洗集成一體化 使用醫(yī)用超聲波清洗機(jī)時(shí)需要人為因素放進(jìn)醫(yī)療器具及其清洗液，但在清洗機(jī)打開以后就可以自動(dòng)化與集成一體化地進(jìn)行清洗了，清理、浸洗及其烘干處理全是一步步持續(xù)所進(jìn)行
2022-09-02 20:02:00315 對哪些工件進(jìn)行有效清洗呢？ 1、半導(dǎo)體類的工件 超聲波清洗設(shè)備可以清洗的半導(dǎo)體類工件有集成電路、功率管、硅片、鎵砷化
2022-09-02 20:03:121096 
超聲波清洗機(jī)工作原理 超聲波清洗機(jī) 是由 超聲波發(fā)生器 發(fā)出的高頻振蕩信號(hào)，通過換能器轉(zhuǎn)化成高頻機(jī)械設(shè)備震蕩而散播到介質(zhì)，清洗溶劑中超聲波在清洗液中疏密有致的往前擴(kuò)散，使液體流動(dòng)而出現(xiàn)不計(jì)其數(shù)的細(xì)微
2022-09-05 18:07:404514 物品或裝飾繁雜的物件，清洗效果還是很有效的。在這樣的情況下，還要適度的清洗液，以提升清洗實(shí)際效果并增加清洗設(shè)備的使用期。 選擇超聲波清洗機(jī)的清洗液時(shí)，先要保證使用正確類型的水。要提升超聲波清洗機(jī)的清洗性能，第一
2022-10-08 14:46:48583 半導(dǎo)體清洗設(shè)備通過不斷將各種污染雜質(zhì)控制在工藝要求范圍內(nèi)，提高芯片的良率和性能，是芯片良率的重要保障。隨著芯片技術(shù)的不斷提升，清洗設(shè)備的要求也越來越高。根據(jù)結(jié)構(gòu)清洗設(shè)備可分為單片清洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、批式旋轉(zhuǎn)噴淋清洗設(shè)備、洗刷器等。
2022-10-24 17:15:284284 
的清潔劑。在選擇工業(yè)超聲波清洗機(jī)時(shí)要考慮的重要因素包括頻率、容器尺寸、功率、清洗液和操作溫度。 ? 1、選擇最佳超聲波清洗頻率 超聲頻率決定了在清洗液中產(chǎn)生清洗作用的空化氣泡的能量水平。低頻率導(dǎo)致更大，更有活力的
2022-10-31 17:51:10631 ?超聲波清洗機(jī)是利用高于20KHZ的超音頻信號(hào)，通過換能器轉(zhuǎn)換成機(jī)械振蕩而傳入清洗液中，超聲波在清洗液中疏密相間地向前輻射，使液體流動(dòng)并產(chǎn)生數(shù)以萬計(jì)的微小氣泡，這些氣泡是在超聲波縱向傳播成的負(fù)壓區(qū)形成生長
2023-01-15 11:54:480 的清洗。它主要用于大量PCBA清洗，選用安全自動(dòng)化的清洗設(shè)備置于電裝生產(chǎn)線，通過不同的內(nèi)腔在線進(jìn)行化學(xué)清洗（或是水基清洗）、水基漂洗、烘干處理全都生產(chǎn)工藝流程。清洗環(huán)節(jié)中，PCBA根據(jù)清洗設(shè)備的輸送帶在不同溶劑清洗腔體內(nèi)，清洗液一定要和電子元
2023-02-14 14:58:011637 
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場上有各種類型的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。一些流行的設(shè)備類型包括
2023-08-22 15:08:001225 
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆?；蛭廴疚锏倪^程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。
2023-04-03 09:47:511643 
利用硅藻土和稀硫酸溶液對電路板組裝件的廢清洗液進(jìn)行處理，并對處理前后的廢清洗液進(jìn)行 FTIR、UV以及水質(zhì)分析等測試。由類似的FTIR、UV光譜分析可知處理前后的廢清洗液中均含部分清洗液的成分。分析
2023-04-12 11:14:55232 ，嚴(yán)重影響PCBA的性能和品質(zhì)。 PCBA助焊劑 清洗前 PCBA助焊劑 ? 清洗后 ? ? 工業(yè)PCBA清洗設(shè)備的主要作用是全自動(dòng)清洗模式，設(shè)備在運(yùn)行中，工件在清洗籃內(nèi)隨清洗籃前后移動(dòng)，同時(shí)噴淋系統(tǒng)高壓噴射加溫的清洗液等方式對PCBA的表面進(jìn)行深度清洗，可以使PCBA全方位得
2023-05-22 11:45:16438 
全自動(dòng)水清洗機(jī)工作方式:配比后的清洗液通過清洗腔內(nèi)噴嘴以一定的壓力和流量噴射在待洗的PCBA上,以軟化和沖刷PCBA表面的松香等助焊劑殘留液,然后通過去離子水對PCBA漂洗,最后對PCBA沖洗
