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標(biāo)簽 > 離子源
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上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng) 光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛. 光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學(xué)鍍...
KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形...
美國(guó) KRi 大尺寸射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝
上海伯東美國(guó) KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 解決了在樹脂...
KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過...
KRi 射頻離子源應(yīng)用于車載鏡片鍍膜工藝,實(shí)現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透
在車載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié), 鍍膜機(jī)通過加裝上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源對(duì)于加強(qiáng)膜層致密性, 實(shí)現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透, 明顯提升工藝效果.
美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用
上海伯東美國(guó) KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工...
KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用
上海伯東代理美國(guó) KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清...
離子源分布式控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)立即下載
類別:網(wǎng)絡(luò)協(xié)議論文 2009-06-16 標(biāo)簽:離子源 626 0
KRi 射頻離子源應(yīng)用于國(guó)產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD
上海伯東客戶某高校使用國(guó)產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國(guó)產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個(gè)小時(shí)就會(huì)燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, ...
上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)
上海伯東美國(guó)?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn)...
美國(guó)KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力5G技術(shù)發(fā)展
光通信的信息載體是光波,?為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號(hào)的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國(guó) KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助...
美國(guó) KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實(shí)現(xiàn)小規(guī)模試驗(yàn)中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, ...
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