2023-05-25 11:48:341460 
早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來清洗除塵，優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉，缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步，人們對半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平
2023-08-22 10:54:45681 今天我們來聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用，說起半導(dǎo)體清洗，是指對晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗，用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測試每個(gè)步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì)，避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率，為企業(yè)實(shí)現(xiàn)降本增效的目的。
2023-09-04 18:47:39787 
避免因加熱導(dǎo)致的物體變形、顏色變化等問題。同時(shí)，超聲波清洗機(jī)振板的清洗效果不受溫度影響，因此可以在低溫下進(jìn)行清洗，保證物體的質(zhì)量。 工業(yè)清洗用超聲波振動(dòng)棒的清洗效率高，可以減少清洗時(shí)間和清洗液的使用量，從而節(jié)約能
2023-09-11 14:45:57261 
隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過程中需要經(jīng)過多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 半導(dǎo)體清洗設(shè)備國產(chǎn)替代正當(dāng)時(shí)
2023-01-13 09:06:4913 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，清洗機(jī)與PFA閥門扮演著至關(guān)重要的角色。它們是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，對于提高產(chǎn)品質(zhì)量、確保生產(chǎn)效率具有舉足輕重的作用。 半導(dǎo)體清洗機(jī)是一種專門用于清洗半導(dǎo)體的設(shè)備。在半導(dǎo)體
2023-12-26 13:51:35255 
超聲波清洗效率取決于許多因素，如清洗液、清洗溫度、駐波影響、超聲波功率和超聲波頻率影響，一般超聲波清洗機(jī)清洗時(shí)間建議3-5Min，特殊零部件清洗5-10min，如果不確定清洗時(shí)間，可由從較短的清洗
2023-12-28 02:39:08521 
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，目前半導(dǎo)體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線
2024-01-12 23:14:23769 
發(fā)生器、換能器、清洗槽、控制系統(tǒng)和電源等組成。 超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻電信號(hào)，然后通過連接線傳遞到換能器上。換能器將電信號(hào)轉(zhuǎn)換成機(jī)械振動(dòng)，產(chǎn)生超聲波，然后通過耦合裝置輸入到清洗槽內(nèi)的清洗液中。超聲波的振動(dòng)使清洗液
2024-01-22 11:00:58284 超聲波清洗四大件：清洗機(jī)、發(fā)生器、換能器、清洗槽在超聲波清洗過程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。它們共同協(xié)作，將電能轉(zhuǎn)換為超聲波能，并通過清洗液的作用，實(shí)現(xiàn)對物品的高效、環(huán)保清洗。
2024-03-06 10:21:2874 
單槽超聲波清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)是由超聲波清洗槽、超聲波發(fā)生器等組成的清洗設(shè)備。此系列清洗機(jī)主要采用水基清洗液作為清洗溶劑。全一公司生產(chǎn)的通用QYS系列單槽超聲波清洗機(jī)，采用全不
2024-03-13 13:16:1071 
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